流体供给设备
    21.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1255981A

    公开(公告)日:2000-06-07

    申请号:CN99800002.7

    申请日:1999-01-11

    CPC classification number: G05D7/0635 Y10T137/7759 Y10T137/7761

    Abstract: 一种供如半导体制造设备中气体供给系统用的流体供给设备,它使得有可能在开始供给流体或流体转换时高精度控制流体流速而不产生流体的瞬时过冲现象。本发明的流体供给设备包括:压力流量控制器,用来调节流体的流率;流体转换阀,用来打开和关闭压力流量控制器次级侧的流体通道;以及流体供给控制单元,用来控制压力流量控制器和流体转换阀的操作;压力流量控制器包括:注流孔5;设置在注流孔5上游侧的控制阀1;设置在控制阀1和注流孔5之间的压力检测器3;以及计算控制单元6,它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到控制阀1的驱动器2,流率信号Qc是利用流率Qc=KP1( K=常数)、根据由压力检测器3检测到的压力P1计算的;其中,通过借助打开和关闭控制阀1来调节注流孔上游侧的压力P1而控制注流孔5下游侧的流率。

    流量控制装置的排气结构、排气方法以及具备其的气体供给系统和气体供给方法

    公开(公告)号:CN118786400A

    公开(公告)日:2024-10-15

    申请号:CN202380024208.4

    申请日:2023-03-15

    Abstract: 本发明提供一种流量控制装置(10)的排气结构,其具备:流量控制装置(10),其具备:形成有连通流体入口(13i)和流体出口(13o)的主体流路(13)的主体(11);设置在主体流路上的控制阀(12);设置在控制阀的下游的节流部(14);以及测定控制阀与节流部之间的压力的压力传感器(16);向流量控制装置供给气体的气体源(2);在气体源与流量控制装置之间的气体供给路径上的分支点(A)分支的排气路径(4),在比分支点靠上游的气体供给路径(3)配设第一阀(V1),并且在排气路径配设第二阀(V2),在从控制第一流量的状态变更为第二流量的控制时,在控制阀(12)打开的状态下,关闭第一阀(V1)并且打开第二阀(V2),由此将积存在从控制阀到节流部之间的气体从排气路径(4)排出。

Patent Agency Ranking