一种光刻胶曝光过程准动态原位椭偏测量方法及系统

    公开(公告)号:CN119045286A

    公开(公告)日:2024-11-29

    申请号:CN202310619606.2

    申请日:2023-05-29

    Abstract: 本发明属于光学薄膜测量相关技术领域,其公开一种光刻胶曝光过程准动态原位椭偏测量方法及系统,方法包括:采用穆勒矩阵椭偏仪获得光刻胶不同曝光时刻的实测穆勒矩阵;建立光刻胶的正向光学模型,获得理论穆勒矩阵;将实测穆勒矩阵和理论穆勒矩阵进行反演拟合获得不同时刻光刻胶的椭偏参数、平均消光系数以及膜厚度;建立光刻胶的参数与光刻胶的光学特性关系模型,以及光刻胶的曝光模型;建立理论消光系数与消光系数的关系模型,获得曝光不同时间后光刻胶的理论消光系数;将平均消光系数与理论消光系数进行反演拟和获得参数。本申请不仅可以对光刻胶进行静态测量而且可以对光刻胶的曝光过程进行准动态测量,可以精准的表征光刻胶的曝光过程。

    一种极紫外光刻掩模优化方法及系统

    公开(公告)号:CN117807955A

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN202311872007.8

    申请日:2023-12-30

    Abstract: 本发明提供了一种极紫外光刻掩模优化方法及系统,其中方法包括:获取待优化的连续掩模;基于目标函数对连续掩模的第一晶圆空间像的偏导,确定目标函数对连续掩模的梯度,基于此对连续掩模进行迭代优化,直至优化后的连续掩模满足第一迭代终止条件;所述目标函数对第一晶圆空间像的偏导仅基于目标函数对连续掩模的第一晶圆图案的偏导确定;对优化后的连续掩模进行滤波和二值化处理,得到二值掩模;基于目标函数对二值掩模的第二晶圆空间像的偏导,确定目标函数对二值掩模的梯度,基于此对二值掩模进行迭代优化,直至优化后的二值掩模满足第二迭代终止条件。本发明实现了极紫外光刻厚掩模的快速高效的优化,节省了计算时间和计算资源。

    一种微光斑椭偏仪中的微透镜偏振效应校准方法

    公开(公告)号:CN113466140B

    公开(公告)日:2022-06-17

    申请号:CN202010244093.8

    申请日:2020-03-31

    Abstract: 本发明属于椭偏测量相关技术领域,并公开了一种微光斑椭偏仪中的微透镜偏振效应校准方法。该方法包括下列步骤:(a)采用椭偏仪测量样品在有和无微透镜的情况下的穆勒矩阵,以此获得微透镜的测量穆勒矩阵Mm;(b)将微透镜等效为相位延迟器,将来自椭偏仪并透过微透镜的光线离散为多条均匀分布的光线,根据每条光线的穆勒矩阵计算获得微透镜的初始穆勒矩阵;(c)比较微透镜的测量穆勒矩阵与初始穆勒矩阵,调节所述微透镜特征值的初始值,直至初始穆勒矩阵等于测量穆勒矩阵,此时特征值为所需的特征值;(d)构建微透镜的相位延迟量和穆勒矩阵的关系式,计算获得微透镜实际的相位延迟量和穆勒矩阵。通过本发明,校准方法简单,适用范围广。

    石英玻璃窗偏振效应原位校准的光学常数测量方法及装置

    公开(公告)号:CN112378859B

    公开(公告)日:2021-11-19

    申请号:CN202011067230.1

    申请日:2020-10-05

    Abstract: 本发明公开了石英玻璃窗偏振效应原位校准的光学常数测量方法及装置,属于偏振光学测量领域,包括:建立变温椭偏测量装置中石英玻璃窗在斜入射情况下的穆勒矩阵W和变温椭偏测量装置中高温加热腔内样品的理论穆勒矩阵MS;穆勒矩阵W中包括椭偏参数Ψ2和Δ2以及参数m13,穆勒矩阵MS中包括椭偏参数Ψ1和Δ1;根据W和MS建立变温椭偏测量装置的整体穆勒矩阵为M=WMSW,并归一化为矩阵Mn,由此得到Ψ2、Δ2、m13、Ψ1、Δ1以及Mn中各元素之间的关系;将样品加热至不同的温度,并测量各温度下的光谱穆勒矩阵,以计算各温度下Ψ1和Δ1的光谱,并反演拟合得到样品的高温光学常数。本发明能够对石英玻璃窗的偏振效应进行原位校准,保证了样品高温光学常数的测量精度。

    一种磁性椭偏测量装置
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN113310907A

    公开(公告)日:2021-08-27

    申请号:CN202110643025.3

    申请日:2021-06-09

    Abstract: 本发明属于光学测量相关技术领域,其公开了一种磁性椭偏测量装置,装置包括椭偏测量模块、磁场加载模块以及样品台,椭偏测量模块用于对样品进行光学测量,磁场加载模块包括水平磁场加载模块以及竖直磁场加载模块,其中,水平磁场加载模块包括水平移动组件、第一永久磁铁磁极对、旋转台,旋转台用于带动水平移动组件在水平面内旋转,水平移动组件用于使第一永久磁铁磁极对中的两磁铁相向或向背运动;竖直磁场加载模块包括竖直移动组件以及第二永久磁铁磁极对,竖直移动组件使得第二永久磁铁磁极对的两磁铁相对样品台相向或相背运动。本申请可以对不同磁场强度和不同模式磁场下的待测样品开展椭偏参数和穆勒矩阵测量。

    一种高时间分辨率的穆勒矩阵椭偏测量装置与方法

    公开(公告)号:CN108801930B

    公开(公告)日:2020-09-08

    申请号:CN201810536399.3

    申请日:2018-05-30

    Abstract: 本发明公开了一种高时间分辨率的穆勒矩阵椭偏测量装置及测量方法。入射光路采用4个偏振调制通道将一束脉冲激光分束且调制成4束偏振态相互独立的偏振光束,利用不同光程差使得各脉冲之间产生数纳秒的时间间隔,并将此4束脉冲激光依次辐照在样品表面。反射光路采用六通道偏振检测模块同步测量样品表面的反射光束的斯托克斯向量。利用此4束脉冲的已知入射与反射斯托克斯向量,可通过解线性方程组来求取样品的穆勒矩阵。本发明的装置及方法能够将穆勒矩阵的分辨率提高至脉冲光源的一个重复周期内,根据设定的脉冲光源的脉冲周期,穆勒矩阵的时间分辨率可以提高至数十纳秒级,能够广泛应用于光全息聚合物、有序材料等复杂纳米结构的原位动态测量。

    一种光弹型高速穆勒矩阵椭偏仪及其原位校准与测量方法

    公开(公告)号:CN111413282A

    公开(公告)日:2020-07-14

    申请号:CN202010283111.3

    申请日:2020-04-11

    Abstract: 本发明公开了一种光弹型高速穆勒矩阵椭偏仪及其原位校准与测量方法,属于光学测量相关技术领域,其中,光弹型高速穆勒矩阵椭偏仪包括:高速起偏模块、样品调节模块以及实时检偏模块。光弹型高速穆勒矩阵椭偏仪的原位校准方法是基于贝塞尔函数无穷级数展开与离散傅里叶变换而实施的,其同时获取了光弹调制器的峰值与静态延迟量,并确保了光弹调制器在全工作范围内的高精度与高灵敏度性能。光弹型高速穆勒矩阵椭偏仪的测量方法是基于双光弹调制与空间分光解调而开展的,能够在微秒级时间分辨率下实现样品穆勒矩阵的原位与高精度测量。得益于穆勒矩阵的高时间分辨率获取,本发明可用于快速反应过程中材料动态光学属性的表征。

    高温加载下测量薄膜光学常数及形貌参数的装置及方法

    公开(公告)号:CN110376136A

    公开(公告)日:2019-10-25

    申请号:CN201910655398.5

    申请日:2019-07-19

    Abstract: 本发明属于光学测量相关技术领域,并具体公开了一种高温加载下测量薄膜光学常数及形貌参数的装置及方法。所述装置包括光学常数测量模块和高温加热模块,高温加热模块包括高温加热腔、石英玻璃窗、高温加热台、高温台控制器以及气体流道单元,光学常数测量模块包括入射光路单元和反射光路单元。所述方法包括根据校准的椭偏参数获取样品的真实椭偏参数,并根据样品的光学常数参数化模型和正向光学模型获取样品光学常数以及形貌参数。本发明可在较宽的热温度范围内校准不同加热温度下石英玻璃窗所引入的椭偏参数偏差,并构建还原性的测量气体氛围,使得本发明装置能够更准确的测量得到待测样品的光学常数以及形貌参数。

    一种纳米薄膜制备过程的大面积动态测量装置及方法

    公开(公告)号:CN108036744B

    公开(公告)日:2019-06-11

    申请号:CN201711183118.2

    申请日:2017-11-23

    Abstract: 本发明属于光学测量技术领域,公开了一种纳米薄膜制备过程的大面积动态测量装置及方法,其包括入射光路单元和反射光路单元,入射光路单元用于提供平行光束,平行光束经扩束镜组、反射镜、1/4波片、偏振分束器、1/4波片辐照在纳米薄膜表面并反射;反射光束经两分束器分成三束光,第一光束经1/4波片、偏振分束器分束被两成像模块测量获得两个光强值,第二光束经1/2波片、偏振分束器分束被两成像模块测量获得两个光强值,第三光束经第四偏振分束器分束被两成像模块测量获得两个光强值,根据六个光强值计算出斯托克斯向量,并进行最小二乘拟合提取待测参数,以实现纳米薄膜制备过程的动态观测。本发明具有测量方便可靠、适用性强等优点。

    一种纳米薄膜制备过程的大面积动态测量装置及方法

    公开(公告)号:CN108036744A

    公开(公告)日:2018-05-15

    申请号:CN201711183118.2

    申请日:2017-11-23

    CPC classification number: G01B11/30

    Abstract: 本发明属于光学测量技术领域,公开了一种纳米薄膜制备过程的大面积动态测量装置及方法,其包括入射光路单元和反射光路单元,入射光路单元用于提供平行光束,平行光束经扩束镜组、反射镜、1/4波片、偏振分束器、1/4波片辐照在纳米薄膜表面并反射;反射光束经两分束器分成三束光,第一光束经1/4波片、偏振分束器分束被两成像模块测量获得两个光强值,第二光束经1/2波片、偏振分束器分束被两成像模块测量获得两个光强值,第三光束经第四偏振分束器分束被两成像模块测量获得两个光强值,根据六个光强值计算出斯托克斯向量,并进行最小二乘拟合提取待测参数,以实现纳米薄膜制备过程的动态观测。本发明具有测量方便可靠、适用性强等优点。

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