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公开(公告)号：CN107935899B
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201710945782.X
申请日：2017-10-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法。本发明提供具有式(1)的锍化合物，其中R1、R2和R3是可含有杂原子的C1‑C20一价烃基，p＝0‑5，q＝0‑5，并且r＝0‑4。通过光刻处理包含该锍化合物的抗蚀剂组合物，以形成具有改进的LWR和图案塌陷性的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN108623506A
公开(公告)日：2018-10-09
申请号：CN201810234145.6
申请日：2018-03-21
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C309/12 , C07C309/30 , C07C309/31 , C07C303/32 , C07C59/115 , C07C51/41 , C07D335/02 , C07D333/46 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/039 , C07C381/12 , C08K5/098 , C08K5/42 , C08L33/06 , G03F7/0048 , G03F7/029 , G03F7/2059
Abstract: 本发明提供一种锍盐，其中，通过将其用作光产酸剂，在以高能量射线为光源的照相平版印刷中，能够提供缺陷少且通过抑制酸扩散而具有优异平版印刷性能的抗蚀剂组合物。所述锍盐含有阴离子及阳离子，所述阳离子具有下述通式(1)所示的局部结构。其中，排除具有下述通式(1’)所示的阳离子的锍盐。[化学式1][化学式2]
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公开(公告)号：CN107935899A
公开(公告)日：2018-04-20
申请号：CN201710945782.X
申请日：2017-10-12
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , G03F7/004 , G03F7/20
Abstract: 本发明涉及锍化合物、抗蚀剂组合物及图案形成方法。本发明提供具有式(1)的锍化合物，其中R1、R2和R3是可含有杂原子的C1-C20一价烃基，p＝0-5，q＝0-5，并且r＝0-4。通过光刻处理包含该锍化合物的抗蚀剂组合物，以形成具有改进的LWR和图案塌陷性的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN106054530A
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201610227786.X
申请日：2016-04-13
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 化学增幅型负型抗蚀剂组合物定义为包括(A)具有阴离子基团的鎓盐，该阴离子基团为稠环结构的含氮羧酸根，(B)基础树脂，和(C)交联剂。该抗蚀剂组合物在曝光步骤过程中对于控制酸扩散有效，在图案形成过程中显示非常高的分辨率，并且形成具有最小LER的图案。
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公开(公告)号：CN119805859A
公开(公告)日：2025-04-11
申请号：CN202411399219.3
申请日：2024-10-09
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: G03F7/004 , C07D333/76 , C07D333/54 , C07C381/12 , C07C25/18 , C07C309/12 , G03F7/038 , G03F7/039
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题是提供正型或负型皆高感度，且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。本发明的解决手段是一种抗蚀剂材料，包含：双鎓盐，其含有具有与具有碘原子或溴原子的芳香族基团连接的α位或β位具有氟原子或三氟甲基的磺酸阴离子结构及与该具有碘原子或溴原子的芳香族基团经由碳数1以上的连接基团进行键结的羧酸阴离子结构的2价阴离子、以及鎓阳离子。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN119689780A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202411314136.X
申请日：2024-09-20
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂材料及图案形成方法。本发明的课题为提供无论正型或负型皆为高感度且LWR及CDU经改善的抗蚀剂材料、以及使用其的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂材料，含有：酸产生剂，包含将具有碘原子或溴原子的2个芳香族基连接而成的磺酸的鎓盐。
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公开(公告)号：CN112782934B
公开(公告)日：2025-01-17
申请号：CN202011216447.4
申请日：2020-11-04
Applicant: 信越化学工业株式会社
Abstract: 本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以ArF准分子激光等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：MEF)、LWR、尺寸均匀性(CDU)的抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且不含具有芳香族取代基的重复单元的树脂、(B)通式(B‑1)表示的光酸产生剂、及(C)溶剂。#imgabs0#式中，W1表示碳数4～12的含有杂原子的环状2价烃基。W2表示碳数4～14的不含杂原子的环状1价烃基。Rf为上述通式表示的2价有机基团。M+表示鎓阳离子。
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公开(公告)号：CN110885282B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN201910856590.0
申请日：2019-09-11
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C25/18 , C07C59/115 , C07C51/41 , C07C43/225 , C07D207/27 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明为碘鎓盐、抗蚀剂组合物和图案形成方法。提供了新的羧酸碘鎓盐和包含其作为猝灭剂的抗蚀剂组合物。当将所述抗蚀剂组合物通过使用KrF或ArF准分子激光、EB或EUV的光刻法进行加工时，形成在矩形性、MEF、LWR和CDU方面得以改进的抗蚀剂图案。
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公开(公告)号：CN112824382A
公开(公告)日：2021-05-21
申请号：CN202011302393.3
申请日：2020-11-19
Applicant: 信越化学工业株式会社
IPC: C07C381/12 , C07C69/80 , C07C25/18 , C07C69/92 , C07C69/96 , C07D309/12 , C07D333/76 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/32
Abstract: 本发明涉及鎓盐化合物、化学增幅抗蚀剂组成物、以及图案形成方法。本发明的课题是提供在以KrF准分子激光、ArF准分子激光、电子束、极紫外线等高能量射线作为光源的光学光刻中，溶解对比度、酸扩散抑制能力优异，CDU、LWR、感度等光刻性能优异的化学增幅抗蚀剂组成物；并提供其所使用的酸扩散抑制剂、及使用该化学增幅抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为下式(1)表示的鎓盐化合物、由该鎓盐化合物构成的酸扩散抑制剂、及含有该酸扩散抑制剂的化学增幅抗蚀剂组成物。
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