-
公开(公告)号：CN108754456B
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201810503730.1
申请日：2018-05-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
Abstract: 本发明属于微纳制造相关设备领域，并公开了一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备，它包括喷头模块及对应配备的液压传动模块，其中该喷头模块用于对基底进行原子层沉积，具有空间隔离的作用，并且四周的气浮区可以帮助喷头在经过曲面时改变方向达到曲面沉积的作用；该液压传动模块通过转阀来实时获取喷头转动角度的信息，并通过改变进出油口的相对连接位置而使得喷头总体上升或者下降或者保持不动。通过本发明，能够可获得一种开放式、具有自调整功能的原子层沉积薄膜制备设备，其不仅可在常温常压下即可执行各类曲面沉积操作，而且喷头能够根据曲面曲率的不同而快速改变角度及升降运动，进而与现有设备相比可显著提高作业效率和适用性。
-
-
公开(公告)号：CN108754456A
公开(公告)日：2018-11-06
申请号：CN201810503730.1
申请日：2018-05-23
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/52
CPC classification number: C23C16/45548 , C23C16/45519 , C23C16/45568 , C23C16/52
Abstract: 本发明属于微纳制造相关设备领域，并公开了一种常压下曲面基底的原子层沉积薄膜制备设备，它包括喷头模块及对应配备的液压传动模块，其中该喷头模块用于对基底进行原子层沉积，具有空间隔离的作用，并且四周的气浮区可以帮助喷头在经过曲面时改变方向达到曲面沉积的作用；该液压传动模块通过转阀来实时获取喷头转动角度的信息，并通过改变进出油口的相对连接位置而使得喷头总体上升或者下降或者保持不动。通过本发明，能够可获得一种开放式、具有自调整功能的原子层沉积薄膜制备设备，其不仅可在常温常压下即可执行各类曲面沉积操作，而且喷头能够根据曲面曲率的不同而快速改变角度及升降运动，进而与现有设备相比可显著提高作业效率和适用性。
-
-
公开(公告)号：CN107099784A
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201710336412.6
申请日：2017-05-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/45563
Abstract: 本发明公开了一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置。模块化喷头包括：前驱体通道组件、密封组件；前驱体通道组件包括板状基体、前驱体通道、气体管路；前驱体通道布置于板状基体正面，自上而下延伸，前驱体通道的顶端连通气体管路；密封组件设于板状基体正面，用于对前驱体通道进行密封，防止前驱体泄露。本发明的模块化喷头，由多个部件构成整体模块，并且通过前躯体通道对喷入的气体进行分流和缓冲，实现沉积均匀，且可以根据实际需求选取任意数量进行组合。本发明的装置包括多个模块化喷头，以一定的间隔排列，分别通入氧化物前驱体源和金属前驱体源，使得基底在前驱体单元下运动一个来回沉积多层薄膜，大大提高了薄膜沉积效率。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107099784B
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201710336412.6
申请日：2017-05-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种用于空间隔离原子层沉积的模块化喷头及装置。模块化喷头包括：前驱体通道组件、密封组件；前驱体通道组件包括板状基体、前驱体通道、气体管路；前驱体通道布置于板状基体正面，自上而下延伸，前驱体通道的顶端连通气体管路；密封组件设于板状基体正面，用于对前驱体通道进行密封，防止前驱体泄露。本发明的模块化喷头，由多个部件构成整体模块，并且通过前躯体通道对喷入的气体进行分流和缓冲，实现沉积均匀，且可以根据实际需求选取任意数量进行组合。本发明的装置包括多个模块化喷头，以一定的间隔排列，分别通入氧化物前驱体源和金属前驱体源，使得基底在前驱体单元下运动一个来回沉积多层薄膜，大大提高了薄膜沉积效率。
-
公开(公告)号：CN106917074B
公开(公告)日：2019-02-19
申请号：CN201710193000.1
申请日：2017-03-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/54
Abstract: 本发明公开了一种循环卷绕式原子层沉积设备，包括：沿待沉积样品的闭环运行路径布置的反应装置、动力装置、导向装置、纠偏装置；反应装置包括分布在待沉积样品上下两侧的加热板和反应喷头；动力装置包括伺服电机和驱动辊筒，伺服电机的输出轴连接驱动辊筒的驱动轴；导向装置包括若干个无动力辊筒；驱动辊筒与无动力辊筒共同构成待沉积样品的闭环运行路径，用于使待沉积样品循环运动；纠偏装置位于两个相邻的无动力辊筒之间，且纠偏装置与两个相邻的无动力辊筒分别位于待沉积样品两侧。本设备结构简单，便于使用和维护；待沉积样品能够循环运动，能够连续反应，不需要反复收放卷，不用频换启动与停止，提高反应效率。
-
公开(公告)号：CN107254675B
公开(公告)日：2019-07-09
申请号：CN201710423764.5
申请日：2017-06-07
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , C23C16/54 , B82Y40/00
CPC classification number: C23C16/45551 , C23C16/4417
Abstract: 本发明公开了一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆装置，包括依次连接的第一、第二、第三及第四级管路单元；所述第一级管路单元用于提供第一前驱体(3)，并使第一前驱体(3)在纳米颗粒的表面完成吸附；所述第三级管路单元用于提供第二前驱体(6)，并使第二前驱体(6)与所述纳米颗粒表面的第一前驱体(3)发生反应，以在纳米颗粒表面生成单分子薄膜层；所述第二、第四级管路单元用于对所述纳米颗粒进行清洗，排出多余的第一前驱体(3)、第二前驱体(6)或反应产生的副产物。本发明还公开了一种纳米颗粒空间原子层沉积连续包覆方法。本发明的装置，提高沉积薄膜的包覆率和均匀性，提高粉体表面包覆的效率。
-
公开(公告)号：CN106917074A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201710193000.1
申请日：2017-03-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/46 , C23C16/54
CPC classification number: C23C16/45544 , C23C16/45574 , C23C16/4581 , C23C16/46 , C23C16/54
Abstract: 本发明公开了一种循环卷绕式原子层沉积设备，包括：沿待沉积样品的闭环运行路径布置的反应装置、动力装置、导向装置、纠偏装置；反应装置包括分布在待沉积样品上下两侧的加热板和反应喷头；动力装置包括伺服电机和驱动辊筒，伺服电机的输出轴连接驱动辊筒的驱动轴；导向装置包括若干个无动力辊筒；驱动辊筒与无动力辊筒共同构成待沉积样品的闭环运行路径，用于使待沉积样品循环运动；纠偏装置位于两个相邻的无动力辊筒之间，且纠偏装置与两个相邻的无动力辊筒分别位于待沉积样品两侧。本设备结构简单，便于使用和维护；待沉积样品能够循环运动，能够连续反应，不需要反复收放卷，不用频换启动与停止，提高反应效率。
-
公开(公告)号：CN105543807B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201510932643.4
申请日：2015-12-15
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种变温薄膜沉积系统，包括多个沉积装置和基片转移装置，所述多个沉积装置均匀布设在基片转移装置周围；所述多个沉积装置具有基片温度控制机构，用于分别维持基片承载台温度恒温；所述基片转移装置，包括三维移动装置，所述三维移动装置的末端设有保护气体喷头，所述保护气体喷头两侧设有抓取装置，所述抓取装置用于抓取基片承载台。本发明提供的变温薄膜沉积系统能高效高质量的沉积多元物质沉积膜。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
12
records
(took 0.02 seconds)
