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公开(公告)号：CN116941012A
公开(公告)日：2023-10-24
申请号：CN202280017209.1
申请日：2022-02-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02
Abstract: 在基板处理中的处理条件的探索中，收集适当的数据。一种数据收集系统，具有：具有第1处理空间的第1基板处理装置、具有第2处理空间的第2基板处理装置、和与所述第1基板处理装置及第2基板处理装置连接的数据收集装置，具有：修正量计算部，比较通过在相同的处理条件下在所述第1处理空间和第2处理空间中分别处理相同或类似形状的基板而观测到的观测数据，计算出对通过在所述第2处理空间中进行处理而观测到的观测数据进行修正的修正量；和收集部，在通过在所述第2处理空间中改变处理条件来处理基板从而探索处理条件时，基于所述修正量来对通过在所述第2处理空间中进行处理而观测到的观测数据进行修正，并收集修正后的观测数据。
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公开(公告)号：CN119631092A
公开(公告)日：2025-03-14
申请号：CN202380052362.2
申请日：2023-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 国立大学法人筑波大学
Abstract: 本发明提供信息处理方法、信息处理系统以及计算机程序。从各装置获取对在多个装置中个别地使用的第一数据应用中间表示转换函数而得到的第一中间表示，从各装置获取对在多个装置中共通地使用的第二数据应用中间表示转换函数而得到的第二中间表示，按使对从各装置获取到的每一个第二中间表示应用整合表示转换函数而得到的整合表示的差最小化的方式，调整整合表示转换函数的参数，基于从各装置获取到的每一个第一中间表示以及参数经调整的整合表示转换函数，导出对多个装置间的机械误差进行修正的机械误差修正函数。
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公开(公告)号：CN102473593B
公开(公告)日：2014-07-16
申请号：CN201080029631.6
申请日：2010-06-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: A61K8/25 , A61K8/022 , A61K8/21 , A61K8/24 , A61K8/27 , A61Q11/00 , C03C3/062 , C03C3/097 , C03C3/112 , C03C4/0007 , C03C4/0021 , C03C4/0035 , C03C12/00 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H01L21/67288
Abstract: 本发明提供一种高精度地对装置中产生的异常进行检测的异常检测系统。对等离子体处理装置(2)所产生的异常进行检测的异常检测系统(100)具备：多个超声波传感器(41)，其检测由异常的产生所引起的AE；分配器(65)，其将超声波传感器(41)的各输出信号分别分配为第一信号和第二信号；触发器(52)，其例如以10kHz对第一信号进行采样，在检测出规定的特征时产生触发信号；触发产生时刻计数器(54)，其接收触发信号并决定触发产生时刻；数据记录器(55)，其例如以1MHz对第二信号进行采样来制作采样数据；以及PC(50)，其通过对采样数据中的与以由触发产生时刻计数器(54)决定的触发产生时刻为基准的固定期间相对应的数据进行波形分析，对等离子体处理装置(2)所产生的异常进行分析。
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公开(公告)号：CN101127298A
公开(公告)日：2008-02-20
申请号：CN200710141870.0
申请日：2007-08-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/318 , H01L21/31 , G05B19/04
CPC classification number: G05B13/048 , G05B11/42
Abstract: 本发明提供一种立式热处理装置，实现装载时反应管的内壁的温度稳定化，抑制例如附着在内壁上的膜剥落，减少颗粒污染。使用该热处理装置的热处理方法，预先在反应管的内壁上安装内壁温度传感器，求得内壁温度传感器的检测值和向加热单元供给的电力的指令值的各时间系列数据。根据装载初期时这些数据，由之前的电力的指令值，预测内壁温度，以该内壁温度的预测值作为控制对象。并且，在装载末期时，将控制对象缓慢地过渡到设置于反应管外的温度检测部的温度检测值，将该温度检测值作为控制对象。
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公开(公告)号：CN117461040A
公开(公告)日：2024-01-26
申请号：CN202280041250.2
申请日：2022-03-23
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G06N20/00
Abstract: 降低学习作业所花费的作业负荷。基板处理装置，具有：储备池特征量生成部，输入取得的时间序列的第1传感器数据并输出储备池特征量；学习部，在学习期间，学习权重参数，以使通过基于所述权重参数运算储备池特征量而得到的预测结果数据与取得的所述时间序列的第2传感器数据相关；预测部，在预测期间，基于学习的权重参数，对通过输入所述时间序列的第1传感器数据而由所述储备池特征量生成部输出的储备池特征量进行运算，并输出预测结果数据；以及判定部，在所述预测期间，通过比较所述预测结果数据和取得的所述时间序列的第2传感器数据，来判定基板制造工艺的状态。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116670597A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202180086072.0
申请日：2021-12-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05B13/04
Abstract: 本发明的目的在于提供一种预测控制对象中处理值的变化并利用预测结果的结构。本发明的管理装置，包括：预测模型部，学习了控制对象中的时刻T时的多变量控制值与所述控制对象中的时刻T+ΔT时的多变量处理值的输入输出关系；以及优化模型部，探索将由所述预测模型部输出的时刻T+ΔT时的多变量处理值与对应的目标值之间的各差值最小化的时刻T时的多变量控制值，并利用所探索出的该多变量控制值对所述控制对象进行控制，其中，在存在来自管理所述预测模型部的代理部的请求时，所述预测模型部对以指定的控制值对所述控制对象进行控制的情况下的所述控制对象中的时刻ΔT后的多变量处理值进行预测，并输出至所述代理部。
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公开(公告)号：CN111860859A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010305849.5
申请日：2020-04-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G06N20/00
Abstract: 本发明提供一种能够高精度且高效地生成回归方程的学习方法、管理装置和管理程序。学习方法对等离子体处理装置的腔室内的发光数据进行预处理。学习方法设定用于生成回归方程的机器学习的约束，回归方程表示等离子体处理装置的蚀刻速率与发光数据之间的关系。学习方法从被进行预处理后的发光数据中选择学习对象的波长。学习方法接受对与发光数据不同的其它传感器的数据的选择。学习方法将选择出的波长、接受到的其它传感器的数据、以及蚀刻速率作为学习数据，基于所设定的约束来进行机器学习，生成回归方程。学习方法输出生成的回归方程。
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公开(公告)号：CN101127298B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN200710141870.0
申请日：2007-08-15
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/02 , H01L21/318 , H01L21/31 , G05B19/04
CPC classification number: G05B13/048 , G05B11/42
Abstract: 本发明提供一种立式热处理装置，实现装载时反应管的内壁的温度稳定化，抑制例如附着在内壁上的膜剥落，减少颗粒污染。使用该热处理装置的热处理方法，预先在反应管的内壁上安装内壁温度传感器，求得内壁温度传感器的检测值和向加热单元供给的电力的指令值的各时间系列数据。根据装载初期时这些数据，由之前的电力的指令值，预测内壁温度，以该内壁温度的预测值作为控制对象。并且，在装载末期时，将控制对象缓慢地过渡到设置于反应管外的温度检测部的温度检测值，将该温度检测值作为控制对象。
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公开(公告)号：CN118871868A
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN202380027571.1
申请日：2023-03-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05B19/418 , G06Q50/04
Abstract: 本发明提供数据解析系统、数据解析装置、数据解析方法以及计算机程序。具备：第一数据转换装置，将与由第一制造系统制造的第一产品相关的第一数据隐匿化，并作为第一隐匿化数据输出；以及数据解析装置，通过对第一隐匿化数据和与使用第一产品制造的第二产品相关的第二数据之间的影响程度进行评价，来选定对第二数据造成影响的第一隐匿化数据的要素。
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公开(公告)号：CN102473593A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080029631.6
申请日：2010-06-28
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/205 , H01L21/3065
CPC classification number: A61K8/25 , A61K8/022 , A61K8/21 , A61K8/24 , A61K8/27 , A61Q11/00 , C03C3/062 , C03C3/097 , C03C3/112 , C03C4/0007 , C03C4/0021 , C03C4/0035 , C03C12/00 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H01L21/67288
Abstract: 本发明提供一种高精度地对装置中产生的异常进行检测的异常检测系统。对等离子体处理装置(2)所产生的异常进行检测的异常检测系统(100)具备：多个超声波传感器(41)，其检测由异常的产生所引起的AE；分配器(65)，其将超声波传感器(41)的各输出信号分别分配为第一信号和第二信号；触发器(52)，其例如以10kHz对第一信号进行采样，在检测出规定的特征时产生触发信号；触发产生时刻计数器(54)，其接收触发信号并决定触发产生时刻；数据记录器(55)，其例如以1MHz对第二信号进行采样来制作采样数据；以及PC(50)，其通过对采样数据中的与以由触发产生时刻计数器(54)决定的触发产生时刻为基准的固定期间相对应的数据进行波形分析，对等离子体处理装置(2)所产生的异常进行分析。
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