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公开(公告)号：CN111087334A
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：CN201911010673.4
申请日：2019-10-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
IPC: C07C381/12 , C07D207/28 , C07D209/58 , C07D333/46 , C07D207/273 , G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明为新的鎓盐、化学放大抗蚀剂组合物和图案化方法。提供新的鎓盐和包含其作为PAG的抗蚀剂组合物。当通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行处理时，抗蚀剂组合物的酸扩散降低，曝光裕度、MEF和LWR改善。
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公开(公告)号：CN109485590A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201811066172.3
申请日：2018-09-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07D333/76 , C07D335/12 , C07D335/16 , C07D339/08 , C07D327/08 , C07D307/00 , C07D279/22 , C07D279/20 , C07D333/46 , C07D333/54 , C07D335/02 , C07D327/06 , C07C25/18 , C07C43/225 , C08F112/14 , C08F120/38 , C08F120/16 , C08F120/32 , C08F120/20 , G03F7/004
Abstract: 本发明为单体、聚合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。提供了具有式(A)的单体。RA为H、甲基或三氟甲基，X1为单键，醚键、酯键或酰胺键，Ra为C1-C20一价烃基，Rb为H或酸不稳定性基团，X为卤素，n为1至4的整数，m为0至3的整数，和1≤n+m≤4。包含衍生自所述单体的聚合物的抗蚀剂组合物具有对高能辐射、特别是EUV的高的感光度。
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公开(公告)号：CN119882349A
公开(公告)日：2025-04-25
申请号：CN202411482852.9
申请日：2024-10-23
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供无论为正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：酸产生剂，含有被碘原子取代的芳基磺酸的锍盐或錪盐。
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公开(公告)号：CN119775184A
公开(公告)日：2025-04-08
申请号：CN202411377235.2
申请日：2024-09-30
Applicant: 信越化学工业株式会社
Inventor： 福岛将大
IPC: C07C381/12 , C07D327/06 , C07C25/18 , C07D333/76 , C07C309/12 , C07C309/42 , C07C309/73 , C07C311/21 , C07D307/93 , G03F7/004 , C08F220/22 , C08F212/14 , C08F220/30
Abstract: 本发明涉及鎓盐型单体、聚合物、化学增幅抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，溶剂溶解性优异、高感度、高对比度、且曝光裕度(EL)、LWR、CDU、焦点深度(DOF)等光刻性能优异，同时在微细图案形成中抗图案崩塌强且蚀刻耐性亦优异的化学增幅抗蚀剂组成物中所使用的鎓盐型单体；包含来自于该鎓盐型单体的重复单元的聚合物；包含该聚合物的化学增幅抗蚀剂组成物；及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。本发明的解决手段为下式(a)表示的鎓盐型单体。#imgabs0#
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119472171A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202411069502.X
申请日：2024-08-06
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题是提供可以形成能够形成具有极高的分辨率、LER小、矩形性优良、对显影液的残渣缺陷的影响受到抑制的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及使用该组成物的抗蚀剂图案形成方法。本发明的解决手段是一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含(A)基础聚合物、(B)光酸产生剂及(C)淬灭剂，(A)基础聚合物，包含含有特定的含酚性羟基的单元、特定的含芳香环的单元及特定的经酸不稳定基团保护的含酚性羟基的单元的聚合物，(A)基础聚合物中包含的重复单元，全部为具有芳香环的重复单元，构成(A)基础聚合物的重复单元中包含的卤素原子的数量，为3以下。
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公开(公告)号：CN119310796A
公开(公告)日：2025-01-14
申请号：CN202410918861.1
申请日：2024-07-10
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C07C381/12 , C07D333/76 , C07C309/42 , C07D333/54 , C07D307/00 , C07C25/18 , G03F7/00
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供可为正型亦可为负型，具有高感度，LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料，以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是包含含有下式(1)表示的鎓盐的酸产生剂的抗蚀剂材料。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119165731A
公开(公告)日：2024-12-20
申请号：CN202410781639.1
申请日：2024-06-18
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供：可形成能形成具有极高的分辨性、LER小、矩形性优异、显影负载的影响及显影残渣缺陷经抑制的图案的抗蚀剂膜的化学增幅正型抗蚀剂组成物，以及使用该化学增幅正型抗蚀剂组成物的抗蚀剂图案形成方法。本发明的解决手段为一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含：(A)以下式(A)表示，且会因为高能射线的作用而产生酸的光酸产生剂；及(B)包含会因为酸的作用致使对于碱水溶液的溶解性增大且含有下式(B1)表示的重复单元的聚合物的基础聚合物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN119080619A
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202410714566.4
申请日：2024-06-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C69/533 , C08F212/14 , C08F220/20 , C08F232/08 , G03F7/004 , G03F7/038 , C07D493/08 , C07C69/757 , C07D307/00 , C07C233/09
Abstract: 本发明涉及单体、聚合物、化学增幅负型抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题是提供一种可获得改善图案形成时的分辨度，且LER及分辨度、图案忠实性、剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅负型抗蚀剂组成物，以及提供一种抗蚀剂图案形成方法。该课题的解决手段为一种下式(A1)表示的单体、含有来自该单体的重复单元的聚合物、及含有包含该聚合物的基础聚合物的化学增幅负型抗蚀剂组成物。#imgabs0#
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公开(公告)号：CN118938597A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202410560301.3
申请日：2024-05-08
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及化学增幅正型抗蚀剂组成物及抗蚀剂图案形成方法。本发明的课题为提供：可改善图案形成时的矩形性，且可获得LER、分辨性、图案忠实性及剂量宽容度经改善的抗蚀剂图案的化学增幅正型抗蚀剂组成物、及抗蚀剂图案形成方法。本发明的解决手段为一种化学增幅正型抗蚀剂组成物，包含：(A)包含下式(A)表示的鎓盐的淬灭剂；及(B)包含含有下式(B1)表示的重复单元，且会因为酸的作用而分解，在碱显影液中的溶解度会增大的聚合物的基础聚合物。#imgabs0#
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