公开(公告)号：CN119194603A

公开(公告)日：2024-12-27

申请号：CN202411715094.0

申请日：2024-11-27

Applicant: 季华实验室

Inventor： 盛飞龙 ,  郭嘉杰 ,  梁启恒 ,  王鑫 ,  孔倩茵 ,  仇礼钦

IPC: C30B25/16 ,  C23C16/52 ,  F16K37/00 ,  F16K1/22

Abstract: 本申请涉及外延生长技术领域，具体提供了一种双蝶阀控压系统、方法及外延炉，该系统包括：排气管道，其上依次设有门阀、第一压力采集组件、第一蝶阀和工艺泵；调压管，其上设有第二蝶阀；第二压力采集组件；控制器，用于根据第一预设开度范围、第一压力信息和第一预设压力调节第一蝶阀的开度，并在第一蝶阀的开度变化量位于第一预设开度范围内且第一压力信息与第一预设压力的差值位于第一预设压力范围内时，根据第二预设开度范围、第二压力信息和第一预设压力调节第二蝶阀的开度；该系统能够有效地减少第一蝶阀的开度的调整次数，从而有效地延长第一蝶阀的使用寿命，进而有效地降低外延炉的维护周期。

公开(公告)号：CN116791198A

公开(公告)日：2023-09-22

申请号：CN202310824886.0

申请日：2023-07-06

Applicant: 季华实验室

Inventor： 郭嘉杰 ,  盛飞龙 ,  张南 ,  刘自然 ,  罗骞

IPC: C30B25/16 ,  C23C16/44 ,  C30B29/36 ,  C30B25/12 ,  C23C16/458

Abstract: 本申请属于清洗碳化硅外延炉的技术领域，公开了一种外延炉清洗方法、装置、电子设备及存储介质，该方法包括：获取外延炉反应室中石墨件在清洗前的碳化硅信息，设置外延炉反应室为真空的清洗环境，调节外延炉反应室中石墨托盘的运动状态为旋转状态，利用氩气和三氟化氯气，基于预设的温度范围和预设的压力范围，结合真空的清洗环境和石墨托盘的旋转状态，对外延炉反应室进行清洗，得到清洗后的碳化硅信息，对比清洗前的碳化硅信息和清洗后的碳化硅信息，确定清洗效果，通过设置真空环境、维持石墨托盘的旋转状态和调节对应的温度及压力，利用氩气和三氟化氯气，对外延炉进行清洗，提高了外延炉清洗的效率。

公开(公告)号：CN116240625A

公开(公告)日：2023-06-09

申请号：CN202310283886.4

申请日：2023-03-22

Applicant: 季华实验室

Inventor： 盛飞龙 ,  郭嘉杰 ,  伍三忠 ,  毛朝斌 ,  钟新华 ,  王鑫

IPC: C30B25/16 ,  C30B25/14

Abstract: 本申请涉及外延设备技术领域，具体提供了一种用于外延设备的压力调节装置及工艺气体切换方法，该装置包括：流入管路，与反应室的进气端连接；排放管路，与反应室的排气管连接；压差检测组件，其两端分别与流入管路和排放管路连接，用于检测流入管路和排放管路之间的压差信息；载气供应组件，分别与流入管路和排放管路连接，用于为流入管路和排放管路供应载气；工艺气体供应组件，与流入管路和排放管路连接；切换组件，用于控制工艺气体供应组件为流入管路或排放管路供应工艺气体；回气组件，其两端分别与反应室的排气管和排放管路连接，用于将反应室的部分尾气导入排放管路；以及调节组件；该装置能够有效地减少载气使用量。

公开(公告)号：CN114753001A

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202210481219.2

申请日：2022-05-05

Applicant: 季华实验室

Inventor： 盛飞龙 ,  郭嘉杰 ,  王慧勇 ,  王鑫 ,  吴彩庭 ,  孔倩茵

IPC: C30B25/08 ,  C30B25/16 ,  C30B25/14 ,  C30B25/12 ,  C23C16/52 ,  C23C16/458 ,  C23C16/455

Abstract: 本申请涉及外延生长技术领域，具体提供了一种外延沉积反应室、沉积系统及沉积方法，其包括：所述反应室包括上半月石墨腔体和下半月石墨腔体，所述上半月石墨腔体两侧通过侧壁支撑石墨件与所述下半月石墨腔体连接，以围合构成气体反应腔，所述上半月石墨腔体的底壁具有多条平行设置的冷却流道，所述上半月石墨腔体一侧设有与所述冷却流道连接的冷却气体提供组件，所述冷却气体提供组件用于在所述反应室进行外延生长时为所述冷却流道提供所述冷却气体；该外延沉积反应室能够有效地减少由于反应气体在上半月石墨腔体的底壁发生化学反应而形成晶体的情况。