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公开(公告)号：CN1591777A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN200410057032.1
申请日：2004-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67028 , B08B3/12 , H01J37/32862 , H01L21/6831
Abstract: 为了使附着在减压处理室内的部件上的微颗粒飞散，清洁部件，采用将电压加在部件上，利用麦克斯韦应力使微颗粒飞散的方法；使微颗粒带电，利用库仑力飞散的方法，将气体导入减压处理室中，使气体冲击波到达附着有微颗粒的部件，使微颗粒飞散的方法；使部件温度上升，利用热应力和热泳动力，使微颗粒飞散的方法；或将机械振动给与部件，使微颗粒飞散的方法。另外，使飞散的微颗粒在较高压的气氛下被气体流夹带除去。
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公开(公告)号：CN1521805A
公开(公告)日：2004-08-18
申请号：CN200410031210.3
申请日：2004-02-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/302 , H01L21/3065 , C23F4/00
CPC classification number: H01J37/32642 , H01J37/32706 , H01L21/67069
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置、环形部件以及等离子体处理方法，利用等离子体进行处理，当执行相互不同的多个处理时实现装置公用化，在多个装置中执行相同处理时易统一装置之间的等离子体状态，利用由绝缘材料构成的环形部件环绕处理容器内的被处理基板，在此环形部件内设置用于调整等离子体源区的电极，构成为例如在对被处理基板执行第一处理时对该电极施加第一直流电压、在执行第二处理时对该电极施加第二直流电压，此时，由于对应于执行每一处理或相同处理的各装置通过施加合适的直流电压就可统一等离子体的状态，所以可实现装置公用化，并易对等离子体状态进行调整。
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公开(公告)号：CN119631092A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202380052362.2
申请日：2023-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 国立大学法人筑波大学
Abstract: 本发明提供信息处理方法、信息处理系统以及计算机程序。从各装置获取对在多个装置中个别地使用的第一数据应用中间表示转换函数而得到的第一中间表示，从各装置获取对在多个装置中共通地使用的第二数据应用中间表示转换函数而得到的第二中间表示，按使对从各装置获取到的每一个第二中间表示应用整合表示转换函数而得到的整合表示的差最小化的方式，调整整合表示转换函数的参数，基于从各装置获取到的每一个第一中间表示以及参数经调整的整合表示转换函数，导出对多个装置间的机械误差进行修正的机械误差修正函数。
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公开(公告)号：CN111164235A
公开(公告)日：2020-05-15
申请号：CN201880064563.3
申请日：2018-09-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/509 , H01L21/31 , H01L21/316 , H05H1/46
Abstract: 在一实施方式的成膜方法在基片载置于支承台上的状态下被执行。该成膜方法包括：从气体供给部向腔室主体的内部空间供给包含前体的前体气体的步骤；从气体供给部向内部空间供给反应性气体的步骤；生成反应性气体的等离子体以增强前体与反应性气体的反应的步骤。在生成反应性气体的等离子体的步骤中，调节供给到下部电极的第2高频的电功率与供给到上部电极的第1高频的电功率之比，并且用相位调节电路，相对于上部电极的电压的相位相对地调节下部电极的电压的相位。
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公开(公告)号：CN102693908B
公开(公告)日：2015-11-25
申请号：CN201210040852.4
申请日：2012-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , F04D19/04
CPC classification number: F04B37/08 , Y10S29/902 , Y10S55/05 , Y10S264/48 , Y10T29/49316 , Y10T156/1043
Abstract: 本发明提供一种粒子捕捉单元，能够防止排气效率降低。构成暴露于微粒(P)飞来的空间的微粒捕集单元(40)的第一捕集单元(40a)具备：由多个第一不锈钢(44a)构成的第一网状层(44)和由多个第二不锈钢(45a)构成的第二网状层(45)，第一不锈钢(44a)的粗细小于第二不锈钢(45a)的粗细，第一网状层(44)中的第一不锈钢(44a)的配置密度高于第二网状层(45)中的第二不锈钢(45a)的配置密度，第二网状层(45)介于第一网状层(44)与微粒(P)飞来的空间之间，通过烧结使第一网状层(44)与第二网状层(45)固化而互相接合。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102473593B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201080029631.6
申请日：2010-06-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: A61K8/25 , A61K8/022 , A61K8/21 , A61K8/24 , A61K8/27 , A61Q11/00 , C03C3/062 , C03C3/097 , C03C3/112 , C03C4/0007 , C03C4/0021 , C03C4/0035 , C03C12/00 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H01L21/67288
Abstract: 本发明提供一种高精度地对装置中产生的异常进行检测的异常检测系统。对等离子体处理装置(2)所产生的异常进行检测的异常检测系统(100)具备：多个超声波传感器(41)，其检测由异常的产生所引起的AE；分配器(65)，其将超声波传感器(41)的各输出信号分别分配为第一信号和第二信号；触发器(52)，其例如以10kHz对第一信号进行采样，在检测出规定的特征时产生触发信号；触发产生时刻计数器(54)，其接收触发信号并决定触发产生时刻；数据记录器(55)，其例如以1MHz对第二信号进行采样来制作采样数据；以及PC(50)，其通过对采样数据中的与以由触发产生时刻计数器(54)决定的触发产生时刻为基准的固定期间相对应的数据进行波形分析，对等离子体处理装置(2)所产生的异常进行分析。
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公开(公告)号：CN1931453B
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN200610151435.1
申请日：2004-08-25
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 为了使附着在减压处理室内的部件上的微颗粒飞散，清洁部件，采用将电压加在部件上，利用麦克斯韦应力使微颗粒飞散的方法；使微颗粒带电，利用库仑力飞散的方法，将气体导入减压处理室中，使气体冲击波到达附着有微颗粒的部件，使微颗粒飞散的方法；使部件温度上升，利用热应力和热泳动力，使微颗粒飞散的方法；或将机械振动给与部件，使微颗粒飞散的方法。另外，使飞散的微颗粒在较高压的气氛下被气体流夹带除去。
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公开(公告)号：CN102693908A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：CN201210040852.4
申请日：2012-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , F04D19/04
CPC classification number: F04B37/08 , Y10S29/902 , Y10S55/05 , Y10S264/48 , Y10T29/49316 , Y10T156/1043
Abstract: 本发明提供一种粒子捕捉单元，能够防止排气效率降低。构成暴露于微粒(P)飞来的空间的微粒捕集单元(40)的第一捕集单元(40a)具备：由多个第一不锈钢(44a)构成的第一网状层(44)和由多个第二不锈钢(45a)构成的第二网状层(45)，第一不锈钢(44a)的粗细小于第二不锈钢(45a)的粗细，第一网状层(44)中的第一不锈钢(44a)的配置密度高于第二网状层(45)中的第二不锈钢(45a)的配置密度，第二网状层(45)介于第一网状层(44)与微粒(P)飞来的空间之间，通过烧结使第一网状层(44)与第二网状层(45)固化而互相接合。
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公开(公告)号：CN101526482B
公开(公告)日：2012-03-28
申请号：CN200910006536.3
申请日：2009-02-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 守屋刚
CPC classification number: G01N15/02
Abstract: 本发明提供即使是几乎没有与颗粒的发生原因有关知识的人员，也能够正确地判别颗粒的发生原因的颗粒发生原因判别系统和颗粒发生原因判别方法，判别颗粒的发生原因的颗粒发生原因判别系统(43)具备客户PC(47)和主服务器(48)，主服务器(48)具被保存计算与多个颗粒发生原因的各个有关的准确度的计算方法的程序的存储器；和基于各保存的程序，由颗粒分布图、各颗粒的材质、形状和尺寸，针对各颗粒发生原因计算上述准确度的CPU，客户PC(47)在显示器(51)上显示关于各颗粒发生原因计算出的准确度。
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公开(公告)号：CN101657888B
公开(公告)日：2011-03-16
申请号：CN200880011161.3
申请日：2008-03-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C23C16/4402
Abstract: 本发明提供一种粉体状物质源供给系统的清洗方法，能够防止在成膜处理时从容器内或导入管内流出颗粒。基板处理系统(10)具有粉体状物质源供给系统(12)和成膜处理装置(11)。粉体状物质源供给系统包括：收容粉体状物质源(13)(羰基钨)的安瓿容器(14)；向安瓿容器内供给载体气体的载体气体供给装置(16)；连接安瓿容器和成膜处理装置的粉体状物质源导入管(17)；从粉体状物质源导入管分支的吹扫管(19)；和开闭粉体状物质源导入管的开闭阀(22)。在成膜处理前，在关闭开闭阀且对吹扫管内排气时，载体气体供给装置供给载体气体使得由载体气体作用在颗粒上的粘性力比成膜处理时由载体气体作用在颗粒上的粘性力大。
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