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公开(公告)号：CN109901247A
公开(公告)日：2019-06-18
申请号：CN201910134962.9
申请日：2019-02-24
Applicant: 西安应用光学研究所
Abstract: 本发明提出一种10.6μm激光窗口抗磁可加热薄膜膜系结构，包括红外基片、介质膜层、导电膜层和电极膜层；第一膜层为硫化锌膜层，镀制在所述红外基片的表面上，膜层厚度300～600nm；第二膜层为锗膜层，厚度654±1nm，镀制在第一膜层上；第三膜层为硫化锌膜层，厚度为1232±2nm；第四膜层为锗膜层，厚度618～643nm；第五层为导电膜层，厚度15±1nm；第六层为金属电极膜层，厚度200±5nm，镀制在红外基片镀膜面边缘并与第五层连通；第七膜层为锗膜层，厚度536～636nm；第八层为硫化锌膜层，厚度为1267～1419nm；第九层为锗膜层，厚度320～546nm；第十层为硫化锌膜层，厚度为540～625nm。通过在激光窗口上制备透明导电膜层，使窗口具有除冰和屏蔽电磁功能，提高激光制导系统抗冰霜和电磁能力。
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公开(公告)号：CN109696716A
公开(公告)日：2019-04-30
申请号：CN201910037555.6
申请日：2019-01-15
Applicant: 西安应用光学研究所
Abstract: 本发明提出一种超宽角度激光、长波红外双波段高强减反射膜的膜系结构，由硫化锌基片和减反射膜膜系组成；所述减反射膜膜系由四种薄膜材料制备的膜层叠加构成；膜层层数共计19层，从硫化锌基片开始，由内向外第1层为氧化铪，第2层到第18层中的奇数层为氟化镱膜层、偶数层为硫化锌膜层，第19层为氮化硅膜层；本发明可实现1.064μm激光和7.5μm～10.0μm长波红外在0°～76°超宽角度范围内的高透过，膜层牢固，同时具备高强度，能够通过国军标GJB 150—2009中的风洞、砂尘、淋雨、盐雾、湿热、温度冲击等严酷的环境试验，能够满足雷达隐身高速武器平台的多光谱硫化锌光学窗口的应用需求，能够应用于隐身机载、隐身舰载等高速武器平台多波段共光路光学系统的隐身光学窗口。
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公开(公告)号：CN106546536A
公开(公告)日：2017-03-29
申请号：CN201610847242.3
申请日：2016-09-26
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: G01N21/17
CPC classification number: G01N21/171 , G01N2021/1712
Abstract: 本发明提出一种高精度薄膜弱吸收测试装置及方法，当平行探测光照射环形光阑，经过环形光阑的光成为环形光束；由泵浦光在薄膜样品上引起的温升在样品内部形成的“热透镜”，热透镜区域将直接引入一个位相因子，环形光束经透镜聚焦后通过热透镜区域；反射光经过辅助透镜调节使环形光束与相环大小一致，环形光束完全投影在相环上；这样直射光经过相环，衍射光经过相板其它部分；直射光与衍射光干涉叠加，使微小的相位差转变为较大的光强差，探测光强分布就能判断薄膜样品的吸收率。本发明在热透镜技术基础上引入相衬技术使热畸变信号得到放大，所以相比现有技术有更高的精度、稳定性，且操作简单。
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公开(公告)号：CN105824061A
公开(公告)日：2016-08-03
申请号：CN201610273523.2
申请日：2016-04-28
Applicant: 西安应用光学研究所
CPC classification number: G02B1/115
Abstract: 本发明提出一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，减反射高强度保护膜系由四个膜层叠加构成，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在氟化镁基片的表面上，膜层厚度18～24nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度495～503nm，并镀制在第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度112～120nm，并镀制在第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度498～502nm，并镀制在第三膜层上。本发明采用多层粘接层技术，解决了DLC高强度保护膜与氟化镁基底之间的应力匹配问题，整个薄膜系统和氟化镁基底结合牢固，同时多层粘接层与DLC膜构成多层减反射膜系，有效降低了由于基底和DLC保护膜的折射率不匹配而引起的表面反射损失。
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公开(公告)号：CN105629359A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610003803.1
申请日：2016-01-05
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: G02B5/04
CPC classification number: G02B5/04
Abstract: 本发明提出了一种高精度五棱镜的制作方法，通过复制方砖的高精度角度，巧妙利用五棱镜角度关系，采用常规的光胶方法，实现五棱镜高精度加工；本发明在制作五棱镜过程中，利用光胶靠体(精度90°±2＂)保证五角棱镜四个工作面与侧面的垂直度在5＂以内，即保证第二平行差；利用比较测角仪监控角度光胶上盘，分别保证90°和22.5°角度的加工精度，并保证零件的第一平行差。本发明避免传统加工五棱镜过程中单件改角度流程，而采用复制方砖的高精度角度，批量成盘细磨控制平行，解决五角棱镜返工率高、成品率低的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104551926A
公开(公告)日：2015-04-29
申请号：CN201510009469.6
申请日：2015-01-09
Applicant: 西安应用光学研究所
CPC classification number: B24B13/01 , B24D18/0072
Abstract: 本发明提出硬质光学材料抛光模复合结构及制作方法，抛光模复合结构包括金属基体、沥青弹性层和若干聚氨酯抛光片；金属基体的层面上为沥青弹性层，沥青弹性层上设有多个聚氨酯抛光片；所述聚氨酯抛光片采用圆形片。本发明提出的一种硬质光学材料抛光模复合结构兼具了抛光沥青具有的流动性和聚氨酯的高效抛光能力，可将抛光时间缩短50％，能在满足面形精度的前提下有效提高硬质光学材料的抛光效率。该硬质光学材料抛光模复合结构制作简便，材料容易获得，耐用性较古典抛光沥青模提高3倍以上，能够广泛适用于硬质光学材料的抛光加工。使用时不需对古典抛光机床进行改动即可使用，具有显著地成本优势。
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公开(公告)号：CN116841054A
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202310655776.6
申请日：2023-06-05
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: G02B27/14
Abstract: 本发明属于光电元器件领域，公开了一种超宽带能量分光镜，所述能量分光镜是光学透明基底上，通过制作具有一定占空比的网格状金属反射膜，实现对入射光的透射能量和反射能量达到特定的比值；能量分光镜的透射/反射分光比可以通过网格状金属反射膜的占空比以及基底透射率来调控，可以实现超宽波段范围、各类分光比的技术指标。本发明采用这种方式实现能量分光，与现有技术相比，能够有效避免采用介质薄膜干涉效应带来的偏振效应问题，而且制作简单，不易影响光学基底的面型，实现超宽带的能量分光。
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公开(公告)号：CN116623128A
公开(公告)日：2023-08-22
申请号：CN202310655739.5
申请日：2023-06-05
Applicant: 西安应用光学研究所
Abstract: 本发明公开了一种内嵌式电磁屏蔽金属网栅制作方法，包括如下步骤：在光学基底上制作反向掩膜；等离子束刻蚀金属网栅沟槽；金属薄膜镀制；底层薄膜镀制；去胶及清洁；耐环境侵蚀性能的光学增透膜镀制。本发明通过在光学基底表面采用掩膜制作、等离子束刻蚀等方式制作金属网栅的沟槽，采用真空镀膜的方式将金属网栅填充在沟槽内，再通过与基底材料相机或相同的薄膜材料覆盖，与基底形成一体，将金属网栅完全包裹在内部，表面再通过带有保护层的光学增透膜覆盖，使得光学窗口能够同时实现电磁屏蔽、光学良好透射率、耐环境侵蚀等多种功能。
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公开(公告)号：CN110488553B
公开(公告)日：2023-04-11
申请号：CN201910786826.8
申请日：2019-08-24
Applicant: 西安应用光学研究所
Abstract: 本发明提出一种基于金属光栅的可调谐双通道窄带偏振滤光器及调谐方法，滤光器依次由基底、HL交替组成的多层反射膜系、下层金属光栅层、可调谐间隔层、上层金属光栅层、HL交替组成的多层反射膜系组成；可调谐间隔层材料为随外加电场材料折射率可变的材料，上下层金属光栅分别作为可调谐间隔层的上下电极层。基于干涉膜系理论并结合亚波长金属光栅类Fabry‑Preot腔共振理论，本发明采用多层膜结合双层金属光栅的结构设计出中心波长可调谐的双通道窄带偏振滤光片。与现有技术相比，本发明光谱性能优良，环境适应性好，结构简单，能够实现中心波长可调谐。
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公开(公告)号：CN114649195A
公开(公告)日：2022-06-21
申请号：CN202210231012.X
申请日：2022-03-10
Applicant: 西安应用光学研究所
IPC: H01L21/02
Abstract: 本发明属于光学技术领域，具体涉及一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法,该方法将将锌粉或铝粉大致均匀地撒在镀有ITO薄膜的光学基底表面；用软性耐腐蚀物蘸取盐酸对ITO薄膜表面反复均匀擦拭，然后将擦拭好的光学基底放在清水槽中用超声波清洗，去除表面水分。该方法对于光学基底表面镀制的ITO薄膜，能够有效、快速地实现去除ITO薄膜，不易损伤光学基底表面。该方法不仅适用于化学稳定性较好的k9玻璃、石英玻璃等光学材料，同时也适用于ZnS、ZnSe、蓝宝石、CaF2、BaF2等易腐蚀易损伤光学基底。
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