一种超宽角度激光、长波红外双波段高强减反射膜的膜系结构

    公开(公告)号:CN109696716B

    公开(公告)日:2020-12-04

    申请号:CN201910037555.6

    申请日:2019-01-15

    Abstract: 本发明提出一种超宽角度激光、长波红外双波段高强减反射膜的膜系结构,由硫化锌基片和减反射膜膜系组成;所述减反射膜膜系由四种薄膜材料制备的膜层叠加构成;膜层层数共计19层,从硫化锌基片开始,由内向外第1层为氧化铪,第2层到第18层中的奇数层为氟化镱膜层、偶数层为硫化锌膜层,第19层为氮化硅膜层;本发明可实现1.064μm激光和7.5μm~10.0μm长波红外在0°~76°超宽角度范围内的高透过,膜层牢固,同时具备高强度,能够通过国军标GJB 150—2009中的风洞、砂尘、淋雨、盐雾、湿热、温度冲击等严酷的环境试验,能够满足雷达隐身高速武器平台的多光谱硫化锌光学窗口的应用需求,能够应用于隐身机载、隐身舰载等高速武器平台多波段共光路光学系统的隐身光学窗口。

    一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘

    公开(公告)号:CN114871902B

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202210458271.6

    申请日:2022-04-27

    Abstract: 本发明公开了一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘,包括配形抛光盘和异形零件加工抛光盘,异形零件加工抛光盘嵌入配形抛光盘内,异形零件加工时,柔性抛光盘放置在抛光模上,待抛光面与抛光模表面之间磨削抛光;配形抛光盘包括适配基板和配形介质,配形介质通过第一粘接胶粘贴在适配基板上;异形零件加工抛光盘包括待加工异形零件和异形胶模,待加工异形零件通过第二粘接胶粘贴在异形胶模上。本发明通过采用大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘与传统异形零件抛光盘加工零件相比有了巨大的改善效果,显著提高了高精度大口径超径厚比异形平面光学零件的加工效率和表面质量。

    一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘

    公开(公告)号:CN114871902A

    公开(公告)日:2022-08-09

    申请号:CN202210458271.6

    申请日:2022-04-27

    Abstract: 本发明公开了一种大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘,包括配形抛光盘和异形零件加工抛光盘,异形零件加工抛光盘嵌入配形抛光盘内,异形零件加工时,柔性抛光盘放置在抛光模上,待抛光面与抛光模表面之间磨削抛光;配形抛光盘包括适配基板和配形介质,配形介质通过第一粘接胶粘贴在适配基板上;异形零件加工抛光盘包括待加工异形零件和异形胶模,待加工异形零件通过第二粘接胶粘贴在异形胶模上。本发明通过采用大口径超径厚比异形平面光学零件柔性抛光盘与传统异形零件抛光盘加工零件相比有了巨大的改善效果,显著提高了高精度大口径超径厚比异形平面光学零件的加工效率和表面质量。

    一种超宽角度激光、长波红外双波段高强减反射膜的膜系结构

    公开(公告)号:CN109696716A

    公开(公告)日:2019-04-30

    申请号:CN201910037555.6

    申请日:2019-01-15

    Abstract: 本发明提出一种超宽角度激光、长波红外双波段高强减反射膜的膜系结构,由硫化锌基片和减反射膜膜系组成;所述减反射膜膜系由四种薄膜材料制备的膜层叠加构成;膜层层数共计19层,从硫化锌基片开始,由内向外第1层为氧化铪,第2层到第18层中的奇数层为氟化镱膜层、偶数层为硫化锌膜层,第19层为氮化硅膜层;本发明可实现1.064μm激光和7.5μm~10.0μm长波红外在0°~76°超宽角度范围内的高透过,膜层牢固,同时具备高强度,能够通过国军标GJB 150—2009中的风洞、砂尘、淋雨、盐雾、湿热、温度冲击等严酷的环境试验,能够满足雷达隐身高速武器平台的多光谱硫化锌光学窗口的应用需求,能够应用于隐身机载、隐身舰载等高速武器平台多波段共光路光学系统的隐身光学窗口。

    一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法

    公开(公告)号:CN114649195A

    公开(公告)日:2022-06-21

    申请号:CN202210231012.X

    申请日:2022-03-10

    Abstract: 本发明属于光学技术领域,具体涉及一种光学基底表面ITO薄膜的高效去除方法,该方法将将锌粉或铝粉大致均匀地撒在镀有ITO薄膜的光学基底表面;用软性耐腐蚀物蘸取盐酸对ITO薄膜表面反复均匀擦拭,然后将擦拭好的光学基底放在清水槽中用超声波清洗,去除表面水分。该方法对于光学基底表面镀制的ITO薄膜,能够有效、快速地实现去除ITO薄膜,不易损伤光学基底表面。该方法不仅适用于化学稳定性较好的k9玻璃、石英玻璃等光学材料,同时也适用于ZnS、ZnSe、蓝宝石、CaF2、BaF2等易腐蚀易损伤光学基底。

Patent Agency Ranking