半导体器件及制造存储器器件的方法

    公开(公告)号:CN118555831A

    公开(公告)日:2024-08-27

    申请号:CN202410491903.8

    申请日:2024-04-23

    Abstract: 一种半导体器件包括存储器阵列,存储器阵列包括布置在多个行和多个列上的多个晶体管。多个行分别对应于沿第一横向方向连续延伸的多个有源区,多个列分别对应于沿第二横向方向不连续延伸的多个栅极结构,第一横向方向和第二横向方向彼此垂直。多个栅极结构中的包括切割第一栅极结构的第一间隙的至少第一栅极结构和多个栅极结构中的包括切割第二栅极结构的第二间隙的至少第二栅极结构沿第一横向方向彼此紧邻设置。第一间隙和第二间隙的延伸部沿第二横向方向彼此偏移。本申请的实施例还提供了制造存储器器件的方法。

    静态随机存取存储器及其制造方法

    公开(公告)号:CN118159017A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202410178578.X

    申请日:2024-02-09

    Abstract: 一种静态随机存取存储器(SRAM)包括:第一CFET堆叠和第二CFET堆叠,每个CFET堆叠包括在第一方向上堆叠在第二AR(例如,P型)上的第一有源区(AR)(例如,N型),每个CFET堆叠表示互补FET(CFET)架构;第三CFET堆叠的上半部;第四CFET堆叠的下半部;第一CFET堆叠和第二CFET堆叠包括FET,FET包括SRAM的锁存器;第一CFET堆叠还包括FET,FET包括SRAM的第一端口和第三端口;第二CFET堆叠还包括FET,FET包括SRAM的第二端口和第四端口;第四CFET堆叠的下半部包括FET,FET包括SRAM的第五端口;并且第三CFET堆叠的上半部包括FET,FET包括SRAM的第六端口。本申请的实施例还涉及制造静态随机存取存储器的方法。

    电子器件及其操作方法
    25.
    发明授权

    公开(公告)号:CN113284526B

    公开(公告)日:2024-04-05

    申请号:CN202110129581.9

    申请日:2021-01-29

    Abstract: 本发明的实施例公开了一种电子器件及其操作方法,该电子器件包括用于第一电源域的第一电源轨和用于第二电源域的第二电源轨。第一电路块连接到第一电源轨,第二电路块连接到第二电源轨。第一电路块和第二电路块均连接至虚拟VSS端子。脚部电路连接在虚拟VSS端子与地端子之间,并且该脚部电路配置为选择性地控制虚拟VSS端子与地端子之间的连接。

    三维交叉存取双端口位单元设计

    公开(公告)号:CN104425007A

    公开(公告)日:2015-03-18

    申请号:CN201310551997.5

    申请日:2013-11-08

    Abstract: 本发明提供了一种半导体存储器,其包括具有被布置为多行和多列的多个交叉存取双端口位单元的双端口存储阵列,多个交叉存取双端口位单元中的每一个都具有两个交叉存取端口以用于从交叉存取双端口位单元读出和写入一位或多位数据。半导体存储器还包括与双端口存储阵列的多个行中的至少一行相关的字线对,字线对被配置为传输行选择信号对以用于在行中的一个或多个交叉存取双端口位单元上启动一个或多个读出和写入操作。半导体存储器还包括与双端口存储器阵列的多个列中的至少一列相关的列选择线对,列选择线对被配置为传输列选择信号对以用于在列中的交叉存取双端口位单元上启动读出和写入操作。本发明还提供了一种对双端口存储阵列实施的方法。

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