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    带流量监控器的流量控制装置
    22.
    发明公开
    带流量监控器的流量控制装置 有权

    公开(公告)号：CN105247433A

    公开(公告)日：2016-01-13

    申请号：CN201480003757.4

    申请日：2014-03-17

    申请人： 株式会社富士金

    发明人： 永濑正明 ,  日高敦志 ,  西野功二 ,  池田信一

    IPC分类号： G05D7/06

    CPC分类号： G05D7/0635 ,  G01F1/42 ,  G01F1/50 ,  G01F15/005 ,  Y10T137/7761

    摘要： 本发明提供一种带流量监控器的流量控制装置，通过有效地利用压力式流量控制部所具备的高耐压力变动特性，将衰减式流量监控器部组合在压力式流量控制部的上游侧，能够接近于实时地进行流量监控，并且能够使用监控流量自动调整压力式流量控制部的设定流量，而且能够实现装置的大幅度小型化和低成本化。本发明由下述部件构成：设置在上游侧的衰减式流量监控器部(BDM)；设置在其下游侧的压力式流量控制部(FCS)；将衰减式流量监控器部(BDM)与压力式流量控制部(FCS)连结，并将衰减式流量监控器部(BDM)的监控流量(Q)向压力式流量控制部(FCS)传输的信号传输电路(CT)；和设置于压力式流量控制部(FCS)，利用来自所述衰减式流量监控器部(BDM)的监控流量(Q)调整压力式流量控制部(FCS)的设定流量(Qs)的流量设定值调整机构(QSR)。

    具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置
    23.
    发明公开
    具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置 有权

    公开(公告)号：CN103797563A

    公开(公告)日：2014-05-14

    申请号：CN201280043162.2

    申请日：2012-07-17

    申请人： 株式会社富士金

    发明人： 永瀬正明 ,  平田薰 ,  日高敦志 ,  西野功二 ,  池田信一 ,  中村刚

    IPC分类号： H01L21/205 ,  C23C16/455

    CPC分类号： F17D3/00 ,  C23C16/4482 ,  C23C16/45561 ,  G05D11/135 ,  Y10T137/8158

    摘要： 本发明可正确调整载气与原料气体的混合气体内的原料浓度，而且可在高精度的流量控制下向处理室稳定供料，与此同时可不使用昂贵的浓度计等而简单、高精度地检测混合气体内的原料气体蒸气浓度，实时显示。本发明提供通过质量流量控制器3向来源罐5内供给载气GK，由来源罐5内释放载气GK，与此同时将通过恒温部使来源罐5保持恒定温度而产生的原料4的饱和蒸气G与上述载气GK的混合气体GS供给至处理室的原料气化供给装置，其中，在来自于上述来源罐5的混合气体GS的流出通路上设置自动压力调整装置8，与此同时在其下游侧设置质量流量计9，通过开闭控制上述自动压力调整装置8的控制阀8a，将来源罐5的内部压力P0控制为规定值，将由上述质量流量控制器3所致的载气GK的流量Q1、上述罐内压力P0和上述质量流量计9的混合气体GS的流量QS的各自检测值输入原料浓度运算部10，在该原料浓度运算部10按Q2=QS×PM0/P0运算原料流量Q2(其中，PM0为来源罐内的温度为t℃时的原料蒸气G的饱和蒸气压)，利用该原料流量Q2按K=Q2/QS运算、显示供给至上述处理室的混合气体GS的原料气体蒸气浓度K。

    压力传感器
    25.
    发明公开
    压力传感器 审中-实审

    公开(公告)号：CN116348750A

    公开(公告)日：2023-06-27

    申请号：CN202180064327.3

    申请日：2021-11-02

    申请人： 株式会社富士金 ,  日本电产科宝电子株式会社

    发明人： 日高敦志 ,  中谷贵纪 ,  平田薰 ,  西野功二 ,  池田信一 ,  深泽政纪

    IPC分类号： G01L19/06

    摘要： 本发明提供一种压力传感器(10)，其具备：在内侧具有与流路连通的受压室(C1)的有底筒状的传感器模块(11)，该传感器模块(11)包括与受压室接触的隔膜(11a)；将隔膜(11a)的形变作为压力而输出的压力检测元件(12)；固定于传感器模块的开放侧端部(11c)的外缘并配置在传感器模块(11)的外周侧的基座环(14)；固定于基座环(14)，用于形成隔着隔膜(11a)而与受压室(C1)相向的密封真空室(C2)的密封部件(13)；夹持在基座环(14)与主体(5)之间的衬垫(18)；以及经由衬垫(18)将基座环(14)按压到主体(5)上的按压凸缘(19)。

    压力传感器
    26.
    发明公开
    压力传感器 无效

    公开(公告)号：CN112771359A

    公开(公告)日：2021-05-07

    申请号：CN201980059797.3

    申请日：2019-10-02

    申请人： 株式会社富士金

    发明人： 日高敦志 ,  中谷贵纪 ,  池田信一 ,  西野功二 ,  土肥亮介

    IPC分类号： G01L19/00 ,  G01L19/14

    摘要： 本发明提供一种压力传感器，其具备：以与流体通路(3)连通的状态而气密地安装于形成流体通路(3)的主体(4)上的筒状部件(5)；以及与筒状部件(5)连接并且对在主体(4)的流体通路(3)内流动的流体的压力进行检测的压力传感器部(6)，筒状部件(5)由镍钼铬合金材料或不锈钢材料所形成，压力传感器部(6)具备：具有流体流入的受压室(7)以及与流入受压室(7)的流体接触的隔膜(8a)，并且一端被隔膜(8a)闭塞的传感器主体(8)；以及将隔膜(8a)的位移作为压力而输出的压力检测元件(2)，传感器主体(8)由钴镍合金材料所形成，开口侧端部与筒状部件(5)的一端部气密地连接。

    带流量监控器的流量控制装置
    27.
    发明授权
    带流量监控器的流量控制装置 有权

    公开(公告)号：CN105247433B

    公开(公告)日：2018-01-30

    申请号：CN201480003757.4

    申请日：2014-03-17

    申请人： 株式会社富士金

    发明人： 永濑正明 ,  日高敦志 ,  西野功二 ,  池田信一

    IPC分类号： G05D7/06

    CPC分类号： G05D7/0635 ,  G01F1/42 ,  G01F1/50 ,  G01F15/005 ,  Y10T137/7761

    摘要： 本发明提供一种带流量监控器的流量控制装置，通过有效地利用压力式流量控制部所具备的高耐压力变动特性，将衰减式流量监控器部组合在压力式流量控制部的上游侧，能够接近于实时地进行流量监控，并且能够使用监控流量自动调整压力式流量控制部的设定流量，而且能够实现装置的大幅度小型化和低成本化。本发明由下述部件构成：设置在上游侧的衰减式流量监控器部(BDM)；设置在其下游侧的压力式流量控制部(FCS)；将衰减式流量监控器部(BDM)与压力式流量控制部(FCS)连结，并将衰减式流量监控器部(BDM)的监控流量(Q)向压力式流量控制部(FCS)传输的信号传输电路(CT)；和设置于压力式流量控制部(FCS)，利用来自所述衰减式流量监控器部(BDM)的监控流量(Q)调整压力式流量控制部(FCS)的设定流量(Qs)的流量设定值调整机构(QSR)。

    具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置
    28.
    发明授权
    具备原料浓度检测结构的原料气化供给装置 有权

    公开(公告)号：CN103797563B

    公开(公告)日：2016-08-31

    申请号：CN201280043162.2

    申请日：2012-07-17

    申请人： 株式会社富士金

    发明人： 永瀬正明 ,  平田薰 ,  日高敦志 ,  西野功二 ,  池田信一 ,  中村刚

    IPC分类号： H01L21/205 ,  C23C16/455

    CPC分类号： F17D3/00 ,  C23C16/4482 ,  C23C16/45561 ,  G05D11/135 ,  Y10T137/8158

    摘要： 本发明可正确调整载气与原料气体的混合气体内的原料浓度，而且可在高精度的流量控制下向处理室稳定供料，与此同时可不使用昂贵的浓度计等而简单、高精度地检测混合气体内的原料气体蒸气浓度，实时显示。本发明提供通过质量流量控制器3向来源罐5内供给载气GK，由来源罐5内释放载气GK，与此同时将通过恒温部使来源罐5保持恒定温度而产生的原料4的饱和蒸气G与上述载气GK的混合气体GS供给至处理室的原料气化供给装置，其中，在来自于上述来源罐5的混合气体GS的流出通路上设置自动压力调整装置8，与此同时在其下游侧设置质量流量计9，通过开闭控制上述自动压力调整装置8的控制阀8a，将来源罐5的内部压力P0控制为规定值，将由上述质量流量控制器3所致的载气GK的流量Q1、上述罐内压力P0和上述质量流量计9的混合气体GS的流量QS的各自检测值输入原料浓度运算部10，在该原料浓度运算部10按Q2=QS×PM0/P0运算原料流量Q2(其中，PM0为来源罐内的温度为t℃时的原料蒸气G的饱和蒸气压)，利用该原料流量Q2按K=Q2/QS运算、显示供给至上述处理室的混合气体GS的原料气体蒸气浓度K。

    原料的汽化供给装置
    29.
    发明授权
    原料的汽化供给装置 有权

    公开(公告)号：CN103493181B

    公开(公告)日：2016-03-09

    申请号：CN201280020255.3

    申请日：2012-02-20

    申请人： 株式会社富士金

    发明人： 日高敦志 ,  平田薰 ,  永濑正明 ,  土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一

    IPC分类号： H01L21/205 ,  C23C16/448

    CPC分类号： C23C16/45512 ,  C23C16/4481 ,  C23C16/45557 ,  C23C16/52 ,  Y10T137/7837

    摘要： 本发明是不管是固体原料还是液体原料，都能够正确地调整载体气体与原料气体的混合气体内的原料浓度，而且在高精度的流量控制下向处理腔稳定地进行供给，并且能够容易地进行过原料的余量管理的汽化供给装置，包括下列部分构成：流路(L1)，其将来自载体气体供给源的载体气体向源储罐的内部上方空间部供给；自动压力调整装置，其间置于该流路(L1)，将源储罐的内部上方空间部的压力控制为设定压力；流路(L2)，其向处理腔供给在所述空间部生成的原料蒸汽与载体气体的混合气体；流量控制装置，其间置于该流路(L2)，将混合气体的流量自动调整为设定流量；以及恒温加热部，其将源储罐和流路(L1)以及流路(L2)加热为设定温度，该汽化供给装置为将所述空间部的内压控制为所期望的压力，并且向处理腔供给混合气体的构成。