-
公开(公告)号：CN119000474A
公开(公告)日：2024-11-22
申请号：CN202411210194.8
申请日：2024-08-30
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于复合材料成形相关技术领域，其公开了一种复合材料成形孔隙原位表征装置、方法及孔隙优化的成形方法，其中装置包括样品承载装置、原位实现装置和分析表征装置，其中，样品承载装置包括加热结构、玻璃片和待成形材料样品，待成形材料样品通过玻璃片固定放置在加热结构上；原位实现装置包括加热驱动结构，加热驱动结构用于驱动加热结构升温以形成固化成形条件；分析表征装置包括光学显微镜，用于在固化成形过程中采集样品图像以进行成形孔隙原位表征。本发明装置不仅具有操作简单、成本低廉的特点，还能够准确地在线表征复合材料成形时内部孔隙的生成与演变，有利于为复合材料低孔隙高质量成形优化提供理论依据。
-
公开(公告)号：CN115755533A
公开(公告)日：2023-03-07
申请号：CN202211408944.3
申请日：2022-11-11
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于集成电路制造在线测量领域，并具体公开了一种快照式套刻误差测量方法及系统，其包括步骤：对待测件进行测量，分别获取具有正、负预置偏差的两道测量光谱，对测量光谱进行相干解调，将特定频道移频至零频通道；采用线性算子处理移频后的光谱数据，获得对应正负预置偏差的系数；根据系数的实部和虚部系数线性组合构造特征量，则根据对应正负预置偏差的系数分别计算得到对应的特征量；基于特征量与套刻误差的线性关系，根据特征量计算得到套刻误差。本发明无需使用传统的傅里叶分析及截断操作，就可以进行套刻误差的多波长耦合求解，具有较高精度和对噪声的鲁棒性，可用于多场景下的快照式套刻误差测量的数据处理。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119413729A
公开(公告)日：2025-02-11
申请号：CN202411541629.7
申请日：2024-10-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及精密光学测量仪器标定技术，公开了一种四光弹调制器型穆勒矩阵偏振系统的参数校准方法及系统，该方法包括：进行偏振实验；引入包含动态参数的检偏臂基向量和起偏臂基向量，建立光强信号与这些基向量及光强投影矩阵的计算模型；通过偏振实验及计算模型，利用非线性回归方法校准检偏臂和起偏臂基向量中的动态参数，这些动态参数包括光弹调制器的峰值延迟量、调制频率和初始相位。进一步，通过特征值校准方法获取包含系统静态参数的矩阵，直接用于测量，静态参数包括偏振元件的方位角和光弹调制器的静态延迟量。该方法引入基向量，通过非线性回归投影探测光强，实现动态参数的校准，随后利用特征值校准静态参数，操作简便，校准精度高。
-
公开(公告)号：CN118624537A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202410728518.0
申请日：2024-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: G01N21/21
Abstract: 本发明属于精密光学测量相关技术领域，其公开了一种双光弹调制器型穆勒矩阵椭偏仪的系统参数校准方法及设备，该方法包括以下步骤：S1，关闭两个光弹调制器，采集光强信息，进而通过光强拟合的方式标定检偏器相对于起偏器的方位角和系统增益系数；S2，打开第一个光弹调制器，使用第一采样率采集一组光强，并使用频域光强拟合的方法校准出第一光弹调制器的方位角和峰值延迟量，同时得到调制频率，然后使用第二采样率采集一组光强，并使用时域光强拟合的方法校准出第一光弹调制器的初相位和静态延迟量；S3，关闭第一个光弹调制器，打开第二个光弹调制器，对第二个光弹调制器同样基于光强拟合进行校准。本发明避免了使用多个锁相放大器。
-
公开(公告)号：CN119827427A
公开(公告)日：2025-04-15
申请号：CN202510071119.6
申请日：2025-01-16
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本申请属于光学测量相关技术领域，具体公开了一种宽光谱快照式椭偏仪的装调标定方法。本申请首先将装调的过程分为多步调制态；初步调制态为偏振元件间相对零度的状态，终步调制态为测量时的状态，中间多步调制态依次为由初步调制态到终步调制态的多个中间状态；推导出每步调制态下椭偏仪理论光谱信号的通道分布；随后按每步调制态逐步装调椭偏仪，使得每步调制态下的实际光谱信号的通道分布最接近对应理论光谱信号的通道分布；从所述实际光谱信号的通道分布中截取不同通道，逆傅里叶变换后组合得到各个波片的相位延迟量，完成椭偏仪的标定。本申请装调标定方法无需额外的装调标定仪器，装调标定过程快捷方便，且精度更高。
-
公开(公告)号：CN117368114A
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202311188558.2
申请日：2023-09-13
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于光学测量相关技术领域，其公开了一种快照式椭偏测量方法及设备，所述设备包括光源、起偏臂、检偏臂、探测器及数据处理器；所述光源通过光纤连接于所述起偏臂，所述检偏臂设置在所述起偏臂的光路上，所述探测器设置在所述检偏臂的光路上；所述数据处理器与所述探测器相连接；所述起偏臂包括依次沿光路设置的第一透镜、起偏器及第一相位延迟器；所述检偏臂包括沿光路依次设置的第二相位延迟器、检偏器及第二透镜。本发明中偏振器件仅仅只有两个相位延迟器和两个偏振片，能够测量大多数各向同性样品，如各向同性薄膜，并且无运动部件，因此安装误差更容易控制，测量速度快且稳定。
-
公开(公告)号：CN116339078A
公开(公告)日：2023-06-27
申请号：CN202310116536.9
申请日：2023-02-09
Applicant: 华中科技大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明属于集成电路制造光学在线测量技术领域，公开了一种角分辨快照式套刻误差测量装置及方法，装置包括：探测光产生模块用于产生探测光；光谱调制模块用于将探测光依次进行第一次偏振、第一次相位调制后以不同的入射角照射在待测套刻样件上，并对反射后的多束光束依次进行第二次相位调制和第二次偏振，得到待测套刻样件反射的偏振调制光；角分辨光谱采集模块用于对所述偏振调制光进行光谱成像，得到待测套刻样件的角分辨光谱；套刻误差测量模块用于基于所述角分辨光谱获得在不同入射角下的待测套刻样件的套刻误差。本发明能够提升套刻误差的测量精度和测量的稳定性，克服了斜入射式结构光斑大的缺点，还保留了快照式椭偏仪简单快速测量的优点。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.024 seconds)
