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公开(公告)号：CN116339078A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310116536.9
申请日：2023-02-09
Applicant: 华中科技大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明属于集成电路制造光学在线测量技术领域，公开了一种角分辨快照式套刻误差测量装置及方法，装置包括：探测光产生模块用于产生探测光；光谱调制模块用于将探测光依次进行第一次偏振、第一次相位调制后以不同的入射角照射在待测套刻样件上，并对反射后的多束光束依次进行第二次相位调制和第二次偏振，得到待测套刻样件反射的偏振调制光；角分辨光谱采集模块用于对所述偏振调制光进行光谱成像，得到待测套刻样件的角分辨光谱；套刻误差测量模块用于基于所述角分辨光谱获得在不同入射角下的待测套刻样件的套刻误差。本发明能够提升套刻误差的测量精度和测量的稳定性，克服了斜入射式结构光斑大的缺点，还保留了快照式椭偏仪简单快速测量的优点。
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公开(公告)号：CN113607068B
公开(公告)日：2022-08-05
申请号：CN202110814894.8
申请日：2021-07-19
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种光声测量信号特征的识别模型建立方法及提取方法，属于信号处理领域，包括：获得测量自不同种类的固体样品的多组一维时序光声测量信号，并标注出每组信号中的各特征信号所在的时域区间和类型，得到多个样本；将U‑Net模型中所有的卷积层、最大池化层和上采样均修改为1D形式，以建立一维U‑Net神经网络模型，用于预测一维时序光声测量信号中各类特征信号的时域分布概率曲线；将所有的样本划分为训练集、验证集和测试集，对一维U‑Net神经网络模型进行训练、验证和测试后，得到光声测量信号特征的识别模型。本发明能够有效解决现有的一维时序光声测量信号特征识别与提取方法的鲁棒性差、准确度低、无法区分不同膜层回声信号的技术问题。
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公开(公告)号：CN113607068A
公开(公告)日：2021-11-05
申请号：CN202110814894.8
申请日：2021-07-19
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种光声测量信号特征的识别模型建立方法及提取方法，属于信号处理领域，包括：获得测量自不同种类的固体样品的多组一维时序光声测量信号，并标注出每组信号中的各特征信号所在的时域区间和类型，得到多个样本；将U‑Net模型中所有的卷积层、最大池化层和上采样均修改为1D形式，以建立一维U‑Net神经网络模型，用于预测一维时序光声测量信号中各类特征信号的时域分布概率曲线；将所有的样本划分为训练集、验证集和测试集，对一维U‑Net神经网络模型进行训练、验证和测试后，得到光声测量信号特征的识别模型。本发明能够有效解决现有的一维时序光声测量信号特征识别与提取方法的鲁棒性差、准确度低、无法区分不同膜层回声信号的技术问题。
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公开(公告)号：CN112378861A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN202011163917.5
申请日：2020-10-27
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于精密光学测量仪器系统参数校准领域，并具体公开了一种快照式穆勒矩阵椭偏仪相位延迟量误差的通用校准方法，其包括如下步骤：S1、按预设相位延迟器厚度比搭建快照式穆勒矩阵椭偏仪，然后对三组标准样品进行测量，得到三组测量光谱；S2、分别对三组测量光谱进行频域分析得到频域信号，对频域信号进行分通道处理得到多阶频率通道，再根据相位延迟器厚度比对频率通道进行选择；S3、对选择的频率通道进行波数域分析计算，获得各频率通道对应的测量光谱三角函数展开式的实频、虚频系数，进而得到各相位延迟器的相位延迟量误差。本发明能准确校准快照式穆勒矩阵椭偏仪全测量光谱内的相位延迟量误差，适用于不同的相位延迟器厚度比。
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公开(公告)号：CN112378860A
公开(公告)日：2021-02-19
申请号：CN202011146847.2
申请日：2020-10-23
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于精密光学测量仪器系统校准相关技术领域，其公开了一种旋转器件型穆勒矩阵椭偏仪系统参数的校准方法，该方法包括：将旋转器件型穆勒矩阵椭偏仪的成像透镜和物镜分别更换为1/4标准波片和反射镜；多次旋转所述1/4标准波片的方位角，并从旋转器件型穆勒矩阵椭偏仪的探测器处分别获取多个方位角下的光强信息；对光强信息进行傅里叶分析获得光强信息的傅里叶系数；建立光强信息的傅里叶系数与待校准系统参数的关系模型；不断调整关系模型中待校准系统参数的取值，直至关系模型中的傅里叶系数与上述傅里叶系数的误差在预设范围内则此时待校准系统参数对应的取值即为校准值。该方法通过两步校准即可实现对多个校准值的校准，简单方便。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112163341A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN202011062137.1
申请日：2020-09-30
Applicant: 华中科技大学 , 上海精测半导体技术有限公司
IPC: G06F30/20 , G06F17/14 , G06F111/10
Abstract: 本发明公开了一种周期性光栅结构的光学特性建模方法、装置和存储介质，属于光学关键尺寸测量技术领域，所述方法包括：获取周期性光栅结构内材料的介电常数；将周期性光栅结构拆分为若干包含一种材料的区域；基于格林公式将各个区域的面积分转化为各个区域边界的线积分；利用线积分表示各个区域对应的多边形顶点的显式解析表达式；从各个显式解析表达式中获取各个区域对应的介电常数傅里叶系数，基于各个区域对应的介电常数傅里叶系数确定周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数；利用周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数实现周期性光栅结构的光学特性建模。本发明简化获取周期性光栅结构的介电常数傅里叶系数的过程，提高光学特性建模的效率。
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公开(公告)号：CN110567882B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201910757724.3
申请日：2019-08-16
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明属于二维材料测量领域，并具体公开了一种二维材料复光导率确定方法，其首先根据电磁波在待测二维材料中的传播效应确定对应的计算方式；对于传播效应弱的二维材料，将其等效为无限薄片层，将二维材料椭偏参数用其复光导率进行表示，从而拟合提取得到二维材料的复光导率；对于电磁波传播效应强的材料，先确定其介电函数或复折射率，然后借助介电函数或复折射率与复光导率间的转换关系确定二维材料的复光导率。该方法全面系统，操作流程清晰明了，充分考虑二维材料光电响应机理，分析结果准确可靠，适用于各种二维材料复光导率的确定。
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公开(公告)号：CN109115695B
公开(公告)日：2020-05-19
申请号：CN201810891464.4
申请日：2018-08-07
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/27
Abstract: 本发明属于各向异性体材料测量相关技术领域，其公开了一种各向异性体材料光学常数和欧拉角的提取方法，该方法包括以下步骤：(1)建立待测样品的测试系统，通过所述测试系统获得待测样品的测量穆勒矩阵光谱Mm；(2)根据4×4矩阵法建立待测样品的正向光学模型，并计算出待测样品的部分传输矩阵；(3)结合光学常数拟合初值及所述部分传输矩阵计算出待测样品的理论穆勒矩阵光谱Mc；(4)计算出理论穆勒矩阵光谱与测量光谱之间的均方根误差，并寻优光学常数以使得该均方根误差小于设定阈值，从而提取出待测样品多波长下的光学常数和欧拉角。本发明的分析过程简单，测量准确性较高，适用性较好，灵活性较高。
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公开(公告)号：CN111060711A
公开(公告)日：2020-04-24
申请号：CN201911420306.1
申请日：2019-12-31
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01P3/36
Abstract: 本发明属于光电检测与测量领域，并公开了一种基于斯托克斯矢量的光学转速测量系统及测量方法。该系统包括线偏振光模块，传感模块和超快完全斯托克斯偏振仪，其中，线偏振光模块发射线偏振光，传感模块包括波片和滤光片，待测对象设置在波片上，待测对象旋转带动波片旋转，滤光片设置在波片的后方，该滤光片包括左右对称但光密度不同的两个部分，来自线偏振光模块的线偏振光进入旋转的波片后被调制为椭偏偏振光，该椭偏偏振光进入滤波片对该椭偏偏振光的光强进行衰减；超快完全斯托克斯偏振仪用于获得偏振光的斯托克斯矢量。通过本发明，满足工业机器人、精密加工与测量等对滚转角测量和转速测量的应用场合，具备非破坏、低成本、简洁等优点。
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公开(公告)号：CN110987817A
公开(公告)日：2020-04-10
申请号：CN201911345061.0
申请日：2019-12-24
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光学测量相关技术领域，并具体公开了一种基于大数值孔径物镜整合暗场观察的椭偏仪及测量方法。所述椭偏仪包括物镜、镜筒透镜以及关于其中心轴对称布置的照明光路模块和明场光路模块，照明光路模块包括光源、单色仪、光纤、起偏臂以及第一反射镜，明场光路模块包括第二反射镜、检偏臂以及明场检测器。所述方法包括选择指定波长和特征的偏振光，先后经过照明光路模块实现偏振测量的倾斜入射条件，然后引入反射镜和垂直物镜光路，经过明场光路模块和暗场光路模块，可以同时实现明场和暗场观察测量。本发明可实现纳米结构薄膜光学常数以及膜厚、纳米结构特征线宽、线高、侧壁角等几何参数的全视场高分辨率、低成本、非破坏性精确测量。
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