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公开(公告)号：CN102326234B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN201080008906.8
申请日：2010-02-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/304 , G02F1/13 , G02F1/1333 , G03F7/30
CPC classification number: H01L21/67051 , G02F1/1303 , G03F7/30 , H01L21/67017
Abstract: 本发明具备：处理部(2)，被供给要通过处理液处理的基板；储液箱(1)，存储有处理液；供液管(3)以及回收管(28)，将储液箱的处理液供给到处理部而处理基板之后返回储液箱；以及除气装置(12)，设于供液管，将处理液中包含的气体除去。
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公开(公告)号：CN102001834B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN201010270671.1
申请日：2010-09-01
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: C03C15/00
Abstract: 本发明提供一种在将基板的板面通过由喷嘴体喷射供给的处理液处理时，能够将整个面均匀地处理的基板的处理装置。具备：将基板沿规定方向输送的输送辊(5)、对基板的与输送方向交叉的宽度方向两端部以不会产生间隙的紧密的状态均匀地喷射供给处理液的第1喷嘴体(23)、以及对基板的除了由第1喷嘴体供给了处理液的宽度方向两端部以外的部分，以相对于基板的输送方向及与输送方向交叉的方向产生间隙的稀松的状态喷射供给处理液的第2喷嘴体(24)。
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公开(公告)号：CN102209605A
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN200980145041.7
申请日：2009-09-17
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
CPC classification number: B23K26/02 , B23K26/18 , B23K26/244 , C03B23/245 , C03C27/06 , H01J9/26
Abstract: 本发明的接合结构体具备第1接合构件和第2接合构件，其特征在于，所述第1接合构件及所述第2接合构件中的至少任一个为，在所述第1接合构件与所述第2接合构件之间的接合界面上具有槽部，在所述槽部的空间被减压、所述第1接合构件与所述第2接合构件贴紧的状态下，所述第1接合构件与所述第2接合构件接合而形成。在将接合构件彼此或者接合构件与吸光材料接合时能够容易使其贴紧。
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公开(公告)号：CN1676231B
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN200510068565.4
申请日：2005-03-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供了一种基板的处理装置，可以使腔内的气体相对该腔的宽度方向和长度方向均匀地排出。该装置具有装置主体(1)、传送辊(17)、主排气通道(6)以及多个分支排气通道(8)，其中装置主体(1)形成用处理液进行处理的腔(5a，5c)，传送辊(17)沿着上述腔内的预定方向传送基板，主排气通道(6)位于基板的上方，沿基板的传送方向设置在与基板传送方向相交叉的上述腔的宽度方向的中央部分上，分支排气通道(8)的一端连通上述主排气通道，另一端位于腔宽度方向的端部以形成抽吸腔内气体的抽气口(9)，并且分支排气通道(8)以主排气通道为中心在上述腔的宽度方向上对称地设置。
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公开(公告)号：CN1778478B
公开(公告)日：2010-11-03
申请号：CN200510114268.9
申请日：2005-10-21
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种可以不会发生轴心错位地沿处理槽的宽度方向来设置可旋转支撑刷子的两端的一对主轴的处理装置，其是通过设置在处理槽内的清洗装置(11)来处理在处理槽内搬送的基板的处理装置，其中，清洗装置包括：具有在同一垂直面上在水平方向上以规定间隔隔开的第一安装部(17)和第二安装部(18)的机架(12)、使轴线平行而在上下方向上配置的第一上部刷子(32)及第一下部刷子(33)、可旋转地支撑安装在第一安装部和第二安装部上的第一上部刷子的轴向两端部的一对第一主轴(27)、以及可旋转地支撑安装在第一安装部和第二安装部上的第二下部刷子的轴向两端部的一对第二主轴(28)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1814523B
公开(公告)日：2010-05-12
申请号：CN200510121666.3
申请日：2005-12-22
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使加长弯曲量也小的、用于传送基板的传送用轴。本发明的传送用轴，用于传送利用处理液进行处理的基板，该传送用轴包括：轴部(12)，具有由碳纤维形成的芯部件(13)和由对上述处理液有抗腐蚀性的合成树脂形成、包覆芯部件的外周面的外皮部件(14)；以及支承辊(6)，以预定间隔设置在该轴部的轴方向上，支承上述基板。
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公开(公告)号：CN101578688A
公开(公告)日：2009-11-11
申请号：CN200880001955.1
申请日：2008-01-11
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/306 , H01L21/027
Abstract: 一种基板的处理装置，通过处理液来处理基板，其特征在于，具备：纳米气泡产生机构，用于产生纳米气泡，并使该纳米气泡与上述处理液混合；处理液供给机构，向上述基板的板面供给含有该纳米气泡产生机构所产生的纳米气泡的上述处理液；以及加压机构，对通过该处理液供给机构向上述基板的板面供给的处理液中所含有的纳米气泡进行加压，并在上述基板的板面压破所述纳米气泡。
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公开(公告)号：CN100514543C
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：CN200510105127.0
申请日：2005-09-22
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种处理装置，能够提高其刚性并且不使形成处理槽的板材变厚。该用于处理基板的处理装置包括：处理槽(1)，通过板材而形成为上面开口的箱体状，在一个侧面上形成有所述基板的搬入口(2)，而在另一个侧面上形成有搬出口(3)；增强框架(7)，沿着所述处理槽的上部的外周表面而一体设置，用于加固形成该处理槽的板材；和盖部件(16)，被安装在该增强框架上，对所述处理槽的上面开口进行开闭。
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公开(公告)号：CN101114573A
公开(公告)日：2008-01-30
申请号：CN200710136755.4
申请日：2007-07-27
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/30 , H01L21/306 , H01L21/67 , G02F1/1333 , B08B3/02
Abstract: 本发明提供一种基板的处理装置，防止以规定的角度倾斜搬运的基板从支持背面的支持辊上浮起。一种基板的处理装置，将基板以规定的角度倾斜搬运并用处理液处理，具备：腔(3)；支持辊(14)，设在腔内，并支持基板的倾斜方向下侧的背面；驱动辊(17)，将由支持辊支持背面的基板的下端，利用外周面支持并旋转驱动，由此在规定方向上搬运基板；喷嘴体(62)，向基板的倾斜方向上侧的前面喷射处理液；及流体回流防止部件(65)，设置在与被搬运的基板的背面对置的腔的后壁内表面，防止从喷嘴体喷射后冲撞腔的壁内表面而反射的处理液与基板的背面接触。
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公开(公告)号：CN1814523A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200510121666.3
申请日：2005-12-22
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Abstract: 本发明提供一种即使加长弯曲量也小的、用于传送基板的传送用轴。本发明的传送用轴，用于传送利用处理液进行处理的基板，该传送用轴包括：轴部(12)，具有由碳纤维形成的芯部件(13)和由对上述处理液有抗腐蚀性的合成树脂形成、包覆芯部件的外周面的外皮部件(14)；以及支承辊(6)，以预定间隔设置在该轴部的轴方向上，支承上述基板。
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