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公开(公告)号：CN104060239B
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201410247951.9
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种金属制品表面保护方法，包括：对待保护的金属制品表面进行清理、除油污、清洁和修复的预处理步骤；将上述预处理步骤处理后的金属制品置于原子层沉积设备中，并用载气对表面进行吹洗，同时利用真空泵对原子层沉积设备进行抽气的沉积前处理步骤；以及在适当的反应温度和压力下，将多种前驱体交替通入，从而使各种前驱体分别依此吸附在待保护表面并从而在各前驱体间发生化学反应而形成单层薄膜的沉积步骤；多次循环执行上述沉积步骤，即可在所述待保护表面生成致密的薄膜，实现对金属制品表面的隔水隔氧保护。本发明的方法可以解决目前的金属制品表面的保护薄膜不去够致密、厚度不均匀、以及寿命短且容易产生光泽等问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103668120B
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201310636805.0
申请日：2013-12-02
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开了一种多元物质原子层沉积膜制备方法和装置，所述方法，即使基片相对于原子层沉积反应腔直线运动，依次通过其内用于完成不同原子层沉积的原子层沉积系统，基片通过每个原子层沉积系统时：调整基片温度为相应原子层沉积反应最适温度。所述装置，包括原子层沉积反应腔、基片承载台、运动平台和温度控制装置；原子层沉积反应腔依次设置有多个原子层沉积系统；基片承载台，设置在原子层沉积反应腔下方；运动平台，与基片承载台连接，带动基片承载台运动；温度控制装置，设置在基片承载台下方。所述方法能高效快速的制备多元物质原子层沉积膜，所述装置，能方便的通过现有原子层沉积系统组装，兼容性强，功耗低，沉积效率高。
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公开(公告)号：CN103628045B
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201310636874.1
申请日：2013-12-02
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置。用于制作原子层沉积膜的喷头，包括进气管路、进气口和出气口；所述进气口内部为空腔；所述出气口内部形成空腔，分为上半部分和下半部分，其上半部分与下半部分之间设有漏斗形结构；进气管路与进气口固定连接，进气口与出气口可拆卸密闭连接。用于制作原子层沉积膜的装置，包括所述喷头、腔体支撑架、基片承载台和运动平台，腔体支撑架中间形成长条状镂空，可顺序设置多个可拆卸喷头，基片承载台设置在墙体支撑架下方，运动平台带动基片承载台。本发明能适应不同的原子层沉积反应，通过气体隔离原子层沉积法，高效快速的制作原子层沉积膜。
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公开(公告)号：CN103628045A
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：CN201310636874.1
申请日：2013-12-02
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种用于制作原子层沉积膜的可拆卸喷头及装置。用于制作原子层沉积膜的喷头，包括进气管路、进气口和出气口；所述进气口内部为空腔；所述出气口内部形成空腔，分为上半部分和下半部分，其上半部分与下半部分之间设有漏斗形结构；进气管路与进气口固定连接，进气口与出气口可拆卸密闭连接。用于制作原子层沉积膜的装置，包括所述喷头、腔体支撑架、基片承载台和运动平台，腔体支撑架中间形成长条状镂空，可顺序设置多个可拆卸喷头，基片承载台设置在墙体支撑架下方，运动平台带动基片承载台。本发明能适应不同的原子层沉积反应，通过气体隔离原子层沉积法，高效快速的制作原子层沉积膜。
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公开(公告)号：CN104060239A
公开(公告)日：2014-09-24
申请号：CN201410247951.9
申请日：2014-06-06
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455
Abstract: 本发明公开了一种金属制品表面保护方法，包括：对待保护的金属制品表面进行清理、除油污、清洁和修复的预处理步骤；将上述预处理步骤处理后的金属制品置于原子层沉积设备中，并用载气对表面进行吹洗，同时利用真空泵对原子层沉积设备进行抽气的沉积前处理步骤；以及在适当的反应温度和压力下，将多种前驱体交替通入，从而使各种前驱体分别依此吸附在待保护表面并从而在各前驱体间发生化学反应而形成单层薄膜的沉积步骤；多次循环执行上述沉积步骤，即可在所述待保护表面生成致密的薄膜，实现对金属制品表面的隔水隔氧保护。本发明的方法可以解决目前的金属制品表面的保护薄膜不去够致密、厚度不均匀、以及寿命短且容易产生光泽等问题。
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公开(公告)号：CN103668120A
公开(公告)日：2014-03-26
申请号：CN201310636805.0
申请日：2013-12-02
Applicant: 华中科技大学
IPC: C23C16/455 , C23C16/458 , C23C16/52
Abstract: 本发明公开了一种多元物质原子层沉积膜制备方法和装置，所述方法，即使基片相对于原子层沉积反应腔直线运动，依次通过其内用于完成不同原子层沉积的原子层沉积系统，基片通过每个原子层沉积系统时：调整基片温度为相应原子层沉积反应最适温度。所述装置，包括原子层沉积反应腔、基片承载台、运动平台和温度控制装置；原子层沉积反应腔依次设置有多个原子层沉积系统；基片承载台，设置在原子层沉积反应腔下方；运动平台，与基片承载台连接，带动基片承载台运动；温度控制装置，设置在基片承载台下方。所述方法能高效快速的制备多元物质原子层沉积膜，所述装置，能方便的通过现有原子层沉积系统组装，兼容性强，功耗低，沉积效率高。
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