公开(公告)号：CN101133366B

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN200680006791.2

申请日：2006-04-07

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 石川薰 ,  三隅浩一 ,  斋藤宏二

IPC: G03F7/32 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/322

Abstract: 本发明提供一种可以形成良好的厚膜抗蚀图形、且起泡少的显影液组合物。该显影液组合物，其是用于在支承体上形成厚膜抗蚀图形的显影液组合物，其中，含有作为主剂的有机季铵盐基、用下述通式(I)表示的阴离子型表面活性剂、和从硅酮系消泡剂、醇系消泡剂及非离子表面活性剂系消泡剂中选择的消泡剂。(I)式中的R1是碳数为5～18的烷基或烷氧基，a是1或2；R2、R3是独立的磺酸铵基、磺酸取代铵基或下述通式(II)表示的基团，b是0或1～3的整数；c是1～3的整数。—SO3M···(II)(II)式中M是金属原子。

公开(公告)号：CN101297010B

公开(公告)日：2010-12-08

申请号：CN200680039580.9

申请日：2006-10-23

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 三隅浩一 ,  宫城贤 ,  宫成淳 ,  稻尾吉浩

IPC: C09J133/06 ,  C09J7/02 ,  B24B37/04 ,  H01L21/301 ,  H01L21/304

CPC classification number: C09J133/06 ,  B24B37/30 ,  B24B37/34 ,  C09J7/385 ,  C09J133/08 ,  C09J133/10 ,  C09J2203/326 ,  H01L21/67132 ,  H01L21/6835 ,  H01L21/6836 ,  H01L2221/68327 ,  H01L2221/6834 ,  Y10T428/2861 ,  Y10T428/2891 ,  Y10T428/31935

Abstract: 本发明提供一种粘接剂组合物以及包含此粘接剂组合物的粘接薄膜，所述粘接剂组合物，加热时所产生的气体少(吸湿性低)，耐碱性也高，具有200℃以上的耐热性，并且容易利用剥离液进行剥离。本发明制备一种至少以丙烯酸类聚合物作为主成分的粘接剂组合物，所述丙烯酸类聚合物包含(a)苯乙烯、(b)含环状骨架的(甲基)丙烯酸酯单体以及(c)(甲基)丙烯酸烷基酯单体。另外，利用所述粘接剂组合物来形成粘接薄膜的粘接剂组合物层。

公开(公告)号：CN101248390A

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：CN200680009936.4

申请日：2006-03-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 三隅浩一 ,  鹫尾泰史 ,  先崎尊博 ,  斋藤宏二

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/60

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0397 ,  H01L24/11 ,  H01L24/13 ,  H01L2224/1146 ,  H01L2224/1147 ,  H01L2224/131 ,  H01L2224/13144 ,  H01L2224/13147 ,  H01L2224/13155 ,  H01L2224/81192 ,  H01L2924/01005 ,  H01L2924/01006 ,  H01L2924/01013 ,  H01L2924/01019 ,  H01L2924/01024 ,  H01L2924/01029 ,  H01L2924/01033 ,  H01L2924/01057 ,  H01L2924/01073 ,  H01L2924/01074 ,  H01L2924/01078 ,  H01L2924/01079 ,  H01L2924/014 ,  H01L2924/15747 ,  H01L2924/15788 ,  H01L2924/3025 ,  H05K3/0076 ,  H05K3/0079 ,  H05K3/3452 ,  H01L2924/00014 ,  H01L2924/00

Abstract: 这种正性光致抗蚀剂组合物是用于曝光到具有选自g－射线、h－射线和i－射线中的一种或多种波长的光的正性光致抗蚀剂组合物，该组合物包括：(A)在活性射线或辐射的辐照下产生酸的化合物，和(B)树脂，所述的树脂在碱中的溶解性通过酸的作用得到提高，其中所述组分(A)包含在阳离子部分具有萘环的鎓盐(A1)。

公开(公告)号：CN101142530A

公开(公告)日：2008-03-12

申请号：CN200680008846.3

申请日：2006-03-22

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 三隅浩一 ,  奥井俊树

IPC: G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0397 ,  C07D251/02 ,  C08F220/18 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0392 ,  H01L21/0274

Abstract: 本发明是提供一种，除了其他优点以外，对在基板上形成比较厚的光致抗蚀剂膜用为合适的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物。本案组合物含有，(A)光酸产生剂，(B)因酸的作用对碱溶液的溶解性增大的碱不溶性树脂，(C)碱可溶性树脂及(D)有机溶剂，其中组分(C)是(C1)聚羟基苯乙烯或至少含有80质量％的羟基苯乙烯单元的共聚物，其量相对于(B)成分与(C)成分合计量100质量份，不超过15质量份的量。

公开(公告)号：CN114761498A

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202080082423.6

申请日：2020-11-20

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 千坂博树 ,  铃木航 ,  三隅浩一

IPC: C09D11/101 ,  C08F2/46 ,  C09D11/38 ,  G02B1/04 ,  C08F220/38

Abstract: 本发明提供能形成兼具高折射率和高透明性的固化物的液态的感光性油墨组合物、该感光性油墨组合物的固化物、具备由该固化物形成的膜的显示面板、和使用前述的感光性油墨组合物的固化物的制造方法。在包含光聚合性化合物(A)、和光聚合引发剂(C)的感光性油墨组合物中，使用特定结构的硫醚化合物(A1)、和特定结构的(甲基)丙烯酸酯化合物(A2)作为光聚合性化合物(A)，使用氧化膦化合物(C1)、和肟酯化合物(C2)作为光聚合引发剂(C)。

公开(公告)号：CN106019862B

公开(公告)日：2021-02-05

申请号：CN201610186764.3

申请日：2016-03-29

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 千坂博树 ,  野田国宏 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: G03F7/32 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明的课题在于提供一种抑制迁移或基板、布线的表面氧化的效果优异的光刻用显影液及抗蚀图案形成方法。本发明的解决手段为一种光刻用显影液，所述光刻用显影液含有(A)下述通式(1)表示的咪唑化合物和(B)水及/或有机溶剂。式(1)中，R1为氢原子或烷基，R2为可以具有取代基的芳香族基，R3为可以具有取代基的亚烷基，R4各自独立地为卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n为0～3的整数。

公开(公告)号：CN106256872B

公开(公告)日：2021-01-12

申请号：CN201610431454.3

申请日：2016-06-16

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 千坂博树 ,  野田国宏 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: C09K13/00 ,  H01L21/308 ,  G02F1/1362

Abstract: 本发明涉及蚀刻组合物及传导膜的制造方法。本发明的课题在于提供可抑制基板表面的铜等的腐蚀的蚀刻组合物、及使用该蚀刻组合物的传导膜的制造方法。本发明的蚀刻组合物含有氧化剂、水、及下述通式(1a)表示的腐蚀抑制剂。式(1a)中，R各自独立地表示氢原子或1价的有机基团，R2表示可以具有取代基的芳香族基，R4各自独立地表示卤素原子、羟基、巯基、硫醚基、甲硅烷基、硅烷醇基、硝基、亚硝基、磺酸盐/酯基、膦基、氧膦基、膦酸盐/酯基、或有机基团，n表示0～3的整数。上述R可以与另一个R或R2键合而形成环状结构。

公开(公告)号：CN110317174A

公开(公告)日：2019-10-11

申请号：CN201910242189.8

申请日：2019-03-27

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 引田二郎 ,  染谷和也 ,  三隅浩一 ,  盐田大

IPC: C07D233/60 ,  C07D487/04 ,  C07F9/22 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027

Abstract: 本发明涉及氢阻隔剂、氢阻隔膜形成用组合物、氢阻隔膜、氢阻隔膜的制造方法、及电子元件。本发明的课题在于提供能向各种材料赋予氢阻隔性能的氢阻隔剂、包含该氢阻隔剂的氢阻隔膜形成用组合物、包含前述的氢阻隔剂的氢阻隔膜、使用了前述的氢阻隔膜形成用组合物的氢阻隔膜的制造方法、和具备氢阻隔膜的电子元件。使用具有咪唑基的特定结构的盐化合物作为氢阻隔剂。另外，将前述的氢阻隔剂配合至基材成分中，制备氢阻隔膜形成用组合物。进而，使用前述的氢阻隔膜形成用组合物，形成氢阻隔膜。

公开(公告)号：CN103597615A

公开(公告)日：2014-02-19

申请号：CN201280027586.X

申请日：2012-06-08

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 桑原大 ,  三隅浩一 ,  宫本英典

IPC: H01L31/0749 ,  H01L31/032

CPC classification number: H01L31/0749 ,  H01L31/0322 ,  H01L31/0326 ,  Y02E10/541

Abstract: 本发明提供一种肼配位Cu硫属化物络合物，其是通过在肼的存在下使Cu或Cu2Se与硫属元素在不含胺系溶剂的二甲基亚砜中反应、并在所得到的溶液中加入不良溶剂或对所得到的溶液进行浓缩和过滤而得到的。

公开(公告)号：CN101065709B

公开(公告)日：2011-11-02

申请号：CN200580040726.7

申请日：2005-11-28

Applicant: 东京应化工业株式会社

Inventor： 三隅浩一 ,  斋藤宏二 ,  石川薰

IPC: G03F7/11 ,  G03F7/039

CPC classification number: H05K3/108 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/11 ,  H05K3/384 ,  H05K2201/0317

Abstract: 本发明用于制造抗蚀图案的方法包括：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型正性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层，获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。