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公开(公告)号：CN101133366A
公开(公告)日：2008-02-27
申请号：CN200680006791.2
申请日：2006-04-07
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/322
Abstract: 本发明提供一种可以形成良好的厚膜抗蚀图形、且起泡少的显影液组合物。该显影液组合物，其是用于在支承体上形成厚膜抗蚀图形的显影液组合物，其中，含有作为主剂的有机季铵盐基、用下述通式(I)表示的阴离子型表面活性剂、和从硅酮系消泡剂、醇系消泡剂及非离子表面活性剂系消泡剂中选择的消泡剂。(I)式中的R1是碳数为5～18的烷基或烷氧基，a是1或2；R2、R3是独立的磺酸铵基、磺酸取代铵基或下述通式(II)表示的基团，b是0或1～3的整数；c是1～3的整数。(II)式中M是金属原子。
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公开(公告)号：CN1809791A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200480017491.5
申请日：2004-06-22
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32
CPC classification number: G03F7/322
Abstract: 一种用于抗蚀剂的显影剂组合物，其具有高的溶解速率(高显影灵敏度)。所述用于抗蚀剂的显影剂组合物是这样的一种用于抗蚀剂的显影剂组合物，其包括作为主要组分的有机季铵碱和表面活性剂，所述表面活性剂含有通式(I)表示的阴离子表面活性剂，其中R1和R2中的至少一个表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且任何剩余的基团都表示氢原子，或者表示含5～18个碳原子的烷基或烷氧基，并且R3、R4和R5中的至少一个表示通式(II)所示的基团：－SO3M…(II)，其中M表示金属原子，而且任何剩余的基团都表示氢原子或上述通式(II)所示的基团。
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公开(公告)号：CN1969231B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200580019167.1
申请日：2005-05-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0035 , G03F7/0382 , G03F7/095 , H05K3/243 , H05K2203/0577 , H05K2203/1105 , H05K2203/1476
Abstract: 一种方法，其提供能够形成具有大的电镀深度的多层次电镀产品。采用了一种负性光刻胶组合物，该组合物包含(a)碱溶树脂、(b)酸生成剂和(c)其它组分，并且通过如下步骤形成电镀产品：步骤(A)，形成这种负性光刻胶组合物的层，然后在进行曝光之前进行加热或不加热；步骤(B)，重复所述步骤(A)，使所述步骤(A)进行总计为2次或更多次，以使所述负性光刻胶层叠加，然后将所有这些层同时显影，以形成多层抗蚀剂图案；以及步骤(C)，在这种多层抗蚀剂图案内进行电镀处理。
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公开(公告)号：CN101065707A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200580040710.6
申请日：2005-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/11 , H05K3/108 , H05K3/384 , H05K2201/0317
Abstract: 本发明用于制造抗蚀图案的方法是包括下列步骤的用于制造抗蚀图案的方法：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型负性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层以获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。
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公开(公告)号：CN101065707B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200580040710.6
申请日：2005-11-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/11 , H05K3/108 , H05K3/384 , H05K2201/0317
Abstract: 本发明用于制造抗蚀图案的方法是包括下列步骤的用于制造抗蚀图案的方法：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型负性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层以获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1842741B
公开(公告)日：2010-11-24
申请号：CN200480005670.7
申请日：2004-12-03
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/114 , Y10S430/128
Abstract: 本发明提供一种化学放大型光致抗蚀剂组合物，含有(a)在酸的作用下碱溶解性发生变化的树脂、(b)通过放射线照射产生酸的化合物和(c)防锈剂。由此，本发明可提供在放射线照射前碱溶解性不会发生变化的稳定的化学放大型光致抗蚀剂组合物、以及在支撑体上层叠了该光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂层层叠体、使用了该层叠体的光致抗蚀图案制造方法以及连接端子制造方法。
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公开(公告)号：CN101065709A
公开(公告)日：2007-10-31
申请号：CN200580040726.7
申请日：2005-11-28
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: H05K3/108 , G03F7/0397 , G03F7/11 , H05K3/384 , H05K2201/0317
Abstract: 本发明用于制造抗蚀图案的方法包括：层压(a)具有其上存在铜的上表面的载体，(b)由从无机物质源供应的无机物质组成的无机物质层，和(c)由化学放大型正性光致抗蚀剂组合物组成的光致抗蚀剂层，获得光致抗蚀剂层压材料的步骤；将激活光或放射线选择性辐照到所述光致抗蚀剂层压材料上的步骤；和将所述(c)光致抗蚀剂层与所述(b)无机物质层一起显影以形成抗蚀图案的步骤。
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公开(公告)号：CN1842741A
公开(公告)日：2006-10-04
申请号：CN200480005670.7
申请日：2004-12-03
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0382 , G03F7/0392 , Y10S430/114 , Y10S430/128
Abstract: 本发明提供一种化学放大型光致抗蚀剂组合物，含有(a)在酸的作用下碱溶解性发生变化的树脂、(b)通过放射线照射产生酸的化合物和(c)防锈剂。由此，本发明可提供在放射线照射前碱溶解性不会发生变化的稳定的化学放大型光致抗蚀剂组合物、以及在支撑体上层叠了该光致抗蚀剂组合物的光致抗蚀剂层层叠体、使用了该层叠体的光致抗蚀图案制造方法以及连接端子制造方法。
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公开(公告)号：CN1802609B
公开(公告)日：2011-11-02
申请号：CN200480015871.5
申请日：2004-06-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/32
CPC classification number: G03F7/322
Abstract: 提供一种抗蚀剂用显影剂组合物，该组合物可以改善抗蚀图案的尺寸控制性。抗蚀剂用显影剂组合物包含作为主要组分的有机季铵碱，所述显影剂组合物还包含由下面的通式(I)表示的阴离子表面活性剂和SO42-，且SO42-的含量为0.01至1质量％。在式(I)中，R1和R2中的至少一个表示含有5至18个碳原子的烷基或烷氧基，且另一个表示氢原子、或含有5至18个碳原子的烷基或烷氧基，并且R3、R4和R5中的至少一个表示磺酸铵基或磺酸取代的铵基，并且其余表示氢原子、磺酸铵基或磺酸取代的铵基。
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公开(公告)号：CN101203807B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200680021965.2
申请日：2006-05-26
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/004
CPC classification number: G03F7/161
Abstract: 本发明提供光刻胶膜卷材及其制造方法，该光刻胶膜卷材在感光性树脂层具有流动性且柔软的情况下可以防止冷流，在感光性树脂层硬的情况下可以抑制切断时产生碎片。光刻胶膜卷材中，按照感光性树脂层(2)的宽度小于支持膜(1a)的宽度的形式进行涂布，并且按照感光性树脂层(2)的宽度小于保护膜(1b)的宽度的形式进行粘接。
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