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公开(公告)号：CN111912798A
公开(公告)日：2020-11-10
申请号：CN202010371573.0
申请日：2020-05-06
Applicant: 株式会社堀场STEC
Abstract: 提供一种吸光分析系统，具备：检测器，对透过了气体的光的强度进行检测；总压传感器，测量气体的总压；干扰气体分压-吸光度关系存储部，存储干扰气体分压-吸光度关系数据；干扰气体分压推定部，基于由总压传感器测量出的总压来推定干扰气体的分压；干扰气体吸光度转换部，基于干扰气体分压-吸光度关系数据，将由干扰气体分压推定部推定出的干扰气体推定分压转换为干扰气体的吸光度；测量对象气体吸光度计算部，基于检测器的输出值和由干扰气体吸光度转换部转换而得的干扰气体吸光度，来计算测量对象气体的吸光度。
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公开(公告)号：CN111855596A
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN202010206450.1
申请日：2020-03-23
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G01N21/31
Abstract: 提供吸光分析装置及记录吸光分析装置用程序的程序记录介质。吸光分析装置具备检测器；总压传感器；吸光度计算部，基于检测器的输出值和预先设定的零基准值计算吸光度；分压-吸光度关系存储部，存储表示调零时存在于检测器测定区域的干涉气体的分压与吸光度计算部算出的吸光度之间关系的分压-吸光度关系数据；分压计算部，在已知浓度的干涉气体存在于测定区域的已知浓度状态下，基于由总压传感器测定的总压和浓度计算作为干涉气体的分压的干涉气体分压；吸光度推断部，基于干涉气体分压和分压-吸光度关系数据推断作为干涉气体的吸光度的干涉气体吸光度；校正部，基于干涉气体吸光度和在已知浓度状态下的检测器的输出值进行更新零基准值的调零。
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公开(公告)号：CN106996513A
公开(公告)日：2017-08-01
申请号：CN201610892358.9
申请日：2016-10-13
Applicant: 株式会社堀场STEC
CPC classification number: C23C16/52 , C23C16/4481 , C23C16/4482 , G01N21/3504 , G01N21/84 , G01N33/0004 , G01N2021/8411 , G01N2021/8578 , G05D11/00 , G05D21/02 , Y10T137/0329 , Y10T137/2499 , Y10T137/2509 , F17D1/02 , F17D3/01 , F17D3/18
Abstract: 本发明提供一种气体控制系统，其可以防止出现由材料气体再液化的液滴或材料的热分解所产生的微粒对浓度或流量控制的影响，以预先设定的浓度或流量供给混合气体。该气体控制系统包括：第一阀，其设置在所述载气管线上或设置在所述供气管线上；流量控制机构，其设于稀释气体管线上，具有流量传感器及第二阀；非接触式的第一浓度传感器；第一阀控制部；稀释气体设定流量计算部，其基于预先设定的所述稀释后混合气体的总设定流量以及所述稀释后测定浓度，计算应该在所述稀释气体管线中流动的稀释气体的流量即稀释气体设定流量；第二阀控制部，其为使所述稀释气体设定流量与所述流量传感器所测定的测定流量的偏差减小而控制所述第二阀的开度。
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公开(公告)号：CN101760727B
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：CN200910208804.X
申请日：2009-10-29
Applicant: 株式会社堀场制作所 , 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/448 , C23C16/52
CPC classification number: G05D11/139 , C23C16/4482 , C30B25/14 , Y10T137/2499 , Y10T137/2509
Abstract: 一种材料气体浓度控制装置，用于材料气化系统，所述材料气化系统包括贮槽，收纳材料；导入管，将使被收纳的材料气化的载气导入所述贮槽；及导出管，从所述贮槽中导出材料气化而成的材料气体及所述载气的混合气体；所述材料气体浓度控制装置包括基体，具有连接于所述导出管，以使所述混合气体流动的内部流路；浓度测量部，对在所述内部流路中流动的混合气体中的材料气体的浓度进行测量；及第1阀，在所述内部流路中设置在所述浓度测量部的下游，对由所述浓度测量部测量的测量浓度进行调节；且所述浓度测量部及所述第1阀安装在所述基体上。
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公开(公告)号：CN102156489A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201010601694.6
申请日：2010-12-16
Applicant: 株式会社堀场制作所 , 株式会社堀场STEC
IPC: G05D11/02
CPC classification number: G05D11/138 , Y10T137/0396 , Y10T137/2509 , Y10T137/2708 , Y10T137/7736
Abstract: 本发明的材料气体浓度控制系统是用于材料气化系统(100)，此材料气体浓度控制系统具备：第1阀(23)，设于所述导出管(12)上；浓度测定部(CS)，测定所述混合气体中的所述材料气体的浓度；浓度控制部(CC)，控制所述第1阀(23)的开度，以使得由所述浓度测定部(CS)所测定的所述材料气体的测定浓度达到预定的设定浓度；调温器(41)，对所述储罐内的温度进行调温，以使其达到设定温度；以及温度设定部(42)，设定所述调温器的设定温度。本发明还提供了材料气体流量控制系统及材料气体浓度控制系统用程序。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111690909B
公开(公告)日：2025-02-25
申请号：CN202010150050.3
申请日：2020-03-06
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/448 , C23C16/52
Abstract: 用于提供在不增设新的传感器等的情况下，准确地推定汽化罐内的原料的消耗量，且能够进行与原料的剩余量对应的高精度的浓度控制的浓度控制装置，其在汽化器中对原料气体的浓度进行控制，汽化器至少具备：容纳液体或固体的原料的汽化罐、向汽化罐供给载气的载气供给通路、以及供由原料汽化而从汽化罐导出的原料气体流通的原料气体导出通路，浓度控制装置具备：浓度监测器，其设置于原料气体导出通路，输出与原料气体的浓度对应的输出信号；浓度计算部，其基于来自浓度监测器的输出信号，来计算原料气体的浓度；以及原料消耗量计算器，其基于计算浓度和载气的流量，来计算作为原料气体而导出到原料气体导出通路的原料的消耗量。
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公开(公告)号：CN117434026A
公开(公告)日：2024-01-23
申请号：CN202310890023.3
申请日：2023-07-19
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G01N21/39 , G01N21/3504 , G01N21/01
Abstract: 本发明提供一种高精度地监测针对被处理物的处理量的分析装置、分析方法及计算机可读的存储介质，所述分析装置具有测定部及运算部，所述测定部具有：激光光源，其对包含反应生成物的测定对象气体照射激光；光检测器，其检测透过测定对象气体的激光；以及信号处理部，其基于光检测器的检测信号来计算反应生成物的浓度或分压，运算部具有：时间积分部，其计算对测定部的输出值进行时间积分而得的时间积分值；关联数据存储部，其存储关联数据，所述关联数据示出对测定部的输出值进行时间积分而得的时间积分值与针对被处理物的处理量之间的关系；以及处理量计算部，其根据由时间积分部获得的时间积分值和关联数据来计算对被处理物的处理量。
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公开(公告)号：CN108570659B
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN201810178323.8
申请日：2018-03-05
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/448 , C23C16/52
Abstract: 本发明涉及气体控制系统、成膜装置、存储介质和气体控制方法，容易控制从容器导出的材料气体的总量。所述气体控制系统向收容有材料的容器(10)导入载气，并且将所述材料气化后的材料气体与所述载气一起从所述容器(10)导出，该气体控制系统具有控制部(60)，所述控制部(60)控制所述载气的流量，使浓度指标值接近预先确定的目标浓度指标值，该浓度指标值直接或间接表示测量从所述容器(10)导出的混合气体而得到的所述混合气体中的材料气体浓度，所述控制部(60)在进行控制所述载气的流量以规定变化率变化的第一控制后进行第二控制，该第二控制基于所述浓度指标值和所述目标浓度指标值的偏差来控制所述载气的流量。
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公开(公告)号：CN111560600A
公开(公告)日：2020-08-21
申请号：CN202010080528.X
申请日：2020-02-05
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: C23C16/455 , C23C16/52 , C23C14/22 , C23C14/54
Abstract: 提供气化装置、成膜装置、程序记录介质及浓度控制方法。气化装置具备气化罐、载气供给路径、材料气体导出路径、浓度监测器和浓度控制机构，上述浓度控制机构具备：浓度计算部，基于来自上述浓度监测器的输出信号计算上述材料气体的实际浓度；浓度控制部，在供给上述材料气体的供给期间，进行以使构成上述浓度控制机构的流体控制设备的控制值成为预先设定的初始设定值的方式进行控制的第一控制后，进行以通过控制该流体控制设备而使上述实际浓度接近预先设定的目标值的方式进行反馈控制的第二控制；以及控制切换部，基于上述浓度控制部开始上述第一控制后的上述实际浓度的经时变化，将上述浓度控制部的控制状态从上述第一控制切换到上述第二控制。
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公开(公告)号：CN111488003A
公开(公告)日：2020-08-04
申请号：CN202010059308.9
申请日：2020-01-19
Applicant: 株式会社堀场STEC
IPC: G05D11/13
Abstract: 用于提供一种能够在不中断半导体制造工艺的情况下适当地实施浓度检测机构的调零的浓度控制装置，浓度控制装置具备：控制阀，其控制在导出流路中流动的气体；浓度检测机构，其对在该导出流路中流动的气体中所含的材料气体的浓度进行检测；浓度控制器，其以使由上述浓度检测机构检测出的检测浓度与预先设定的设定浓度之间的偏差变小的方式控制上述控制阀；基准时刻判定部，其对存在于通过上述浓度检测机构进行浓度检测的检测部的气体已被替换为其他气体的时刻即基准时刻进行判定；以及调零部，其在基准时刻以后进行上述浓度检测机构的调零。
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