公开(公告)号：CN100409424C

公开(公告)日：2008-08-06

申请号：CN200610073620.3

申请日：2006-04-13

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 柿村崇 ,  山本广

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  H01L21/00

Abstract: 本发明的目的在于提供一种在处理基板期间使基板适当支撑在支撑台上、同时在将基板装载到支撑台上或者从支撑台举起时也可以适当处理基板的机构。设置与基板(90)的周边部接触的第一支撑销(33)、与基板的中央部接触的第二支撑销(34)。第一支撑销的下端由固定设置在升降板(351)上的滑动接触板(352)支撑，第二支撑销的下端由提高加固构件(354)支撑。以贯通固定设置在升降板上的滑动接触板(353)的方式配置提高加固构件的下部，相对于升降板在规定的范围内升降自由地支撑。以第二支撑销以及提高加固构件的上下方向的尺寸加起来等于从保持面(30)到固定板(350)的上表面的尺寸的方式来设计。

公开(公告)号：CN100406139C

公开(公告)日：2008-07-30

申请号：CN200510120262.2

申请日：2005-11-09

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 高村幸宏 ,  增市干雄 ,  松家毅 ,  铃木聪 ,  西牟田浩史

IPC: B05C5/04 ,  B05C11/10 ,  B05D5/06 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明提供一种涂布装置，其具有喷嘴(521～523)、载物台(21)、喷嘴移动机构部(51)、及接液部(53)。喷嘴(521～523)将液柱状态的涂布液排出到基板上。载物台(21)将基板载置在其上面。喷嘴移动机构部(51)在载物台(21)上的空间，在横穿载物台面的方向使喷嘴(521～523)往复移动。接液部(53)在上面形成与上述横穿方向平行的狭缝状的开口，在喷嘴移动机构部(51)在从载物台(21)上偏离的位置使喷嘴(521～523)移动时，通过此开口回收排出的液柱状态的涂布液。

公开(公告)号：CN100405570C

公开(公告)日：2008-07-23

申请号：CN200510071399.3

申请日：2005-05-20

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 吉冈均

IPC: H01L21/68 ,  H01L21/027 ,  G03F7/16 ,  G03F7/26

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，可缩短基板处理装置的全长，并可降低装置的制造成本。本发明的基板处理装置中，基板运送机器人(411)的基部(4113)及中间台(4112)，使手部(4111)在运送室(41a)和与其邻接设置的边缘冲洗部(34)之间进退动作，从而进行边缘冲洗部(34)和运送室(41a)之间的基板运送。这样，在邻接运送室(41a)的边缘冲洗部(34)和运送室(41a)之间，通过运送室(41a)的基板运送机器人(411)的手部(4111)，就可以不必经过传送机构等其他机构而将基板G直接从边缘冲洗部(34)移动到运送室(41a)。

公开(公告)号：CN101221918A

公开(公告)日：2008-07-16

申请号：CN200710305600.9

申请日：2007-12-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 光吉一郎

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/683 ,  B65G49/07 ,  B65G49/06

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/67781

Abstract: 本发明提供一种基板搬运装置、基板承载架和基板处理装置，该基板处理装置由分度器区和处理区组成，利用分度器机器人在分度器区和处理区之间搬运基板。分度器机器人包括在转动台上设置的上下的两个手部。一手部相对于另一手部沿铅垂方向移动。一手部和另一手部的高度差能够调整得与运载器的基板容置槽之间的间隔相同，该运载器容置有被搬入到分度器区内的基板。一手部和另一手部的高度差能够调整得与设置在分度器区和处理区之间的基板承载部的支承板之间的间隔相同。

公开(公告)号：CN101211812A

公开(公告)日：2008-07-02

申请号：CN200710308112.3

申请日：2007-12-27

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 光吉一郎

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/677 ,  H01L21/67 ,  H01L21/00 ,  B65G47/248 ,  B65G49/07 ,  B65G49/06 ,  B08B3/00

CPC classification number: B65G49/067 ,  B65G49/061 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/68714

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置。反转装置包括固定板、以与固定板的一面相对向的方式设置的第一可动板、以与固定板的另一面相对向的方式设置的第二可动板以及旋转式促动器。旋转式促动器使第一可动板、第二可动板以及固定板围绕水平轴旋转。第一可动板与固定板之间的距离以及第二可动板与固定板之间的距离设定得与搬入搬出基板的主机械手的两个手部的高度差大致相等。

公开(公告)号：CN101204708A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200710160337.9

申请日：2007-12-19

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 桥诘彰夫

IPC: B08B9/08 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/67023 ,  H01L21/6708

Abstract: 本发明提供一种回收杯清洗方法和基板处理装置，该回收杯清洗方法是对回收杯进行清洗的方法，回收杯具有对回收空间划分的内壁，为回收引入至该回收空间的药液而将该药液引向给定的药液回收路径，其中，该回收空间引入有在基板处理中使用过的药液，该方法包括：清洗液清洗步骤，采用清洗液对所述回收空间的内壁进行清洗；药液清洗步骤，在该清洗液清洗步骤之后，采用与应经由所述回收空间回收的所述药液相同种类的清洗用药液，对所述回收空间的内壁进行清洗；废弃步骤，将在所述清洗液清洗步骤中引入至所述回收空间的清洗液、和在所述药液清洗步骤中引入至所述回收空间的清洗用药液引向与所述药液回收路径不同的废液路径而废弃。

公开(公告)号：CN100395582C

公开(公告)日：2008-06-18

申请号：CN200510065570.X

申请日：2005-04-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 小八木康幸

IPC: G02B27/18 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 投影光学系统(6)包括把以焦点(P1)为中心的凹面镜(611)作为背面镜而形成的凹凸透镜612即第一反射镜构件(61)和把在基准点(P1)与第一反射镜构件(61)之间并大致以基准点(P1)为中心的凸面镜(621)作为背面镜而形成的凹凸透镜(622)即第二反射镜构件(62)。来自物体侧的光与中心轴(J1)平行地入射在第一反射镜构件(61)上被凹面镜(611)，凸面镜(621)、凹面镜(611)反射后被与中心轴(J1)平行地引导出后形成像。借此可以使在凹面镜与凸面镜之间反射3次的投影光学系统(6)中通过凹面镜(612、622)抑制像差。

公开(公告)号：CN100392349C

公开(公告)日：2008-06-04

申请号：CN200410100754.0

申请日：2004-12-13

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 藤原成章

IPC: G01B11/06

Abstract: 本发明提供一种即使是滤色片那样的选择性透过特定波长区域的光的透明薄膜也能正确测定其膜厚的膜厚测定方法和装置。首先，对每一种不同的膜厚取得多个作为在基板上形成了具有规定膜厚的无色透明薄膜的试样的分光反射率而计算出的理论分光反射率。接着，取得作为测定对象的滤色片的分光透射率，把该分光透射率中规定透射率以上的波长区域选定为测定波长区域。把对每一种不同膜厚而计算出的多个理论分光反射率通过分光透射率修正，求出修正后理论分光反射率。之后，向在基板上形成了测定对象的滤色片的试样照射光，把从该试样反射的光进行分光而实测分光反射率。比较得到的实测分光反射率和修正后理论分光反射率而计算出滤色片的膜厚。

公开(公告)号：CN101181706A

公开(公告)日：2008-05-21

申请号：CN200710139907.6

申请日：2007-08-03

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 高木善则 ,  冈田广司

IPC: B05C11/02 ,  B05C11/10

Abstract: 一种基板处理装置，能够正确地测定从狭缝喷嘴喷出的处理液的状态。该基板处理装置设置有在狭缝喷嘴(41)的二次侧设置的抽取空气用的配管(42)。使配管(42)与设置在狭缝喷嘴(41)的一次侧的配管(63)不直接连通而独立，并且，使配管(42)直接与狭缝喷嘴(41)内的流路(410)连通。在配管(42)上设置压力传感器(413)，将测定值传送到控制部(8)。由泵(61)将抗蚀液供给到狭缝喷嘴(41)，并利用压力传感器(413)来测定此时的配管(42)内的压力。

公开(公告)号：CN101165854A

公开(公告)日：2008-04-23

申请号：CN200710166807.2

申请日：2007-10-18

Applicant: 大日本网目版制造株式会社

Inventor： 横内健一

IPC: H01L21/00 ,  H01L21/02 ,  H01L21/30 ,  H01L21/306 ,  H01L21/67 ,  G02F1/1333 ,  H01J9/00 ,  G11B5/84 ,  G11B7/26 ,  G03F1/00

Abstract: 一种基板处理装置及方法，该装置包括：将基板保持为水平的基板保持单元；向基板主面供给处理液的处理液喷嘴；向基板主面供给惰性气体的气体喷嘴；使气体喷嘴沿主面移动的气体喷嘴移动单元；实施下述工序的控制单元：液膜形成工序，通过从处理液喷嘴供给处理液，在整个主面上形成处理液液膜；液膜除去区域形成工序，将惰性气体供给到形成液膜的主面，在不包含主面中心的区域形成除去了液膜的液膜除去区域；液膜除去区域移动工序，在液膜除去区域形成工序后，向主面供给惰性气体同时使气体喷嘴移动，由此使液膜除去区域移动，使中心配置在液膜除去区域内；基板干燥工序，在液膜除去区域移动工序后扩大液膜除去区域，从主面排除处理液并使基板干燥。