公开(公告)号：CN1971854A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200610149397.6

申请日：2006-11-21

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 高桥弘明

IPC: H01L21/3105 ,  H01L21/302 ,  H01L21/00 ,  G03F7/42

Abstract: 本发明提供一种基板处理方法及其装置，该方法是对基板进行处理的基板处理方法，上述方法包括如下工序：加热工序，在氧气环境中对在表面形成有被离子注入过的膜的基板进行加热；除去工序，对上述加热工序之后的基板供给包含硫酸及过氧化氢溶液的处理液、或包含臭氧的处理液，而除去形成在基板的表面上的膜。

公开(公告)号：CN1963992A

公开(公告)日：2007-05-16

申请号：CN200610143695.4

申请日：2006-11-08

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 相原友明

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67028

Abstract: 本发明提供一种通过处理液对基板进行处理的基板处理装置，上述装置包括：处理槽，其存积处理液，收容基板，并通过处理液对基板进行处理；腔室，其包围上述处理槽的周围；升降支承机构，其支承基板，并经上述处理槽内部的处理位置、和上述腔室内的上述处理槽的上方的待机位置而进行升降；排出部，其排出上述处理槽的处理液；开闭机构，其开闭上述处理槽的上部；下方喷嘴，其被设置于上述开闭机构，在上述开闭机构被关闭且使处理液从上述排出部排出的状态下，向上述处理槽内部供给含有有机溶剂的惰性气体。

公开(公告)号：CN1933700A

公开(公告)日：2007-03-21

申请号：CN200610107631.9

申请日：2006-07-28

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 八坂智 ,  冈山敏之

IPC: H05K3/06 ,  H05K3/02

Abstract: 本发明涉及一种布线形成系统及其方法，光学外观检查装置(13)，对布线图案形成后的印刷基板全部区域，采用线宽测定算法测定布线图案的线宽。而且，光学外观检查装置(13)，以区域(22)为单位制成线宽直方图。然后，光学外观检查装置(13)，在同一区域(22)中将制成的线宽直方图与掩模图像数据的线宽直方图进行比较，制成线宽分布。信息管理系统(14)基于采用规定数的印刷基板而制成的线宽分布的平均来制成校正数据。曝光装置(12)基于上述校正数据，对设计数据或曝光用的图像数据上的布线图案的线宽，以区域(22)为单位进行变粗、变细的校正。

公开(公告)号：CN1915537A

公开(公告)日：2007-02-21

申请号：CN200610107524.6

申请日：2006-07-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 西冈贤太郎 ,  高木善则 ,  池田文彦

IPC: B05C5/02 ,  B05B13/02

Abstract: 防止异物引起问题的同时，防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。在狭缝涂敷机中，在狭缝喷嘴的行进方向侧，设置用于排除异物的保护构件。在开始涂敷处理时，狭缝喷嘴从基板的正上方外部水平移动到应开始涂敷处理的开始位置。此时，在喷出口的位置从基板的正上方外部到基板的端部时，使喷出口高度为与涂敷处理相同的基准高度(步骤S11～S13)。另一方面，在喷出口的位置从基板的端部到开始位置时，使喷出口高度高于基准高度(步骤S14～S16)。因此，能够防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。另外，由于保护构件的下端由两个板构成，所以即使是在上升中前方的板接触不到的异物，后方的板也会接触到。

公开(公告)号：CN1288050C

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200410007075.9

申请日：2004-02-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小原茂 ,  冈田尚久 ,  长田直之 ,  南茂树

IPC: B65G13/02 ,  B65G47/22

Abstract: 一种基板输送装置，在气缸的突出量增加时，如果磁圆板旋转，则利用作用于磁圆板之间的磁力，使磁铁与输送轴一起旋转，以比X-Y平面倾斜规定角度的状态支持输送轴。通过旋转输送轴，而由输送轴的小型输送辊向X方向输送基板。在气缸的突出量减小时，设在输送轴一端的磁圆板向从倾斜壁远离的方向移动，不在磁电极圆板之间作用磁力。此外，从倾斜规定角度的状态，向与X-Y平面平行的状态转换输送轴。此时，输送轴的小型输送辊的外周面的顶部位于大型输送辊的外周面的顶部的下方。由此，由大型输送辊支持基板。

公开(公告)号：CN1858897A

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200610079970.0

申请日：2006-04-29

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 伊藤祯朗

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/324 ,  H01L21/26 ,  H05B3/00

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/68721

Abstract: 从闪光灯发出的闪光通过由设于夹紧环中的开口限定的光学窗口引导至半导体晶片上。由于夹紧环的开口为椭圆形结构，因此由夹紧环限定的光学窗口也为椭圆形平面结构。夹紧环安装至腔体，并使与半导体晶片的外周部分的一些部分面对的光学窗口的相对边缘部是位于椭圆形结构的短轴上的光学窗口的相对边缘部，所述半导体晶片的外周部分的所述一些部分在假设所述光学窗口是圆形平面结构时，如果从所述光源发出闪光穿过所述光学窗口，则所述这些部分具有相对低的温度。穿过该光学窗口的闪光提高了半导体晶片外周部分的具有相对低温的一些部分的温度，从而改善了闪光加热期间半导体晶片的温度分布的晶片内部均匀性。

公开(公告)号：CN1858654A

公开(公告)日：2006-11-08

申请号：CN200610077182.8

申请日：2006-04-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 滨田哲也

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67745

Abstract: 在从分度器模块向外传递待处理的衬底之前进行模式选择。当选择“处理顺序优先模式”时，在向外传递衬底之前确定衬底的传送路径。通过确定衬底将被传送到用于进行每个并行处理的多个并行处理部中的哪一个，来进行传送路径的确定。然后，基于所确定的传送路径，调整为该传送路径中包含的每个衬底处理部所设定的处理条件。此后，从分度器模块向外传递未处理的衬底，并沿着所确定的传送路径来传送和处理该衬底。另一方面，当选择“产量优先模式”时，衬底被传送到所述多个并行处理部中空闲的一个。

公开(公告)号：CN1834791A

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN200510129603.2

申请日：2005-12-16

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 柿村崇 ,  北村嘉孝

IPC: G03F7/38 ,  G03F7/26 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够防止光致抗蚀剂等薄膜的成分附着在排气泵中的减压干燥装置。该减压干燥装置具备覆盖基板(W)的周围的腔室(10)、排气泵(50)、第一开闭阀(41)、第二开闭阀(42)、第三开闭阀(43)。通过打开第一开闭阀(41)对腔室内(10)进行排气，对形成在基板(W)的主面上的光致抗蚀剂进行减压干燥后，关闭第一开闭阀(41)而停止前述腔室(10)的排气。接着，通过打开第二开闭阀(42)向排气泵(50)供给惰性气体的同时，打开第三开闭阀(43)而向前述腔室(10)内供给惰性气体。

公开(公告)号：CN1828826A

公开(公告)日：2006-09-06

申请号：CN200610008690.0

申请日：2006-02-21

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 上代和男

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明的基板处理装置以及方法进行以下处理：即使在前工序中附有从基板难以除去的处理液的情况下，也能够防止相对于基板而冲洗液逆流到前工序的处理槽中，同时能够减低由残存在基板上的前工序的处理液带来的不良影响。因此，在水洗处理部的处理室中，对搬送中的基板(W)的表面，从入口喷嘴(20)向基板搬送方向下游侧供给冲洗液，通过该水洗处理部也能够防止冲洗液向前工序的处理槽的逆流，同时进行将在前工序中供给的处理液置换为冲洗液的处理。对供给了该冲洗液之后的(W)的表面，从气液流体喷嘴(21)，在与基板搬送方向交叉的基板宽度的整个区域上，供给由气体与液体构成的气液流体，从而除去仍残存在基板表面的前工序的处理液。

公开(公告)号：CN1814357A

公开(公告)日：2006-08-09

申请号：CN200510128972.X

申请日：2005-12-02

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 山本悟史

IPC: B08B1/02 ,  G02F1/1333 ,  H01L21/48 ,  H05K3/00 ,  H05K3/26

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，其能够在确保充分的清洗功能的同时正确地搬运基板，而且基板清洗机构的制作容易。在搬运辊所支承的基板(B)的主面上，使清洗刷部(221、222)的毛束(50)的前端(50H)成为从该毛束(50)延伸的方向沿基板(B)的主面而向一个方向弯曲的状态，而使该前端(50H)与基板(B)的主面滑动接触。在该姿势下，前端(50H)与基板(B)的表面滑动接触的同时，该清洗刷部(221)沿与基板搬运方向垂直并与基板表面平行的方向往复移动，从而清洗搬运中的基板表面。