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公开(公告)号：CN116305639A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310239709.6
申请日：2023-03-14
Applicant: 同济大学
IPC: G06F30/17 , G21K1/06 , G06F111/04 , G06F119/12
Abstract: 本发明涉及一种同步辐射等光束线站用反射镜的二维面形修正方法，该方法包括以下步骤：步骤1：利用离子束一维修形设备根据待修正光学元件的二维面形特征设计多组一维复合修正路径；步骤2：在离子束一维修形设备与待修正光学元件的镜面之间安装多个具有设定尺寸的圆形通孔的掩模板，以在镜面宽度方向不同位置生成近高斯型的离子束斑；步骤3：基于离子束斑依次对不同宽度位置的面形进行一维修正，以达到高精度整体二维修正的效果。与现有技术相比，本发明具有能实现大尺寸长条形X射线反射镜二维面形修正以及大大降低设备成本等优点。
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