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公开(公告)号：CN108220917A
公开(公告)日：2018-06-29
申请号：CN201810073257.8
申请日：2018-01-25
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明属于原子层沉积设备领域，并具体公开了一种用于纳米颗粒表面包覆的连续原子层沉积设备，包括进料仓、第一反应室、第二反应室和出料仓，进料仓用于控制纳米颗粒进入第一反应室，纳米颗粒在第一反应室中利用超声振动网打散，与第一前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第一旋转给料装置进入第一清洗室，并通过气体吹扫清洗掉反应副产物；经过清洗后的纳米颗粒送入第二反应室中，并在第二反应室内部利用超声振动网打散，且与第二前驱体反应物发生反应；反应后的纳米颗粒经第二旋转给料装置进入第二清洗室，并通过气体吹扫清洗掉反应副产物，最后送入出料仓中。本发明可实现纳米颗粒表面薄膜的连续均匀沉积，且无团聚现象。
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公开(公告)号：CN105032385B
公开(公告)日：2017-09-12
申请号：CN201510398455.8
申请日：2015-07-08
Applicant: 华中科技大学
CPC classification number: Y02A50/2341
Abstract: 本发明公开了一种金属氧化物/铂纳米颗粒复合催化剂的制备方法，该方法包括：使用原子层沉积方法生长铂纳米催化剂颗粒和金属氧化物，通过改变原子层沉积循环次数，从而沉积所需厚度的氧化物复合层和所需粒径的纳米颗粒，两者结合形成复合催化剂。通过本发明，可以精确制备金属氧化物和铂纳米颗粒的复合催化剂，锚定金属催化颗粒从而提高铂催化剂在高温下的热稳定性，且由于氧化物薄膜与金属直接具有催化协同效应，能够在提高催化剂抗烧结性的同时，提高催化剂的活性。
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公开(公告)号：CN107099784A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710336412.6
申请日：2017-05-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/45563
Abstract: 本发明公开了一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置。模块化喷头包括：前驱体通道组件、密封组件；前驱体通道组件包括板状基体、前驱体通道、气体管路；前驱体通道布置于板状基体正面，自上而下延伸，前驱体通道的顶端连通气体管路；密封组件设于板状基体正面，用于对前驱体通道进行密封，防止前驱体泄露。本发明的模块化喷头，由多个部件构成整体模块，并且通过前躯体通道对喷入的气体进行分流和缓冲，实现沉积均匀，且可以根据实际需求选取任意数量进行组合。本发明的装置包括多个模块化喷头，以一定的间隔排列，分别通入氧化物前驱体源和金属前驱体源，使得基底在前驱体单元下运动一个来回沉积多层薄膜，大大提高了薄膜沉积效率。
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公开(公告)号：CN107017193A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201710311755.7
申请日：2017-05-05
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L21/677 , H01L21/683
Abstract: 本发明公开了一种基片取放及转移装置，包括：第一取放组件、第二取放组件以及转移组件；第一取放组件的第一直线动子通过第一气缸带动第一真空吸盘，依次在初始位置、第一反应位置、第一取放位置之间往复运动；第二取放组件的第二直线动子通过第二气缸带动第二真空吸盘，依次在第二取放位置、第二反应位置之间往复运动，第二反应位置对应第二反应区设置；转移组件的基片支撑板设于第一取放位置和第二取放位置之间，转移组件的第三直线动子带动基片支撑板在第一取放位置和第二取放位置之间往复运动。本发明通过转移组件和第一、第二取放组件自动完成基片的转移及取放，避免了人工操作的低效率和危险性，可以实现基片安全、高效转移地转移及取放。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104060239B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201410247951.9
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种金属制品表面保护方法，包括：对待保护的金属制品表面进行清理、除油污、清洁和修复的预处理步骤；将上述预处理步骤处理后的金属制品置于原子层沉积设备中，并用载气对表面进行吹洗，同时利用真空泵对原子层沉积设备进行抽气的沉积前处理步骤；以及在适当的反应温度和压力下，将多种前驱体交替通入，从而使各种前驱体分别依此吸附在待保护表面并从而在各前驱体间发生化学反应而形成单层薄膜的沉积步骤；多次循环执行上述沉积步骤，即可在所述待保护表面生成致密的薄膜，实现对金属制品表面的隔水隔氧保护。本发明的方法可以解决目前的金属制品表面的保护薄膜不去够致密、厚度不均匀、以及寿命短且容易产生光泽等问题。
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公开(公告)号：CN105386011A
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：CN201510953058.2
申请日：2015-12-17
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/458 , C23C16/44 , C23C16/442 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4417 , C23C16/442 , C23C16/45544 , C23C16/45555 , C23C16/4581
Abstract: 本发明公开了一种基于行星流化的粉体原子层沉积装置，包括电机、反应腔、行星架、夹持器和输气管路，其中，电机与行星架相连，行星架上安装有中心轮和若干个行星轮；电机用于带动中心轮和行星轮旋转；夹持器位于反应腔内部，用于承载粉体；该夹持器还与行星轮相连，在行星轮的带动下旋转；输气管路用于向反应腔中输入反应气体或载气。本发明能够对夹持器内的粉体颗粒提供离心流化作用，同时结合轴向的气流流化作用，克服了离心流化床沿轴向方向分布不均匀的状况以及改善了传统垂直流化床剪切力过小的特点，能有效提高粉体包覆率和均匀性，一次性能够对大量粉体进行包覆，提高粉体包覆效率。
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公开(公告)号：CN103602959A
公开(公告)日：2014-02-26
申请号：CN201310585179.7
申请日：2013-11-19
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种原子层沉积前驱体输出装置，该输出装置由装载前驱体的钢瓶（101），缓存腔（103），连接所述钢瓶（101）与缓存腔（103）的第一开关阀（102），位于所述缓存腔腔体内且与所述缓存腔腔体气密性良好的运动活塞（104），以及控制输出主管路的第二开关阀（105）构成。本发明通过固定空间的气体体积变化，每次稳定的排出等量前驱体，保证定量输出前驱体，能够更好的适应于前驱体用量优化分析及在线监测系统分析。
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公开(公告)号：CN103451623A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310364445.3
申请日：2013-08-20
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/44
Abstract: 本发明公开了一种包覆超细粉体的原子层沉积方法与装置，该方法的特征在于，在前驱体的吸附过程中引入了流化气，利用流化气吹散粉体，实现粉体的充分分散。该装置包括反应腔体，供应系统，真空系统，加热系统，监测系统和控制系统，其特征在于，供应系统包括流化气源，流化气通过流化气输送支路进入反应腔体，用于将粉体吹散到整个反应区域。本发明的方法与装置能有效提高粉体包覆率与沉积均匀性，并使得在每次沉积过程中对大量粉体进行包覆成为可能，提高了粉体包覆的效率。
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公开(公告)号：CN119121187A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411275531.1
申请日：2024-09-12
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/56 , C23C16/52
Abstract: 本申请涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种原子层沉积膜制备方法及原子层沉积设备。本申请实施例的技术方案中，反应腔室除了包括腔室本体外还包括设于腔室本体开口处的热场盖，热场盖上设有加热件与冷却件。在原子层次沉积膜制备过程中，向反应腔室中以预设次数依次交替通入第一前驱体与第二前驱体产生反应，使得衬底的表面上能够形成有初始膜层。再通过控制加热件对整个反应腔室进行加热或者通过控制冷却件对整个反应腔室进行冷却处理，能够对得到的初始膜层进行退火处理的时间更短，无需打开腔室本体再对腔室本体进行加热或者冷却，使得得到目标膜层上的副反应物或者缺陷更少。如此，可以提高制作原子层薄膜的制备质量。
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