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公开(公告)号：CN107272343A
公开(公告)日：2017-10-20
申请号：CN201710196931.7
申请日：2017-03-29
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , C08F220/18 , C08F2800/20 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2004 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/40 , C08F2220/1858 , C08F2220/281 , C08F2220/1825 , C08F220/06 , G03F7/0395 , H01L21/0274
Abstract: 本发明提供能够使用低pH的碱性水溶液良好地进行显影的化学放大型正型光致抗蚀剂组合物、具备由该化学放大型正型光致抗蚀剂组合物形成的感光性膜的带感光性膜的基板、以及使用该化学放大型正型光致抗蚀剂组合物的被图案化的抗蚀剂膜的形成方法。本发明的化学放大正型感光性树脂组合物含有利用活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂(A)、在酸的作用下而对碱的溶解性增大的树脂(B)和有机溶剂(S)，其中，使规定量树脂(B)中含有第一树脂(B1)，所述第一树脂(B1)是在可溶于pH12的碱性水溶液的碱可溶性树脂所具有的碱可溶性基的至少一部分中、碱可溶性基的氢原子被酸解离性溶解抑制基取代的树脂。
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公开(公告)号：CN1969231A
公开(公告)日：2007-05-23
申请号：CN200580019167.1
申请日：2005-05-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0035 , G03F7/0382 , G03F7/095 , H05K3/243 , H05K2203/0577 , H05K2203/1105 , H05K2203/1476
Abstract: 一种方法，其提供能够形成具有大的电镀深度的多层次电镀产品。采用了一种负性光刻胶组合物，该组合物包含(a)碱溶树脂、(b)酸生成剂和(c)其它组分，并且通过如下步骤形成电镀产品：步骤(A)，形成这种负性光刻胶组合物的层，然后在进行曝光之前进行加热或不加热；步骤(B)，重复所述步骤(A)，使所述步骤(A)进行总计为2次或更多次，以使所述负性光刻胶层叠加，然后将所有这些层同时显影，以形成多层抗蚀剂图案；以及步骤(C)，在这种多层抗蚀剂图案内进行电镀处理。
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公开(公告)号：CN106933034B
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN201611043624.7
申请日：2016-11-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/022 , G03F7/004 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供正型光致抗蚀剂组合物、具备包含该正型光致抗蚀剂组合物的感光膜的带感光膜的基板、以及使用该正型光致抗蚀剂组合物的图案化的抗蚀剂膜的形成方法。在包含(A)线型酚醛树脂和(B)感光剂、或者包含含有萘醌二叠氮基的(A’)线型酚醛树脂的正型感光性组合物中，使(A)线型酚醛树脂中含有规定量的可溶于pH12的碱性水溶液的规定结构的(A1)线型酚醛树脂、或者使用来自包含规定量该(A1)线型酚醛树脂的(A)线型酚醛树脂的(A’)线型酚醛树脂。
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公开(公告)号：CN1823108A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200480019981.9
申请日：2004-07-13
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种正型光刻胶组合物，其能够形成具有优异分辨率、优异的耐离开基材的反射性和优异垂直度的图案。该正型光刻胶组合物包含：(A)碱溶性酚醛清漆树脂，其中所有酚式羟基的部分氢原子被1，2－萘醌二叠氮磺酰基所取代，和(B)由下面所示的通式(b－1)和/或通式(b－11)表示的溶解促进剂。
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公开(公告)号：CN114902134A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202080089487.9
申请日：2020-12-01
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种容易形成分辨率以及尺寸控制性高且截面形状的矩形性良好的抗蚀剂图案的化学放大型正型感光性组合物、具备由该化学放大型正型感光性组合物构成的感光性层的感光性干膜、该感光性干膜的制造方法、使用所述化学放大型正型感光性组合物的图案化的抗蚀剂膜的制造方法、掺混在化学放大型正型感光性组合物中的酸扩散抑制剂。在包含通过活性光线或放射线的照射而产生酸的产酸剂(A)与对碱的溶解性因酸的作用而增大的树脂(B)的化学放大型正型感光性组合物中掺混特定结构的酸扩撒抑制剂(C)。
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公开(公告)号：CN106933034A
公开(公告)日：2017-07-07
申请号：CN201611043624.7
申请日：2016-11-21
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/022 , G03F7/004 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0392 , G03F7/0035 , G03F7/004 , G03F7/0226 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供正型光致抗蚀剂组合物、具备包含该正型光致抗蚀剂组合物的感光膜的带感光膜的基板、以及使用该正型光致抗蚀剂组合物的图案化的抗蚀剂膜的形成方法。在包含(A)线型酚醛树脂和(B)感光剂、或者包含含有萘醌二叠氮基的(A’)线型酚醛树脂的正型感光性组合物中，使(A)线型酚醛树脂中含有规定量的可溶于pH12的碱性水溶液的规定结构的(A1)线型酚醛树脂、或者使用来自包含规定量该(A1)线型酚醛树脂的(A)线型酚醛树脂的(A’)线型酚醛树脂。
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公开(公告)号：CN1969231B
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：CN200580019167.1
申请日：2005-05-10
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: G03F7/0035 , G03F7/0382 , G03F7/095 , H05K3/243 , H05K2203/0577 , H05K2203/1105 , H05K2203/1476
Abstract: 一种方法，其提供能够形成具有大的电镀深度的多层次电镀产品。采用了一种负性光刻胶组合物，该组合物包含(a)碱溶树脂、(b)酸生成剂和(c)其它组分，并且通过如下步骤形成电镀产品：步骤(A)，形成这种负性光刻胶组合物的层，然后在进行曝光之前进行加热或不加热；步骤(B)，重复所述步骤(A)，使所述步骤(A)进行总计为2次或更多次，以使所述负性光刻胶层叠加，然后将所有这些层同时显影，以形成多层抗蚀剂图案；以及步骤(C)，在这种多层抗蚀剂图案内进行电镀处理。
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公开(公告)号：CN1849559B
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：CN200480026115.2
申请日：2004-08-19
Applicant: 东京应化工业株式会社
IPC: G03F7/023
CPC classification number: G03F7/023 , G03F7/0236
Abstract: 提供一种提高正型光刻胶组合物显影速度的手段，所述的组合物含有光敏酚醛清漆树脂，其是通过用1，2-萘醌二叠氮磺酰基取代碱溶性酚醛清漆树脂的所有酚式羟基的那些氢原子中的一些氢原子而形成的。该手段是一种正型光刻胶组合物及使用该组合物形成光刻胶图案的方法，该组合物含有溶解于(B)丙二醇烷基醚乙酸酯的(A)光敏酚醛清漆树脂，其中所述碱溶性酚醛清漆树脂的所有酚式羟基的那些氢原子中的一些氢原子被1，2-萘醌二叠氮磺酰基所取代。
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公开(公告)号：CN100404573C
公开(公告)日：2008-07-23
申请号：CN200480020267.1
申请日：2004-07-15
Applicant: 东京应化工业株式会社
CPC classification number: C08G8/10 , C08L61/06 , G03F7/0236
Abstract: 一种包含碱溶性酚醛清漆树脂(A)和光敏剂(B)的正性光致抗蚀剂组合物，所述碱溶性酚醛清漆树脂(A)含有下列通式(I)表示的结构单元(a1)和下列通式(II)表示的结构单元(a2)。
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公开(公告)号：CN100395273C
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：CN200480019981.9
申请日：2004-07-13
Applicant: 东京应化工业株式会社
Abstract: 本发明提供一种正型光刻胶组合物，其能够形成具有优异分辨率、优异的耐离开基材的反射性和优异垂直度的图案。该正型光刻胶组合物包含：(A)碱溶性酚醛清漆树脂，其中所有酚式羟基的部分氢原子被1，2-萘醌二叠氮磺酰基所取代，和(B)由下面所示的通式(b-1)和/或通式(b-11)表示的溶解促进剂。
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