细缝喷嘴和基板处理装置

    公开(公告)号:CN100400180C

    公开(公告)日:2008-07-09

    申请号:CN200510055171.5

    申请日:2005-03-18

    Abstract: 一种细缝喷嘴,不受到各个细缝喷嘴的特性的影响,可使喷出口的开口间距均匀。在构成细缝喷嘴的第1主体部、第2主体部和垫板上设置有固定用螺纹孔组(第2螺纹孔组)、打开调整用螺纹孔组(调整用螺纹孔组)和关闭调整用螺纹孔组(调整用螺纹孔组)。将固定用螺栓拧入固定用螺纹孔组中,组装这些部件,然后,测定喷出口的开口间距。对应于该测定结果,在喷出口的开口间距窄于期望的值的位置,将调整螺钉拧入打开调整用螺纹孔组中,在大于期望的值的位置,将调整螺钉拧入关闭调整用螺纹孔组中。由此进行调整而使得喷出口的开口间距在Y轴方向上均匀化。

    细缝喷嘴和基板处理装置

    公开(公告)号:CN1669665A

    公开(公告)日:2005-09-21

    申请号:CN200510055171.5

    申请日:2005-03-18

    Abstract: 一种细缝喷嘴,不受到各个细缝喷嘴的特性的影响,可使喷出口的开口间距均匀。在构成细缝喷嘴的第1主体部、第2主体部和垫板上设置有固定用螺纹孔组(第2螺纹孔组)、打开调整用螺纹孔组(调整用螺纹孔组)和关闭调整用螺纹孔组(调整用螺纹孔组)。将固定用螺栓拧入固定用螺纹孔组中,组装这些部件,然后,测定喷出口的开口间距。对应于该测定结果,在喷出口的开口间距窄于期望的值的位置,将调整螺钉拧入打开调整用螺纹孔组中,在大于期望的值的位置,将调整螺钉拧入关闭调整用螺纹孔组中。由此进行调整而使得喷出口的开口间距在Y轴方向上均匀化。

    涂敷处理装置
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1915537B

    公开(公告)日:2011-06-01

    申请号:CN200610107524.6

    申请日:2006-07-20

    Abstract: 防止异物引起问题的同时,防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。在狭缝涂敷机中,在狭缝喷嘴的行进方向侧,设置用于排除异物的保护构件。在开始涂敷处理时,狭缝喷嘴从基板的正上方外部水平移动到应开始涂敷处理的开始位置。此时,在喷出口的位置从基板的正上方外部到基板的端部时,使喷出口高度为与涂敷处理相同的基准高度(步骤S11~S13)。另一方面,在喷出口的位置从基板的端部到开始位置时,使喷出口高度高于基准高度(步骤S14~S16)。因此,能够防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。另外,由于保护构件的下端由两个板构成,所以即使是在上升中前方的板接触不到的异物,后方的板也会接触到。

    涂敷处理装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1915537A

    公开(公告)日:2007-02-21

    申请号:CN200610107524.6

    申请日:2006-07-20

    Abstract: 防止异物引起问题的同时,防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。在狭缝涂敷机中,在狭缝喷嘴的行进方向侧,设置用于排除异物的保护构件。在开始涂敷处理时,狭缝喷嘴从基板的正上方外部水平移动到应开始涂敷处理的开始位置。此时,在喷出口的位置从基板的正上方外部到基板的端部时,使喷出口高度为与涂敷处理相同的基准高度(步骤S11~S13)。另一方面,在喷出口的位置从基板的端部到开始位置时,使喷出口高度高于基准高度(步骤S14~S16)。因此,能够防止处理液附着到基板的涂敷对象外的区域。另外,由于保护构件的下端由两个板构成,所以即使是在上升中前方的板接触不到的异物,后方的板也会接触到。

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