公开(公告)号：CN102666014B

公开(公告)日：2017-10-31

申请号：CN201180005050.3

申请日：2011-01-20

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  秋元启孝 ,  成田武宪 ,  木村忠广 ,  龙崎大介

IPC: B24B37/04 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明涉及的悬浮液，含有磨粒和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。本发明涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，磨粒含有4价氢氧化铈粒子，且在将该磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液中，对于波长500nm的光有50%/cm以上的光透过率。

公开(公告)号：CN103497733B

公开(公告)日：2016-11-23

申请号：CN201310335723.2

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  成田武宪 ,  龙崎大介

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

CPC classification number: C09K13/12 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/30625 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液含有磨粒、添加剂和水，磨粒满足下述条件（a）或（b）中的至少任意一个。（a）在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长400nm的光的吸光度在1.50以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。（b）在磨粒的含量被调节至0.0065质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长290nm的光的吸光度在1.000以上的同时，在磨粒的含量被调节至1.0质量%的水分散液中，使该水分散液对于波长500nm的光的透光率在50%/cm以上。

公开(公告)号：CN104335331B

公开(公告)日：2016-09-14

申请号：CN201380026779.8

申请日：2013-03-26

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  南久贵 ,  阿久津利明 ,  藤崎耕司

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: C09G1/02 ,  C01B33/12 ,  C09K3/1436 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053

Abstract: 一种含有磨粒、添加剂和水的悬浮液，磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，并且，在将该磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对波长400nm的光的吸光度为1.00以上，并且，在将所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液中，使该水分散液对波长500nm的光的透光率在50％/cm以上，将所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液的N03‑浓度、与将该水分散液以60℃保持72小时后的N03‑浓度的差为200ppm以下。

公开(公告)号：CN104582899A

公开(公告)日：2015-04-29

申请号：CN201380045013.4

申请日：2013-07-30

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 阿久津利明 ,  南久贵 ,  岩野友洋 ,  藤崎耕司

IPC: B24B37/00 ,  C09K3/14 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09G1/02 ,  B24B37/044 ,  C01F17/0043 ,  C01P2002/84 ,  C01P2004/64 ,  C09K3/1409 ,  C09K3/1463 ,  H01L21/31053 ,  H01L21/76224 ,  C09K3/14

Abstract: 本发明的一个实施方式涉及的研磨剂含有：液态介质、含4价金属元素的氢氧化物的磨粒、具有芳香环及聚氧化烯链的高分子化合物、以及阳离子性聚合物，其中，高分子化合物的重均分子量在1000以上。

公开(公告)号：CN102627914B

公开(公告)日：2014-10-29

申请号：CN201210074729.4

申请日：2010-09-14

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 龙崎大介 ,  成田武宪 ,  星阳介 ,  岩野友洋

IPC: H01L21/304 ,  C09G1/02 ,  H01L21/3105

CPC classification number: C09K3/1463 ,  B24B1/00 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1409 ,  H01L21/31053

Abstract: 本发明提供研磨剂、浓缩一液式研磨剂、二液式研磨剂、基板研磨法。一种研磨剂用于形成有被研磨膜的基板的研磨的应用，所述研磨剂含有：4价金属氢氧化物粒子，阳离子化聚乙烯醇，选自由氨基糖、该氨基糖的衍生物、具有氨基糖的多糖类以及该多糖类的衍生物所组成的组的至少一种糖类，以及水。

公开(公告)号：CN103409108A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201310345238.3

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋

IPC: C09K3/14 ,  C09G1/02

CPC classification number: H01L21/30625 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C09K13/12 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，且，所述磨粒的含量调节至1.0质量%的水分散液，在以1.59×105G的离心加速度离心分离50分钟时，所形成的液层中的不挥发成分的含量在500ppm以上的液层的物质。

公开(公告)号：CN103222036A

公开(公告)日：2013-07-24

申请号：CN201180055798.4

申请日：2011-11-21

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋

IPC: H01L21/304 ,  B24B37/00 ,  C09K3/14

CPC classification number: H01L21/30625 ,  B24B37/044 ,  C09G1/02 ,  C09K3/1463 ,  C09K13/12 ,  H01L21/31053

Abstract: 本实施方式涉及的研磨液，含有磨粒、添加剂和水，所述磨粒含有4价金属元素的氢氧化物，且，所述磨粒的含量调节至1.0质量％的水分散液，在以1.59×105G的离心加速度离心分离50分钟时，所形成的液层中的不挥发成分的含量在500ppm以上的液层的物质。

公开(公告)号：CN107406752B

公开(公告)日：2020-05-08

申请号：CN201680013897.9

申请日：2016-03-08

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 花野真之 ,  西山雅也 ,  乡丰 ,  樱井治彰 ,  岩野友洋

IPC: C09K3/14 ,  B24B37/00 ,  C09G1/02 ,  H01L21/304

Abstract: 一种树脂研磨用研磨剂，其含有磨粒、具有醚键的水溶性高分子、有机溶剂、和水，所述磨粒在研磨剂中具有正电荷，所述磨粒的平均粒径大于20nm。

公开(公告)号：CN111065707A

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201880055358.0

申请日：2018-08-30

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 松本贵彬 ,  岩野友洋 ,  长谷川智康

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  B24B37/00

Abstract: 一种研磨用浆液，其含有磨粒、液状介质和下述式(1)所示的化合物的盐，磨粒含有第1粒子和与该第1粒子接触的第2粒子，第1粒子含有铈氧化物，第2粒子含有4价金属元素的氢氧化物。  [式(1)中，R表示羟基或1价的有机基团。]

公开(公告)号：CN110462796A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880021594.0

申请日：2018-01-29

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  松本贵彬 ,  长谷川智康

IPC: H01L21/304

Abstract: 一种研磨液，其含有磨粒、羟基酸、多元醇、阳离子性化合物和液体介质，所述磨粒的ζ电位为正，所述阳离子性化合物的重均分子量小于1000。