一种10.6μm激光窗口抗磁可加热薄膜膜系结构

    公开(公告)号:CN109901247A

    公开(公告)日:2019-06-18

    申请号:CN201910134962.9

    申请日:2019-02-24

    Abstract: 本发明提出一种10.6μm激光窗口抗磁可加热薄膜膜系结构,包括红外基片、介质膜层、导电膜层和电极膜层;第一膜层为硫化锌膜层,镀制在所述红外基片的表面上,膜层厚度300~600nm;第二膜层为锗膜层,厚度654±1nm,镀制在第一膜层上;第三膜层为硫化锌膜层,厚度为1232±2nm;第四膜层为锗膜层,厚度618~643nm;第五层为导电膜层,厚度15±1nm;第六层为金属电极膜层,厚度200±5nm,镀制在红外基片镀膜面边缘并与第五层连通;第七膜层为锗膜层,厚度536~636nm;第八层为硫化锌膜层,厚度为1267~1419nm;第九层为锗膜层,厚度320~546nm;第十层为硫化锌膜层,厚度为540~625nm。通过在激光窗口上制备透明导电膜层,使窗口具有除冰和屏蔽电磁功能,提高激光制导系统抗冰霜和电磁能力。

    一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构

    公开(公告)号:CN105824061A

    公开(公告)日:2016-08-03

    申请号:CN201610273523.2

    申请日:2016-04-28

    CPC classification number: G02B1/115

    Abstract: 本发明提出一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构,包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系,减反射高强度保护膜系由四个膜层叠加构成,第一膜层为氟化镁膜层,镀制在氟化镁基片的表面上,膜层厚度18~24nm;第二膜层为硫化锌膜层,膜层厚度495~503nm,并镀制在第一膜层上;第三膜层为锗膜层,膜层厚度112~120nm,并镀制在第二膜层上;第四膜层为类金刚石膜层,膜层厚度498~502nm,并镀制在第三膜层上。本发明采用多层粘接层技术,解决了DLC高强度保护膜与氟化镁基底之间的应力匹配问题,整个薄膜系统和氟化镁基底结合牢固,同时多层粘接层与DLC膜构成多层减反射膜系,有效降低了由于基底和DLC保护膜的折射率不匹配而引起的表面反射损失。

    一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构

    公开(公告)号:CN105824061B

    公开(公告)日:2018-01-02

    申请号:CN201610273523.2

    申请日:2016-04-28

    Abstract: 本发明提出一种氟化镁中波红外光学窗口高强度保护膜的膜系结构,包括氟化镁基片和减反射高强度保护膜系,减反射高强度保护膜系由四个膜层叠加构成,第一膜层为氟化镁膜层,镀制在氟化镁基片的表面上,膜层厚度18~24nm;第二膜层为硫化锌膜层,膜层厚度495~503nm,并镀制在第一膜层上;第三膜层为锗膜层,膜层厚度112~120nm,并镀制在第二膜层上;第四膜层为类金刚石膜层,膜层厚度498~502nm,并镀制在第三膜层上。本发明采用多层粘接层技术,解决了DLC高强度保护膜与氟化镁基底之间的应力匹配问题,整个薄膜系统和氟化镁基底结合牢固,同时多层粘接层与DLC膜构成多层减反射膜系,有效降低了由于基底和DLC保护膜的折射率不匹配而引起的表面反射损失。

Patent Agency Ranking