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公开(公告)号：CN101872130B
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：CN201010114018.6
申请日：2004-08-27
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： M·M·T·M·迪里奇斯 , S·N·L·当德斯 , J·H·W·贾科布斯 , H·詹森 , E·R·鲁普斯特拉 , J·J·S·M·梅坦斯 , M·K·斯塔文加 , B·斯特里克 , M·C·M·维哈根 , L·塞恩蒂恩斯-格鲁达
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , B01D19/0031 , B01D61/025 , B01D61/24 , C02F1/04 , C02F1/20 , C02F1/28 , C02F1/283 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/441 , C02F2103/40 , G03F7/2041 , G03F7/70341
Abstract: 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图装置的支撑结构，所述构图装置用于根据所需的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的辐射光束投射到基底的目标部分上的投射系统；用于以浸液至少部分填充所述投射系统的最后元件和所述基底之间的空间的液体供给系统，所述液体供给系统包括用于净化所述浸液的液体净化器，其中所述液体净化器包括位于所述空间的上游并不与所述空间接触的脱气单元；而且所述液体供给系统在所述投射系统的投射镜头周围形成无接触密封，从而所述浸液被限定为填充与所述投射系统面对的基底的主要表面和所述投射系统的最后元件之间的空间。
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公开(公告)号：CN101923290A
公开(公告)日：2010-12-22
申请号：CN201010186587.1
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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公开(公告)号：CN101900951A
公开(公告)日：2010-12-01
申请号：CN201010233642.8
申请日：2005-12-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·R·M·亨努斯 , J·J·S·M·梅坦斯 , P·J·C·H·斯穆德斯 , P·斯米特斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70808 , G03F7/7085 , G03F7/709
Abstract: 光刻装置和器件制造方法。一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。
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公开(公告)号：CN1702559B
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：CN200510081730.X
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN1782886B
公开(公告)日：2010-08-25
申请号：CN200510128823.3
申请日：2005-12-01
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： J·J·M·巴塞曼斯 , S·N·L·多德斯 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·C·H·穆肯斯 , B·斯特里克
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341
Abstract: 光刻装置以及器件制造方法公开了一种包括液体供给系统的浸入式光刻装置，该液体供给系统具有设置成可将液体供给到光刻装置的投影系统与衬底之间的空间中的入口，以及设置成可去除至少部分液体的出口，该液体供给系统设置成可使入口、出口或这两者围绕基本上垂直于衬底的曝光面的轴线旋转。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1786832B
公开(公告)日：2010-08-11
申请号：CN200510131051.9
申请日：2005-12-07
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： P·R·M·亨努斯 , J·J·S·M·梅坦斯 , P·J·C·H·斯穆德斯 , P·斯米特斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/707 , G03F7/70808 , G03F7/7085 , G03F7/709
Abstract: 一种湿浸式光刻法的光刻装置，其中在基底台的不同部件之间的密封可以布置成减小不同部件之间的力的传递。
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公开(公告)号：CN1746775A
公开(公告)日：2006-03-15
申请号：CN200510113235.2
申请日：2005-08-12
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： T·P·M·卡迪 , J·H·W·贾科布斯 , N·坦卡特 , E·R·鲁普斯特拉 , A·L·H·J·范米尔 , J·J·S·M·梅坦斯 , C·G·M·德莫 , M·J·E·H·米特詹斯 , A·J·范德内特 , J·J·奥坦斯 , J·A·夸伊达克斯 , M·E·鲁曼-休斯肯 , M·K·斯塔温加 , P·A·J·廷内曼斯 , M·C·M·维哈根 , J·J·L·H·维斯帕 , F·E·德荣格 , K·戈尔曼 , B·门奇奇科夫 , H·博姆 , S·尼蒂亚诺夫 , R·莫尔曼 , M·F·P·斯米特斯 , B·L·P·小恩德马克 , F·J·J·詹斯森 , M·里伊彭
IPC: G03F7/20 , G03F9/00 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70808 , G03F7/70341 , G03F7/70841 , G03F7/70875
Abstract: 一种光刻设备包括：调节辐射束的照明系统；支撑构图器件的支架，该构图器件能够将它截面中的图案赋予辐射束以形成构图的辐射束；支撑衬底的衬底台；把已构图的辐射束投影到衬底的目标部分的投影系统；利用液体至少部分地填充在所述投影系统的最后元件和所述衬底之间的间隙的液体供应系统；在投影系统的所述最后元件和述衬底之间的所述间隙中基本包含所述液体的密封构件；和控制和/或补偿浸渍液体从所述衬底蒸发的元件。
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公开(公告)号：CN1713075A
公开(公告)日：2005-12-28
申请号：CN200510079476.X
申请日：2005-06-23
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70933 , G03F7/70341 , G03F7/70808
Abstract: 本发明公开了一种光刻投影装置。该装置包括一配置成调节辐射光束的照射系统和一配置成支撑构图部件的支撑结构。该构图部件用于在辐射光束的横截面将图案赋予给辐射光束。该装置还包括一配置成保持基底的基底台，一配置成将带图案的光束投影到基底的靶部上的投影系统，以及一配置成将流体提供给一个容积的流体供给系统。该容积包括至少一部分投影系统和/或至少一部分照射系统。该装置还包括一配置成将流体供给系统连接到基底台、基底、支撑结构、构图部件、或其任何组合的连接部件。
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公开(公告)号：CN1702559A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510081730.X
申请日：2005-05-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： B·斯特里科克 , H·H·M·科西 , C·A·霍根达姆 , J·J·S·M·梅坦斯 , K·J·J·M·扎亚 , M·库佩鲁斯
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70641 , G03F7/70783
Abstract: 一种湿浸式光刻装置，包括构型成在光刻装置的投影系统和基底之间的空间内容纳液体的液体供给系统构件，以及设置成补偿该液体供给系统构件与基底台之间的相互作用的液体供给系统构件补偿器。
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公开(公告)号：CN1702555A
公开(公告)日：2005-11-30
申请号：CN200510071696.8
申请日：2005-03-31
Applicant: ASML荷兰有限公司
Inventor： K·J·J·M·扎亚 , J·J·S·M·梅坦斯 , J·J·奥坦斯
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/70691
Abstract: 一种在湿浸式光刻技术中使用的凸块板，其在周边部分的凸块密度比中间部分的凸块密度高，这样当在周边部分施加高压力差时，凸块的压缩基本上仍与中间部分的相同。
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