公开(公告)号：CN105555991B

公开(公告)日：2018-03-20

申请号：CN201480051077.X

申请日：2014-09-18

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: C23C14/04 ,  H01B5/14

CPC classification number: G06F3/041 ,  C23C14/042 ,  C23C14/086 ,  C23C14/34 ,  G06F2203/04103

Abstract: 本发明提供成膜掩模以及触摸面板基板。本发明构成为具备树脂掩模(5)与磁性金属部件的金属掩模(11)，其中，所述树脂掩模(5)与成膜于基板上的薄膜图案相对应地形成有开口图案(4)，所述金属掩模(11)形成有尺寸为内包上述开口图案(4)的尺寸的贯通孔(13)，并以在与上述树脂掩模(5)之间设置缝隙(9)的方式设置于上述树脂掩模(5)的一面侧。

公开(公告)号：CN105358732B

公开(公告)日：2017-12-19

申请号：CN201480037834.8

申请日：2014-06-30

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: C23C14/24 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/042 ,  B23K11/11 ,  B23K26/382 ,  C23C16/042 ,  H01L51/0011

Abstract: 本发明包括：树脂薄片(1)，其中形成多个贯通开口图案(4)，在一面(1a)设有具有可内置多个开口图案(4)大小的开口的框状金属薄膜(5)；金属掩模(2)，其在薄片(1)的一面(1a)侧与薄片(1)分离而独立地设于与金属薄膜(5)的开口对应的位置，设有多个贯通孔(6)，每个贯通孔具有可内置多个开口图案(4)中的至少一个开口图案(4)的大小；以及金属框架(3)，其位于薄片(1)的一面(1a)侧，设有可内置金属掩模(2)的多个贯通孔(6)的大小的开口部(7)并形成为框状，在将薄片(1)和金属掩模(2)张紧地架设的状态下，将金属薄膜(5)的部分和金属掩模(2)的边缘部区域点焊到金属框架(3)的一端面(3a)来支撑薄片(1)和金属掩模(2)。

公开(公告)号：CN107111252A

公开(公告)日：2017-08-29

申请号：CN201680005296.3

申请日：2016-01-06

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G02B26/10 ,  G02B3/0037 ,  G02B3/0056 ,  G02B26/101 ,  G03F7/2008 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70275 ,  G03F7/70358 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供一种投影曝光装置。在一边单向扫描微透镜阵列一边将掩模的掩模图案投影曝光于基板上的投影曝光装置中，即使在微透镜中存在缺陷或不良时，也不会产生显著的曝光不均。投影曝光装置(1)具备：扫描曝光部(10)，使微透镜阵列(2)沿着从基板(W)的一端朝向另一端的扫描方向(Sc)移动；及微透镜阵列位移部(20)，在基于扫描曝光部(10)的微透镜阵列(2)的移动中，使微透镜阵列(2)沿着与扫描方向(Sc)交叉的位移方向(Sf)移动。

公开(公告)号：CN104781443B

公开(公告)日：2017-06-27

申请号：CN201380059305.3

申请日：2013-10-29

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: C23C14/04

CPC classification number: B23K26/40 ,  B23K26/03 ,  B23K26/382 ,  B23K26/402 ,  B23K2103/172 ,  B23K2103/42 ,  B23K2103/50 ,  C23C14/042

Abstract: 本发明提供一种成膜掩模的制造方法以及成膜掩模。该成膜掩模的制造方法进行以下步骤：形成使磁性金属部件与树脂制造的膜片密接了的掩模用部件的步骤，其中所述磁性金属部件在与基板上的多个薄膜图案以及多个基板侧对准标记对应的位置设置有多个第一贯通孔以及第二贯通孔；在框状的框架的一端面架设上述掩模用部件并在该框架的一端面接合上述磁性金属部件的周缘部的步骤；以及向上述第一贯通孔内的膜片部分照射激光而形成形状尺寸与薄膜图案相同的开口图案并且向上述第二贯通孔内的上述膜片部分照射激光而形成掩模侧对准标记的步骤。

公开(公告)号：CN102834780B

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201180017800.9

申请日：2011-03-03

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  水村通伸

IPC: G03F9/00 ,  G03F7/20 ,  G03F7/22 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/2035 ,  G03F7/70791 ,  G03F9/00 ,  G03F9/7003

Abstract: 本发明的曝光方法边使基板沿着一定方向移动，边在所述基板上的图案形成区域经由光掩模而使预先设定的图案依次曝光，其中，执行如下步骤：在所述基板上使所述图案曝光，另一方面，使激光束向与基板移动方向交叉的交叉方向的所述图案形成区域外照射，在所述基板面形成一定形状的伤痕而形成对准标记的步骤；检测所述对准标记相对于在所述基板移动方向后方位置预先设定的基准位置的向与基板移动方向交叉的交叉方向的位置偏移的步骤；使所述基板及所述光掩模相对移动来修正所述位置偏移的步骤；在所述图案的后续位置使下一图案曝光的步骤。由此，在大型的素色的基板上使图案高精度且低成本地曝光。

公开(公告)号：CN102906635B

公开(公告)日：2016-05-18

申请号：CN201180020598.5

申请日：2011-04-15

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  新井敏成 ,  水村通伸

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13

CPC classification number: G03F9/7084 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1337 ,  G02F1/133788 ,  G03F7/7035 ,  G03F7/70566

Abstract: 本发明提供一种取向处理方法及取向处理装置，其使涂敷了取向膜的基板与具有第一掩模图案组（6A）和第二掩模图案组（6B）的光掩模（7）靠近对置，将该基板（4）在与所述第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）交叉的方向上移动，第一掩模图案组（6A）以一定的排列间距形成细长状的多个开口，第二掩模图案组（6B）与该第一掩模图案组（6A）平行地设置且以与所述多个开口的排列间距相同的间距形成细长状的多个开口，对所述光掩模（7）的第一及第二掩模图案组（6A）、（6B）分别照射入射角度（θ）为不同的P偏振光，在所述取向膜上交替地形成取向状态不同的条纹状的第一及第二取向区域。由此，通过一次取向处理来形成取向状态不同的二种条纹状的取向区域并缩短取向处理工序的节拍。

公开(公告)号：CN105531393A

公开(公告)日：2016-04-27

申请号：CN201480049456.5

申请日：2014-09-09

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸

IPC: C23C14/04

CPC classification number: C23C14/185 ,  C23C14/042 ,  C23C14/086 ,  C23C14/34

Abstract: 本发明提供图案形成方法以及使用该方法的触摸面板的制造方法。图案形成方法的特征在于，使用具有对形成于对象物面上的图案进行了分割的开口图案的多个溅射用掩膜进行多次溅射成膜(S3、S5)，并且合成通过多个溅射用掩膜分别成膜的图案形成单一的图案。通过在对象物面上对图案直接进行溅射成膜从而不需要曝光工序与显影工序。并且，通过对形成于对象物面上的图案进行分割，难以产生溅射用掩膜的变形、偏移等。

公开(公告)号：CN103703408B

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：CN201280017146.6

申请日：2012-04-03

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  水村通伸 ,  畑中诚 ,  柳川良胜

IPC: G02B27/09 ,  F21S2/00 ,  G02B1/02 ,  G02B3/00 ,  G02B19/00 ,  G02B27/48 ,  G02F1/29 ,  F21Y101/02

CPC classification number: G02B27/0955 ,  G02B27/48 ,  G02F1/0311 ,  G02F1/0322 ,  G02F1/19 ,  G02F2202/20

Abstract: 在激光照明装置中，在从光源射出的脉冲激光的光路上配置有蝇眼透镜和聚光透镜，在光源与蝇眼透镜之间，或在蝇眼透镜与聚光透镜之间，配置有电光晶体元件，该电光晶体元件使脉冲激光相对于入射光使其偏转方向连续地变化而进行透射。该电光晶体元件例如由1对电极和配置在该电极之间的光学晶体材料构成，通过在电极之间施加电压而产生电场，从而电晶体元件的折射率变化。由此，能降低蝇眼透镜的透射光的由干涉条纹造成的照明不均匀。

公开(公告)号：CN104955605A

公开(公告)日：2015-09-30

申请号：CN201480007118.5

申请日：2014-02-03

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  滝本政美 ,  松山将太

IPC: B23K26/382 ,  B23K26/046 ,  B23K26/06 ,  B23K26/08 ,  B23K26/082 ,  C03B33/09 ,  B28D5/00

CPC classification number: C03B33/102 ,  B23K26/0734 ,  B23K26/0823 ,  C03B33/0222 ,  C03B33/04 ,  C03C23/0025 ,  G02B7/02 ,  G02B19/0009 ,  G02B26/10 ,  G02B27/0927 ,  G02B27/0933 ,  G02B27/0955

Abstract: 本发明提供一种激光加工装置、激光加工方法，其将激光束聚光成环状并将其聚光位置照射在基板的厚度范围内，使聚光位置向基板的厚度方向及基板的平面方向位移的过程中，以环状的聚光位置的中心进行圆周运动的方式使聚光位置位移，从而能够实现装置成本的下降，且加工处理时间的缩短。

公开(公告)号：CN102959470B

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：CN201180031708.8

申请日：2011-06-07

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  畑中诚

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1368

CPC classification number: G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其中，形成为能够在与被曝光体的面及光掩模的面平行的面内向箭头(B)方向移动的透镜组装体(11)中，具有将多个单位透镜组装体(11A～11C)以各透镜列(16)的透镜组(15)在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列的方式排列成一列的结构，其中，该多个单位透镜组装体(11A～11C)中，在与箭头(B)方向交叉的方向上以固定的排列间距排列构成为能够将光掩模的掩模图案的等倍正立像成像到被曝光体表面上的多个透镜组(15)而形成多个透镜列(16)，且多个单位透镜组装体(11A～11C)以使各透镜列(16)的各透镜组(15)与相对于箭头(B)方向倾斜交叉的轴线(O-O)平行地排列的方式将各透镜列(16)在与箭头(B)方向交叉的方向上相互错开固定量而形成，且具有与轴线(O-O)平行地切除相互相邻的端部(11Aa、11Ba、11Bb、11Ca)的结构。由此，以高析像力进行大面积的被曝光体上的非周期性的图案的曝光。