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公开(公告)号：CN117170171B
公开(公告)日：2024-03-01
申请号：CN202311136550.1
申请日：2023-09-05
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了梯度多层膜耦合针孔阵列的多色单能成像系统及设计方法，定性分析单针孔配合多层膜成像时不同的靶丸尺寸、针孔孔径情况下掠入射角θ变化与成像单能性之间的关系，给出在满足单能成像条件下周期厚度变化与各结构参数之间的数值关系；扩展至针孔阵列，分析不同参数的针孔阵列排布对诊断效果的影响；确定系统的结构参数；利用激光等离子体辐射的X射线信号，进行离线实验，对性能进行验证。能够在光学测量直接实现高能谱分辨的多色单能成像能力，有效避免现有多色单能X射线成像方
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公开(公告)号：CN114659462A
公开(公告)日：2022-06-24
申请号：CN202210224144.X
申请日：2022-03-09
Applicant: 同济大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明涉及一种一维轮廓测量辅助修正的子孔径拼接干涉检测方法，该方法包括：先利用干涉仪，使用全局拼接算法拼接测量待测反射元件表面面形，获得拼接测试面，再利用一维轮廓测量设备测量待测反射元件在拼接区域中心线的一维轮廓L，之后结合一维轮廓测量结果对所述拼接测试面进行修正，最终获得高精度测量面。与现有技术相比，本发明具有可提高拼接后面形绝对精度、方便易行、简单有效等优点。
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公开(公告)号：CN108359950B
公开(公告)日：2019-12-31
申请号：CN201810167868.9
申请日：2018-02-28
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种单色器用钌/碳化硼多层膜反射镜制备方法，包括以下步骤：在溅射镀膜腔内的样品架上放置基底，并对溅射镀膜腔进行抽真空，形成溅射镀膜真空腔；在所述溅射镀膜真空腔充入混合气体，所述混合气体由氩气和氮气混合而成，且混合气体的混合比例范围为16％‑30％，所述混合比例指氮气分压占混合气体总压强的百分比；执行钌靶材和碳化硼靶材的预溅射；完成钌膜层和碳化硼膜层交替的钌/碳化硼多层膜反射镜的镀制。与现有技术相比，本发明制备的钌/碳化硼多层膜应力大幅度降低，且不会降低反射率。该方法工艺重复性高，可控性强，在高通量多层膜单色器元件和相应的X射线光学仪器领域有重要应用。
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公开(公告)号：CN107142456B
公开(公告)日：2019-03-29
申请号：CN201710247265.5
申请日：2017-04-17
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种双功能柱对称大尺寸高均匀性线型磁控靶镀膜设备。该设备在圆形真空腔中心安放用于夹持凸形柱面镜的转动轴，在外围安装用于安放凹形柱面镜的转动圆环，在转动圆环和转动轴之间安放竖直摆放的线型磁控溅射靶枪，靶枪前安放有可以旋转的气动挡板。通过改变靶枪朝向和调整靶枪在真空腔内的径向位置，可使靶枪分别指向转动圆环和转动轴，并对安装在转动圆环上的凹形柱面镜或者是安装在转动轴上的凸形柱面镜进行镀制。通过改变靶枪前的气动挡板的开关以及转动圆环和转动轴的转动速率完成对薄膜制备工艺的控制。
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公开(公告)号：CN109243661A
公开(公告)日：2019-01-18
申请号：CN201811150730.4
申请日：2018-09-29
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种侧壁倾斜式X射线层状多层膜光栅结构，包括周期分布的多层膜堆，多层膜堆中心位置与每个光栅周期的中心位置重合，多层膜堆占宽比从顶部到底部单调增大，所述占宽比指多层膜堆任意高度位置上的横向宽度与光栅周期的比值，周期膜层厚度也由表面到基底单调变化。与现有技术相比，本发明一方面克服了传统侧壁垂直的大高宽比层状多层膜光栅结构制作难度大、机械稳定性差的缺点，显著提高光栅元件的稳定性和使用寿命，且光栅最高效率不变；另一方面上窄下宽的膜堆结构能进一步提高X射线的有效穿透深度，从而可获得更高的分辨率和光谱纯度。本发明可作为高分辨率X射线光谱测量的关键反射元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119152993A
公开(公告)日：2024-12-17
申请号：CN202411144212.7
申请日：2024-08-20
Applicant: 同济大学
IPC: G16C60/00 , G16C20/20 , G06F30/20 , G06F111/10
Abstract: 本发明涉及一种X射线掠入射宽光谱多层膜结构设计方法，包括以下步骤：基于耦合波理论，考虑材料对X射线的吸收特性，建立X射线非周期多层膜结构解析理论；确定非周期多层膜结构的材料、膜对数及膜厚范围及目标反射率，获取非周期多层膜结构近似解；建立评价函数，以所述近似解作为初始结构，进行数值计算优化，得到具有目标反射率曲线的多层膜结构；选取匹配优化后多层膜结构的闪耀光栅结构参数，得到具有宽光谱高效率的掠入射多层膜闪耀光栅。与现有技术相比，本发明通过解析理论结合数值计算的方式，解决从目标反射率到非周期多层膜结构的逆问题，获得具有目标光谱反射率响应分布下高反射率性能的多层膜结构和宽光谱高衍射效率的多层膜光栅。
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公开(公告)号：CN108203808B
公开(公告)日：2024-11-08
申请号：CN201711007075.2
申请日：2017-10-25
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明涉及一种提高X射线反射镜薄膜均匀性和生产效率的方法及装置，所述方法利用线型磁控溅射靶枪进行反射镜镀膜，通过在靶枪的溅射方向设置掩膜版调节反射镜上薄膜长度方向的膜厚均匀性，同时控制反射镜经过靶枪的速度调节反射镜的膜厚及反射镜上薄膜宽度方向的均匀性。与现有技术相比，本发明能实现多个反射镜不同位置的厚度均匀性偏差在2％以内，保证膜厚均匀性的同时提高生产效率。
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公开(公告)号：CN117170171A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202311136550.1
申请日：2023-09-05
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明公开了梯度多层膜耦合针孔阵列的多色单能成像系统及设计方法，定性分析单针孔配合多层膜成像时不同的靶丸尺寸、针孔孔径情况下掠入射角θ变化与成像单能性之间的关系，给出在满足单能成像条件下周期厚度变化与各结构参数之间的数值关系；扩展至针孔阵列，分析不同参数的针孔阵列排布对诊断效果的影响；确定系统的结构参数；利用激光等离子体辐射的X射线信号，进行离线实验，对性能进行验证。能够在光学测量直接实现高能谱分辨的多色单能成像能力，有效避免现有多色单能X射线成像方法存在的单能效果差和信号失真等问题，为激光等离子体X射线信息在空间、能谱以及时间维度的同步获取通过了一种有价值的途径。
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公开(公告)号：CN116305639A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310239709.6
申请日：2023-03-14
Applicant: 同济大学
IPC: G06F30/17 , G21K1/06 , G06F111/04 , G06F119/12
Abstract: 本发明涉及一种同步辐射等光束线站用反射镜的二维面形修正方法，该方法包括以下步骤：步骤1：利用离子束一维修形设备根据待修正光学元件的二维面形特征设计多组一维复合修正路径；步骤2：在离子束一维修形设备与待修正光学元件的镜面之间安装多个具有设定尺寸的圆形通孔的掩模板，以在镜面宽度方向不同位置生成近高斯型的离子束斑；步骤3：基于离子束斑依次对不同宽度位置的面形进行一维修正，以达到高精度整体二维修正的效果。与现有技术相比，本发明具有能实现大尺寸长条形X射线反射镜二维面形修正以及大大降低设备成本等优点。
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公开(公告)号：CN115132396A
公开(公告)日：2022-09-30
申请号：CN202210840993.8
申请日：2022-07-18
Applicant: 同济大学
Abstract: 本发明提供一种用于中子自旋翻转器的多层中子薄膜自旋翻转元件及其制作方法，一种用于中子自旋翻转器的多层中子薄膜自旋翻转元件包括双面抛光的超光滑硅片基底、多层铁硅合金薄膜层和多层铬薄膜层，多层铁硅合金薄膜层与多层铬薄膜层依次交替沉积于超光滑硅片基底表面，多层中子薄膜自旋翻转元件的顶层为铬薄膜层；多层中子薄膜自旋翻转元件的制备方法中，铁硅合金薄膜层及铬薄膜层的制备工艺都为磁控溅射，本发明主要以铁硅合金薄膜层为主，采用铬薄膜层作为插层的方法提升薄膜的饱和磁感应强度，使薄膜的饱和磁感应强度超过了1T，铬薄膜层可以有效调控铁硅合金薄膜层的微观结构，促进合理晶面的生长，抑制不需要晶面的生长。
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