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公开(公告)号:CN118263085A
公开(公告)日:2024-06-28
申请号:CN202311766670.X
申请日:2023-12-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本公开涉及一种等离子体处理方法和等离子体处理装置,能够提高等离子体工艺的效率。等离子体处理方法包括工序(a)、工序(b)以及工序(c)。在工序(a)中,在周期性地重复进行向腔室的处理气体的供给以及所述腔室内的排气的等离子体处理中,通过检测所述腔室内的发光强度的传感器来获取由所述腔室内的所述处理气体电离所得的自由基的发光强度。在工序(b)中,获取设为发光强度的目标的设定值。在工序(c)中,基于通过所述工序(a)获取到的所述发光强度和通过所述工序(b)获取到的所述设定值,来计算使所述发光强度接近所述设定值的所述等离子体处理的处理条件。
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公开(公告)号:CN118871868A
公开(公告)日:2024-10-29
申请号:CN202380027571.1
申请日:2023-03-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G05B19/418 , G06Q50/04
Abstract: 本发明提供数据解析系统、数据解析装置、数据解析方法以及计算机程序。具备:第一数据转换装置,将与由第一制造系统制造的第一产品相关的第一数据隐匿化,并作为第一隐匿化数据输出;以及数据解析装置,通过对第一隐匿化数据和与使用第一产品制造的第二产品相关的第二数据之间的影响程度进行评价,来选定对第二数据造成影响的第一隐匿化数据的要素。
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公开(公告)号:CN116487289A
公开(公告)日:2023-07-25
申请号:CN202310087984.0
申请日:2023-01-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , G05D23/20 , H01J37/304 , H01J37/302
Abstract: 本发明涉及基于模型的控制方法、基于模型的控制系统和程序,可使温度控制部件的温度分布更迅速地接近作为目标的温度分布。基于模型的控制方法包括:步骤a,获取设置于处理装置的、具有能够单独地进行温度控制的多个区域的温度控制部件的包含各个区域的温度数据的温度控制数据;步骤b,对于各个区域确定其他区域的温度;步骤c,对于各个区域,使用所确定的其他区域的温度和温度控制数据,确定多输入单输出的状态空间模型的参数;步骤d,通过将所确定的多输入单输出的状态空间模型的参数分配给多输入多输出的状态空间模型的各元素,生成多输入多输出的状态空间模型;和步骤e,使用多输入多输出的状态空间模型,控制温度控制部件的各个区域的温度。
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公开(公告)号:CN119631092A
公开(公告)日:2025-03-14
申请号:CN202380052362.2
申请日:2023-06-22
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 国立大学法人筑波大学
Abstract: 本发明提供信息处理方法、信息处理系统以及计算机程序。从各装置获取对在多个装置中个别地使用的第一数据应用中间表示转换函数而得到的第一中间表示,从各装置获取对在多个装置中共通地使用的第二数据应用中间表示转换函数而得到的第二中间表示,按使对从各装置获取到的每一个第二中间表示应用整合表示转换函数而得到的整合表示的差最小化的方式,调整整合表示转换函数的参数,基于从各装置获取到的每一个第一中间表示以及参数经调整的整合表示转换函数,导出对多个装置间的机械误差进行修正的机械误差修正函数。
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