公开(公告)号：CN101657888B

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：CN200880011161.3

申请日：2008-03-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 守屋刚 ,  长谷川俊夫 ,  山﨑英亮

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/44

CPC classification number: C23C16/4402

Abstract: 本发明提供一种粉体状物质源供给系统的清洗方法，能够防止在成膜处理时从容器内或导入管内流出颗粒。基板处理系统(10)具有粉体状物质源供给系统(12)和成膜处理装置(11)。粉体状物质源供给系统包括：收容粉体状物质源(13)(羰基钨)的安瓿容器(14)；向安瓿容器内供给载体气体的载体气体供给装置(16)；连接安瓿容器和成膜处理装置的粉体状物质源导入管(17)；从粉体状物质源导入管分支的吹扫管(19)；和开闭粉体状物质源导入管的开闭阀(22)。在成膜处理前，在关闭开闭阀且对吹扫管内排气时，载体气体供给装置供给载体气体使得由载体气体作用在颗粒上的粘性力比成膜处理时由载体气体作用在颗粒上的粘性力大。

公开(公告)号：CN101657888A

公开(公告)日：2010-02-24

申请号：CN200880011161.3

申请日：2008-03-26

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 守屋刚 ,  长谷川俊夫 ,  山﨑英亮

IPC: H01L21/31 ,  C23C16/44

CPC classification number: C23C16/4402

Abstract: 本发明提供一种粉体状物质源供给系统的清洗方法，能够防止在成膜处理时从容器内或导入管内流出颗粒。基板处理系统(10)具有粉体状物质源供给系统(12)和成膜处理装置(11)。粉体状物质源供给系统包括：收容粉体状物质源(13)(羰基钨)的安瓿容器(14)；向安瓿容器内供给载体气体的载体气体供给装置(16)；连接安瓿容器和成膜处理装置的粉体状物质源导入管(17)；从粉体状物质源导入管分支的吹扫管(19)；和开闭粉体状物质源导入管的开闭阀(22)。在成膜处理前，在关闭开闭阀且对吹扫管内排气时，载体气体供给装置供给载体气体使得由载体气体作用在颗粒上的粘性力比成膜处理时由载体气体作用在颗粒上的粘性力大。