公开(公告)号：CN111868202A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201980020030.X

申请日：2019-03-20

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  松本贵彬 ,  久木田友美 ,  长谷川智康

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 本发明的一方面提供一种研磨液，其含有磨粒、羟基酸、多元醇、选自由氨基羧酸及氨基磺酸组成的组中的至少一种的两性离子化合物以及液态介质，且磨粒的ζ电位为正，氨基羧酸的等电点小于7.0，氨基磺酸的pKa大于0。

公开(公告)号：CN111065707A

公开(公告)日：2020-04-24

申请号：CN201880055358.0

申请日：2018-08-30

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 松本贵彬 ,  岩野友洋 ,  长谷川智康

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304 ,  B24B37/00

Abstract: 一种研磨用浆液，其含有磨粒、液状介质和下述式(1)所示的化合物的盐，磨粒含有第1粒子和与该第1粒子接触的第2粒子，第1粒子含有铈氧化物，第2粒子含有4价金属元素的氢氧化物。  [式(1)中，R表示羟基或1价的有机基团。]

公开(公告)号：CN110462796A

公开(公告)日：2019-11-15

申请号：CN201880021594.0

申请日：2018-01-29

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 岩野友洋 ,  松本贵彬 ,  长谷川智康

IPC: H01L21/304

Abstract: 一种研磨液，其含有磨粒、羟基酸、多元醇、阳离子性化合物和液体介质，所述磨粒的ζ电位为正，所述阳离子性化合物的重均分子量小于1000。

公开(公告)号：CN111868203A

公开(公告)日：2020-10-30

申请号：CN201980020038.6

申请日：2019-03-20

Applicant: 日立化成株式会社

Inventor： 松本贵彬 ,  岩野友洋 ,  长谷川智康 ,  久木田友美

IPC: C09K3/14 ,  H01L21/304

Abstract: 一种研磨液，其含有磨粒、羟基酸、具有选自由羟基及酰胺基组成的组中的至少一种的高分子化合物以及液态介质，且所述磨粒的ζ电位为正，所述高分子化合物的重均分子量为3000以上。