-
公开(公告)号：CN118981147A
公开(公告)日：2024-11-19
申请号：CN202411065238.2
申请日：2024-08-05
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： G03F7/20 , G06N3/045 , G06N3/0464 , G06N3/084
摘要： 本申请属于光刻及神经网络领域，具体公开了一种基于光学衍射的角分辨偏振散射套刻误差提取方法，包括：将待测套刻标记的物镜后焦面频域像做偏振差分，得到所述待测套刻标记对应的目标图像；将所述目标图像输入到训练完成的误差提取网络中，得到所述待测套刻标记的套刻误差值；其中，所述误差提取网络是基于训练样本和所述训练样本对应的识别标签进行训练得到的；所述训练样本是利用套刻标记的纳米结构形貌参数、材料光学常数结合预审测量条件，并通过已建立的套刻标记正向光学特性模型进行偏振得到的。通过本申请能够提高套刻误差提取的准确度。
-
公开(公告)号：CN115289988B
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202211004717.4
申请日：2022-08-22
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于纳米薄膜材料测量相关技术领域，其公开了一种纳米薄膜材料厚度和密度不均匀性的测量方法，方法包括：采用穆勒矩阵椭偏仪测量对应的实际穆勒矩阵和实际退偏度；依据菲涅尔反射理论获取待测样品的幅值比和相位差并将其代入待测样品的理论穆勒矩阵；以理论穆勒矩阵和实际穆勒矩阵拟合偏差最小为目标获取各层的平均复折射率和平均层厚度；分别以平均复折射率和平均层厚度为均值预设各层的厚度和密度概率分布模型并将其加入反射光的斯托克斯向量，进而获取理论退偏度；以理论退偏度曲线和实际退偏度曲线拟合偏差最小为目标获得厚度和密度分布的不均匀性。本申请通过分析薄膜样品的退偏特性，能够准确表征纳米薄膜样品的厚度和密度不均匀性。
-
-
公开(公告)号：CN117590702A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311493514.0
申请日：2023-11-09
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 本发明属于光学测量技术领域，公开了一种光刻胶曝光过程动态形貌原位高速测量装置及方法，其由测量光路模块和曝光光路模块组成，在测量光路中，测量光源发出的探测光依序经同步快门、反射镜、起偏器、光弹调制器调制后照射到样本表面并反射，反射光束被两分束器分成光强大致相同的三束光，分别遭受不同规格的波片和偏振分束器的解调，进而由6个光电倍增管感知瞬时光强；根据测量光强并结合测量系统光学模型，提取出样本的测量穆勒矩阵，进而根据样本光学模型求得样品三维形貌，以实现光刻胶曝光过程的动态监测。本发明具有高时间分辨率、原位动态测量、测量信息丰富的优点。
-
公开(公告)号：CN113916797B
公开(公告)日：2022-08-02
申请号：CN202111162313.3
申请日：2021-09-30
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明公开了一种磁性薄膜的磁光参数表征方法及系统，属于磁光偏振测量领域，包括：测量由基底、磁性薄膜及空气所构成的三介质系统的椭偏参数ψ、Δ和全穆勒矩阵M；利用M分别计算入射P光到反射P光和反射S光的反射系数rPP和rSP，以及入射S光到反射P光和反射S光的反射系数rPS和rSS，并利用ψ、Δ进行椭偏分析，以获得厚度d和复折射率N2；利用所计算的反射系数及椭偏分析结果计算复磁光耦合系数Q，并计算P光和S光的磁光克尔偏转角和以及P光和S光的椭率角和计算公式中直接保留2πdN2cosθ2/λ项。本发明在磁性薄膜厚度较大时，仍然能够准确表征其磁光参数，可适用于铁氧体磁性薄膜等厚度分布范围较大的磁性薄膜磁光参数表征。
-
公开(公告)号：CN113310907B
公开(公告)日：2022-07-05
申请号：CN202110643025.3
申请日：2021-06-09
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于光学测量相关技术领域，其公开了一种磁性椭偏测量装置，装置包括椭偏测量模块、磁场加载模块以及样品台，椭偏测量模块用于对样品进行光学测量，磁场加载模块包括水平磁场加载模块以及竖直磁场加载模块，其中，水平磁场加载模块包括水平移动组件、第一永久磁铁磁极对、旋转台，旋转台用于带动水平移动组件在水平面内旋转，水平移动组件用于使第一永久磁铁磁极对中的两磁铁相向或向背运动；竖直磁场加载模块包括竖直移动组件以及第二永久磁铁磁极对，竖直移动组件使得第二永久磁铁磁极对的两磁铁相对样品台相向或相背运动。本申请可以对不同磁场强度和不同模式磁场下的待测样品开展椭偏参数和穆勒矩阵测量。
-
公开(公告)号：CN114264632A
公开(公告)日：2022-04-01
申请号：CN202111535604.2
申请日：2021-12-15
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于系统参数校准相关技术领域，其公开了一种角分辨式散射仪中物镜偏振效应的原位校准方法，包括以下步骤：(1)通过角分辨式散射测量系统对标准薄膜进行测量以得到物镜后焦面实测图像；同时，建立、包含物镜偏振效应的系统仿真模型，并以该标准薄膜为样品，通过系统仿真模型生成物镜后焦面仿真图像；(2)基于样品的椭偏参数系统方程、物镜后焦面实测图像及物镜后焦面仿真图像计算得到实测及理论多入射角椭偏参数；(3)基于物镜偏振效应传递矩阵来确定物镜椭偏参数求解方程，进而求解得到物镜多入射角椭偏参数，以完成角分辨式散射测量系统中物镜偏振效应的原位校准。本发明够有效降低因仪器中物镜偏振效应误差引起的测量误差。
-
公开(公告)号：CN113466140A
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN202010244093.8
申请日：2020-03-31
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于椭偏测量相关技术领域，并公开了一种微光斑椭偏仪中的微透镜偏振效应校准方法。该方法包括下列步骤：(a)采用椭偏仪测量样品在有和无微透镜的情况下的穆勒矩阵，以此获得微透镜的测量穆勒矩阵Mm；(b)将微透镜等效为相位延迟器，将来自椭偏仪并透过微透镜的光线离散为多条均匀分布的光线，根据每条光线的穆勒矩阵计算获得微透镜的初始穆勒矩阵；(c)比较微透镜的测量穆勒矩阵与初始穆勒矩阵，调节所述微透镜特征值的初始值，直至初始穆勒矩阵等于测量穆勒矩阵，此时特征值为所需的特征值；(d)构建微透镜的相位延迟量和穆勒矩阵的关系式，计算获得微透镜实际的相位延迟量和穆勒矩阵。通过本发明，校准方法简单，适用范围广。
-
公开(公告)号：CN110376136B
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201910655398.5
申请日：2019-07-19
申请人： 华中科技大学
摘要： 本发明属于光学测量相关技术领域，并具体公开了一种高温加载下测量薄膜光学常数及形貌参数的装置及方法。所述装置包括光学常数测量模块和高温加热模块，高温加热模块包括高温加热腔、石英玻璃窗、高温加热台、高温台控制器以及气体流道单元，光学常数测量模块包括入射光路单元和反射光路单元。所述方法包括根据校准的椭偏参数获取样品的真实椭偏参数，并根据样品的光学常数参数化模型和正向光学模型获取样品光学常数以及形貌参数。本发明可在较宽的热温度范围内校准不同加热温度下石英玻璃窗所引入的椭偏参数偏差，并构建还原性的测量气体氛围，使得本发明装置能够更准确的测量得到待测样品的光学常数以及形貌参数。
-
公开(公告)号：CN108061709B
公开(公告)日：2019-09-24
申请号：CN201711323981.3
申请日：2017-12-13
申请人： 华中科技大学
IPC分类号： G01N21/21
摘要： 本发明属于材料冲击动力学参数测量领域，并公开了一种透明材料冲击动力学参数获取方法。该方法包括：(a)建立了平稳冲击波加载下透明薄膜样品的双层薄膜分层模型(b)利用第一性原理，证明了P偏振光以布儒斯特角入射样品时，反射光相位对时间导数的波形呈周期性震荡特性，推导出了震荡特性与冲击动力学参数之间的表达式；(c)采用泵浦探测测试系统测量待测样品的实际震荡周期、实际幅值、和实际震荡偏离值；(d)将获得的测量实际值带入获得的表达式中进而获得实际冲击动力学参数。通过本发明，实现了双层薄膜模型中，使用公式直接提取透明材料冲击动力学参数，该方法使用的测量光路简单，易于实施，数据易于处理。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
47 条记录 (耗时 0.032 秒)
