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公开(公告)号：CN102422399A
公开(公告)日：2012-04-18
申请号：CN201080020563.7
申请日：2010-05-10
Applicant: 朗姆研究公司
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B3/041 , H01L21/02057 , H01L21/67051
Abstract: 对基板的表面进行清洁材料的第一施加。清洁材料包含用于捕获存在所述基板的表面上的污染物的一种或一种以上粘弹性材料。对所述基板的表面进行冲洗流体的第一施加，从而冲洗所述基板的表面上的清洁材料。同时，执行冲洗流体的第一施加，以在所述基板的表面上留下冲洗流体的残留薄膜。对于其上具有冲洗流体的残留薄膜的基板的表面进行清洁材料的第二施加。然后，对所述基板的表面进行冲洗流体的第二施加，从而冲洗所述基板的表面上的清洁材料。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101606230A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：CN200880004543.3
申请日：2008-01-22
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 卡特里娜·米哈利钦科 , 弗里茨·雷德克 , 埃里克·M·弗里尔 , 米哈伊尔·科罗利克 , 约翰·M·德拉里奥斯 , 迈克·拉维肯
IPC: H01L21/306
CPC classification number: H01L21/02057 , C25D5/34 , C25D7/12 , H01L21/288 , H01L21/67051 , H01L21/67057 , H01L21/6708 , H01L21/67086 , H01L21/76841
Abstract: 使用邻近头准备基片表面的装置、系统和方法包括在该基片的表面和该邻近头的头部表面之间施加非牛顿流体。该非牛顿流体沿着该头部表面和该基片的表面之间的一个或多个侧面限定容纳壁。具有该非牛顿流体的该一个或多个侧面在该头部表面和该基片的表面之间的该基片上限定处理区域。通过该邻近头向该基片的表面施加牛顿流体，以便所施加的牛顿流体大体上被保持在由该容纳壁限定的该处理区域内。该牛顿流体帮助从该基片的表面除去一种或多种污染物。在一个实施例中，该非牛顿流体还可用于创建环境可控隔离区域，其可以帮助控制该区域内的表面的可控处理。在一个替代实施例中，向该处理区域施加第二非牛顿流体而非该牛顿流体。该第二非牛顿流体作用于该基片的表面上的一种或多种污染物并大体上从该基片的表面除去它们。
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公开(公告)号：CN101389414A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200680053425.2
申请日：2006-12-26
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 埃里克·M·弗里尔 , 弗雷德·C·雷德克 , 卡特里娜·米哈利钦科 , 迈克尔·拉夫金 , 米哈伊尔·科罗利克
CPC classification number: H01L21/6715 , B05D3/10 , C11D3/14 , C11D11/0047 , C11D17/0004 , C11D17/0013 , C23G1/00 , G03F7/42 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/02096 , H01L21/67051
Abstract: 提供用于清洁基片的方法。该方法开始于将活化溶液应用于该基片表面。该活化溶液和该基片表面与固态清洁表面的表面接触。该活化溶液被吸收进该固态清洁元件一部分，然后该晶元基片或该固态清洁表面相对彼此移动以清洁该基片表面。还提供一种用遭受塑性变形的固态清洁元件清洁该基片表面的方法。还提供相应的清洁设备。
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公开(公告)号：CN101370885A
公开(公告)日：2009-02-18
申请号：CN200680048939.9
申请日：2006-12-19
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 米哈伊尔·科罗利克 , 埃里克·M·弗里尔 , 约翰·M·德拉里奥斯 , 卡特里娜·米哈利钦科 , 迈克·拉夫金 , 弗雷德·雷德克
CPC classification number: H01L21/6715 , B05D3/10 , C11D3/14 , C11D11/0047 , C11D17/0004 , C11D17/0013 , C23G1/00 , G03F7/42 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/02096 , H01L21/67051
Abstract: 提供清洁混合物、装置以及方法以从基片表面去除污染物。提供一种示范性的清洁混合物，以从半导体基片表面去除粒子污染物。该清洁混合物包括粘性流体，其粘度在大约1cP到大约10,000cP之间。该清洁混合物还包括分散在该粘性流体中的多个固体成分，该多个固体成分与该粒子基片表面上的污染物相互作用以从该基片表面去除该粒子污染物。
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公开(公告)号：CN101351540A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200680050034.5
申请日：2006-12-18
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 埃里克·M·弗里尔 , 约翰·M·德拉里奥斯 , 迈克尔·拉夫金 , 米哈伊尔·科罗利克 , 卡特里娜·米哈利钦科 , 弗雷德·C·雷德克
IPC: C11D7/32
CPC classification number: H01L21/6715 , B05D3/10 , C11D3/14 , C11D11/0047 , C11D17/0004 , C11D17/0013 , C23G1/00 , G03F7/42 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/02096 , H01L21/67051
Abstract: 提供一种用于制造在制备基片的表面中使用的溶液的方法。该方法包括提供连续媒介，将聚合物材料添加到该连续媒介。将脂肪酸添加到具有该聚合物材料的连续媒介，并且该聚合物材料形成实体网状体，其在溶液中施加力来克服该脂肪酸受到的浮力，由此防止该脂肪酸在该溶液内移动，直到施加的搅拌超过该聚合物材料的屈服应力。该施加的搅拌是来源于将该溶液从容器传输到将该溶液施加到该基片表面的制备台。
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公开(公告)号：CN101351282A
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200680050024.1
申请日：2006-12-08
Applicant: 朗姆研究公司
Inventor： 埃里克·M·弗里尔 , 约翰·M·德拉里奥斯 , 卡特里娜·米哈利钦科 , 迈克尔·拉夫金 , 米哈伊尔·科罗利克 , 弗雷德·C·雷德克 , 克林特·托马斯 , 约翰·帕克斯
IPC: B08B7/00
CPC classification number: H01L21/6715 , B05D3/10 , C11D3/14 , C11D11/0047 , C11D17/0004 , C11D17/0013 , C23G1/00 , G03F7/42 , H01L21/02052 , H01L21/02057 , H01L21/02096 , H01L21/67051
Abstract: 清洁材料设置在基片上。该清洁材料包括分散在液体媒介内的固体成分。力施加到该液体媒介内的固体成分上以使该固体成分接近该基片上存在的污染物。施加到该固体成分上的力可由该液体媒介内的不溶成分施加。当使该固体成分足够接近该污染物时，在该固体成分和该污染物之间建立相互作用。然后，移动该固体成分远离该基片从而将与该固体成分相互作用的该污染物从该基片去除。
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