公开(公告)号：CN105824061B

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201610273523.2

申请日：2016-04-28

Applicant: 西安应用光学研究所

Inventor： 张建付 ,  杨崇民 ,  米高园 ,  张万虎 ,  刘青龙 ,  黎明 ,  王松林 ,  刘方 ,  杨建军 ,  金珂 ,  赵兴梅 ,  杨华梅 ,  王润荣 ,  董莹

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/115

Abstract: 本发明提出一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，减反射高强度保护膜系由四个膜层叠加构成，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在氟化镁基片的表面上，膜层厚度18～24nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度495～503nm，并镀制在第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度112～120nm，并镀制在第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度498～502nm，并镀制在第三膜层上。本发明采用多层粘接层技术，解决了DLC高强度保护膜与氟化镁基底之间的应力匹配问题，整个薄膜系统和氟化镁基底结合牢固，同时多层粘接层与DLC膜构成多层减反射膜系，有效降低了由于基底和DLC保护膜的折射率不匹配而引起的表面反射损失。

公开(公告)号：CN105824061A

公开(公告)日：2016-08-03

申请号：CN201610273523.2

申请日：2016-04-28

Applicant: 西安应用光学研究所

Inventor： 张建付 ,  杨崇民 ,  米高园 ,  张万虎 ,  刘青龙 ,  黎明 ,  王松林 ,  刘方 ,  杨建军 ,  金珂 ,  赵兴梅 ,  杨华梅 ,  王润荣 ,  董莹

IPC: G02B1/14 ,  G02B1/115

CPC classification number: G02B1/115

Abstract: 本发明提出一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构，包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系，减反射高强度保护膜系由四个膜层叠加构成，第一膜层为氟化镁膜层，镀制在氟化镁基片的表面上，膜层厚度18～24nm；第二膜层为硫化锌膜层，膜层厚度495～503nm，并镀制在第一膜层上；第三膜层为锗膜层，膜层厚度112～120nm，并镀制在第二膜层上；第四膜层为类金刚石膜层，膜层厚度498～502nm，并镀制在第三膜层上。本发明采用多层粘接层技术，解决了DLC高强度保护膜与氟化镁基底之间的应力匹配问题，整个薄膜系统和氟化镁基底结合牢固，同时多层粘接层与DLC膜构成多层减反射膜系，有效降低了由于基底和DLC保护膜的折射率不匹配而引起的表面反射损失。