切割带一体型粘接性片
    23.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109148350B

    公开(公告)日:2023-12-15

    申请号:CN201810680930.4

    申请日:2018-06-27

    Abstract: 本发明提供一种切割带一体型粘接性片,其适于在为了通过半导体晶圆的单片化得到带有粘接性薄膜的半导体芯片而使用切割带一体型粘接性片进行的割断用扩展工序中实现粘接性片的良好割断。本发明的切割带一体型粘接性片(X)具备切割带(20)和粘接性片。切割带(20)具有包含基材(21)和粘合剂层(22)的层叠结构。粘接性片以能剥离的方式与切割带(20)的粘合剂层(22)密合。粘接性片例如为半导体芯片背面保护用的薄膜(10)。粘接性片的、对宽度2mm的粘接性片试验片在初始卡盘间距16mm、‑15℃和载荷增加速度1.2N/分钟的条件下进行的拉伸试验中的断裂强度为1.2N以下、且断裂伸长率为1.2%以下。

    片材、带材和半导体装置的制造方法

    公开(公告)号:CN108091604B

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN201711114134.6

    申请日:2017-11-13

    Abstract: 本发明涉及片材、带材和半导体装置的制造方法。本公开提供无论有无固化处理均能附加耐久性优异的标记的片材。本公开的片材包含切割膜,所述切割膜包含基材层和位于基材层上的粘合剂层。本公开的片材还包含位于粘合剂层上的半导体背面保护膜。在本公开的片材中,半导体背面保护膜的DSC测定的DSC曲线中,在50℃~300℃范围内出现的放热峰的放热量为40J/g以下。

    背面保护薄膜、薄膜、半导体装置的制造方法和保护芯片的制造方法

    公开(公告)号:CN106098607A

    公开(公告)日:2016-11-09

    申请号:CN201610274684.3

    申请日:2016-04-28

    Abstract: 一种背面保护薄膜、薄膜、半导体装置的制造方法和保护芯片的制造方法。第一本发明的目的在于,提供在将背面保护薄膜与半导体晶片进行粘贴后能够检测半导体晶片的缺口且能够防止背面保护薄膜露出的背面保护薄膜等。第二本发明的目的在于,提供将背面保护薄膜与半导体晶片进行粘贴后能够检测半导体晶片的缺口的背面保护薄膜等。第一本发明涉及用于粘贴在半导体晶片背面的背面保护薄膜等。背面保护薄膜的外周小于半导体晶片的外周,背面保护薄膜上设置有缺口。第二本发明涉及波长555nm的总透光率为3%以上的背面保护薄膜等。

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