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公开(公告)号：CN100427519C
公开(公告)日：2008-10-22
申请号：CN200480022815.4
申请日：2004-08-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/18 , G03F7/039 , H01L21/30
CPC classification number: G03F7/0397 , C08F220/18 , C08F220/28
Abstract: 一种具有优异的分辨率和景深的正性抗蚀剂组合物，一种用于在所述正性抗蚀剂组合物中使用的抗蚀剂的树脂，以及一种使用所述正性抗蚀剂组合物形成抗蚀剂图案的方法。所述用于抗蚀剂的树脂包括衍生自(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a)作为主要组分，其中这些结构单元(a)包括衍生自含酸可离解的溶解抑制基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯以及包含含内酯的单环基团的(α-低级烷基)丙烯酸酯的结构单元(a1)，并且所述结构单元(a1)包括如下所示通式(a1-1)表示的结构单元[其中，R表示氢原子或低级烷基，而R11表示含单环脂肪族烃基但不含多环脂肪族烃基的酸可离解的溶解抑制基团]。
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公开(公告)号：CN1993394A
公开(公告)日：2007-07-04
申请号：CN200580026129.9
申请日：2005-07-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/38 , C08F220/22 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0045 , C08F220/18 , C08F220/28 , C08F220/38 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/114
Abstract: 本发明提供一种可以构成能形成LER降低的高清晰度的图案的正型抗蚀剂组合物的高分子化合物、由该高分子化合物构成的酸发生剂、含有该高分子化合物的正型抗蚀剂组合物、和使用了该正型抗蚀剂组合物的抗蚀图案形成方法。所述高分子化合物含有：从具有酸解离性溶解抑制基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a1)、用下述通式(a2－1)表示的结构单元(a2)、从含有含极性基团的脂肪族多环式基团的(α－低级烷基)丙烯酸酯衍生的结构单元(a3)，在式中，R是氢原子或者低级烷基；A是2价的有机基团；B是1价的有机基团；X是硫原子或者碘原子；n是1或者2；Y是至少一个氢原子可以被氟原子取代的直链、支链或者环状的烷基。
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公开(公告)号：CN1841198A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200610007163.8
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
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公开(公告)号：CN1818785A
公开(公告)日：2006-08-16
申请号：CN200610007165.7
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中组分(A)含有下列两种结构单元：丙烯酸酯衍生的结构单元(al)，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；及甲基丙烯酸酯衍生的结构单元(al′)，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1816776A
公开(公告)日：2006-08-09
申请号：CN200480019259.5
申请日：2004-07-07
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/40 , G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 公开了一种抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物能够使用收缩处理形成良好的抗蚀图案，在收缩处理中，在形成抗蚀图案后，使用诸如加热的处理使抗蚀图案变窄，并且还公开了一种层压材料以及一种使用这样的抗蚀剂组合物形成抗蚀图案的方法。该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示改变的碱溶解度的树脂组分(A)和通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)。组分(A)含有衍生自(甲基)丙烯酸酯的结构单元，并且其玻璃化转变温度在120到170℃范围内。
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公开(公告)号：CN1813222A
公开(公告)日：2006-08-02
申请号：CN200480018215.0
申请日：2004-06-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/18
Abstract: 一种正型抗蚀剂组合物，该抗蚀剂组合物包括在酸作用下显示增加的碱溶解度的树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和有机溶剂(C)。组分(A)具有：(i)结构单元(a1)，其含有可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，(ii)结构单元(a2)，其含有比结构单元(a1)中含有的可酸解离的、溶解抑制基团更不容易解离的可酸解离的、溶解抑制基团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯，和(iii)结构单元(a3)，其含有内酯官能团并且衍生自(甲基)丙烯酸酯。
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公开(公告)号：CN1742029A
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：CN200480002954.0
申请日：2004-01-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: C08F220/28 , C08J3/14 , G03F7/039
Abstract: 提供了一种有效地除去电子材料用粗树脂内含有的副产品例如低聚物的方法，这样生产出电子材料用树脂。在这个方法中，使用(b1)能够溶解电子材料用粗树脂与水混合时分成两层的有机溶剂和(b2)水，洗涤含有(a1)由带有亲水性位的(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元的电子材料用粗树脂。
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公开(公告)号：CN1599885A
公开(公告)日：2005-03-23
申请号：CN02824118.5
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397
Abstract: 本发明提供一种正型光刻胶组合物，其包含：(A)一种在主链中含有仅衍生自丙烯酸酯的单元的树脂组分，对于该树脂组分，其在碱中的溶解度在酸的作用下增大，和(B)一种通过曝光生成酸的酸生成剂组分，(C)一种有机溶剂组分，其中所述的树脂组分(A)是一种共聚物，所述共聚物包含(a1)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其包含一种比2－甲基－2－金刚烷基更容易消除的多环溶解抑制基团作为侧链上的可酸离解的溶解抑制基团，(a2)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含内酯的多环基团，和(a3)一种衍生自丙烯酸酯的结构单元，其在侧链中包含一种含羟基的多环基团；以及使用这种组合的光刻胶图案形成方法。
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公开(公告)号：CN1592870A
公开(公告)日：2005-03-09
申请号：CN02823454.5
申请日：2002-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0397 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。
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