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    通过原子层沉积(ALD)进行颗粒涂覆
    2.
    发明公开
    通过原子层沉积(ALD)进行颗粒涂覆 有权

    公开(公告)号：CN109689929A

    公开(公告)日：2019-04-26

    申请号：CN201680089163.9

    申请日：2016-09-16

    申请人： 皮考逊公司

    发明人： M·普达斯

    IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/52

    CPC分类号： C23C16/45544 ,  C23C16/4417 ,  C23C16/45555

    摘要： 原子层沉积(ALD)反应器(100)中的ALD方法，该ALD反应器(100)包括容纳衬底容器(30)的反应腔室(10)，以及被隔离的振动源(70-72)，被隔离的振动源(70-72)在反应腔室(10)的外部或被隔离在反应腔室(610)的内部。通过使用穿过所述衬底容器(30)的自上而下的前体流的自饱和表面反应，在衬底容器(30)内涂覆微粒材料，并且在涂覆微粒材料的同时，通过被隔离的振动源(70-72)引起衬底容器(30)内的微粒材料的移动。

    一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置
    4.
    发明公开
    一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN107904571A

    公开(公告)日：2018-04-13

    申请号：CN201711316625.9

    申请日：2017-12-12

    申请人： 中国科学院金属研究所

    发明人： 任文才 ,  马超群 ,  成会明

    IPC分类号： C23C16/44 ,  C23C16/455

    CPC分类号： C23C16/4417 ,  C23C16/455

    摘要： 本发明公开了一种用于高温气氛环境下粉体材料制备的化学气相沉积反应装置，属于粉体材料生产技术领域。该装置包括加热炉体、耐高温陶瓷炉管和内衬反应器；所述内衬反应器置于耐高温陶瓷炉管内部，所述加热炉体用于对耐高温陶瓷炉管和内衬反应器进行加热；所述内衬反应器为具有中空反应腔的圆柱状结构，所述中空反应腔为两端细中间粗的结构；所述中空反应腔内设有沟槽和/或翻料挡板结构。该反应装置可以在高温环境下实现对反应粉体的翻转搅拌，避免了常规CVD装置在反应过程中由于气氛条件不均造成的粉体分层、板结等问题。同时因为设计了分体式内衬反应器和快速装卸法兰，可实现连续装卸物料以及物料快速冷却。

    一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆装置及方法
    5.
    发明公开
    一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆装置及方法 有权

    公开(公告)号：CN107254675A

    公开(公告)日：2017-10-17

    申请号：CN201710423764.5

    申请日：2017-06-07

    申请人： 华中科技大学

    发明人： 陈蓉 ,  巴伟明 ,  曲锴 ,  李云 ,  曹坤 ,  但威

    IPC分类号： C23C16/455 ,  C23C16/44 ,  C23C16/54 ,  B82Y40/00

    CPC分类号： C23C16/45551 ,  C23C16/4417 ,  C23C16/45525 ,  B82Y40/00 ,  C23C16/54

    摘要： 本发明公开了一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆装置，包括依次连接的第一、第二、第三及第四级管路单元；所述第一级管路单元用于提供第一前驱体(3)，并使第一前驱体(3)在纳米颗粒的表面完成吸附；所述第三级管路单元用于提供第二前驱体(6)，并使第二前驱体(6)与所述纳米颗粒表面的第一前驱体(3)发生反应，以在纳米颗粒表面生成单分子薄膜层；所述第二、第四级管路单元用于对所述纳米颗粒进行清洗，排出多余的第一前驱体(3)、第二前驱体(6)或反应产生的副产物。本发明还公开了一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆方法。本发明的装置，提高沉积薄膜的包覆率和均匀性，提高粉体表面包覆的效率。

    一种基于行星流化的粉体原子层沉积装置
    6.
    发明授权
    一种基于行星流化的粉体原子层沉积装置 有权

    公开(公告)号：CN105386011B

    公开(公告)日：2017-09-22

    申请号：CN201510953058.2

    申请日：2015-12-17

    申请人： 华中科技大学

    发明人： 陈蓉 ,  竹鹏辉 ,  段晨龙 ,  巴伟明 ,  单斌 ,  文艳伟

    IPC分类号： C23C16/458 ,  C23C16/44 ,  C23C16/442 ,  C23C16/455

    CPC分类号： C23C16/4417 ,  C23C16/442 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/45555

    摘要： 本发明公开了一种基于行星流化的粉体原子层沉积装置，包括电机、反应腔、行星架、夹持器和输气管路，其中，电机与行星架相连，行星架上安装有中心轮和若干个行星轮；电机用于带动中心轮和行星轮旋转；夹持器位于反应腔内部，用于承载粉体；该夹持器还与行星轮相连，在行星轮的带动下旋转；输气管路用于向反应腔中输入反应气体或载气。本发明能够对夹持器内的粉体颗粒提供离心流化作用，同时结合轴向的气流流化作用，克服了离心流化床沿轴向方向分布不均匀的状况以及改善了传统垂直流化床剪切力过小的特点，能有效提高粉体包覆率和均匀性，一次性能够对大量粉体进行包覆，提高粉体包覆效率。

    一种转动PECVD系统
    8.
    发明公开
    一种转动PECVD系统 有权

    公开(公告)号：CN106435531A

    公开(公告)日：2017-02-22

    申请号：CN201610891679.7

    申请日：2016-10-12

    申请人： 安徽贝意克设备技术有限公司

    发明人： 孔令杰 ,  张志琴 ,  吴克松

    IPC分类号： C23C16/50 ,  C23C16/26 ,  B22F1/02

    CPC分类号： C23C16/4417 ,  B22F1/02 ,  C23C16/26 ,  C23C16/50

    摘要： 本发明公开了一种转动PECVD系统，包括安装台，安装台上安装有管式炉，管式炉中间安装有石英管，石英管中间设有螺旋送料器，石英管进料端依次设有供气系统和进料料斗，进料料斗与管式炉之间设有与石英管固定连接的转动齿轮，转动齿轮与直流电机进行传动连接，石英管出料端依次固定有出料料斗和真空机组。本发明使质量和热量的传递更加有利，改善了包覆均匀性，通过回转炉体的不断旋转，颗粒不断改变位置和翻动，实现于与反应气体的良好接触；回转炉的转速可调,从而可以改变炉内粒子运动状态，调节气固接触状况；最终实现可控、高效且均匀的涂层包覆；通过在回转炉的两侧安装进出料的密封料斗实现连续化作业。