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公开(公告)号：CN111758153B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN201980015362.9
申请日：2019-06-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 泽地淳
IPC: H01L21/3065 , G05D7/06
Abstract: 流量控制器具有：阀，其能够控制向处理装置供给的气体的流量；以及阀控制部，其在从处理装置发出指示开始进行气体的供给的指令的时间点，打开阀来开始控制气体的流量，从发出指令的时间点起以规定的周期将气体的流量进行累计来计算累计流量，并且在计算出的累计流量达到规定的目标累计流量的时间点，关闭阀来停止控制气体的流量。
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公开(公告)号：CN114464551A
公开(公告)日：2022-05-10
申请号：CN202111289390.5
申请日：2021-11-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种处理装置和处理方法，用于削减在搬送室的周围设置有多个气体处理室的基板的处理装置中的向所述气体处理室供给处理气体的气体箱的设置数量。对基板进行处理的处理装置具有：多个处理室，在所述多个处理室中在期望的处理气体的气氛下对所述基板进行处理；多个罐单元，所述多个罐单元与多个所述处理室分别对应地设置，所述罐单元具备用于临时储存所述处理气体的多个罐；以及气体箱，其经由所述罐单元向所述处理室供给处理气体。
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公开(公告)号：CN113594069A
公开(公告)日：2021-11-02
申请号：CN202110429608.6
申请日：2021-04-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/677 , H01J37/32
Abstract: 本发明提供能够削减半导体装置的制造中的系统的设置面积的部件更换系统和部件更换装置。进行消耗部件的更换的部件更换系统包括部件收纳装置和部件更换装置。部件收纳装置收纳使用前的消耗部件。部件更换装置与处理装置和部件收纳装置连接，能够将安装于该处理装置内的使用后的消耗部件与收纳于部件收纳装置内的使用前的消耗部件进行更换。此外，部件更换装置能够移动至安装有作为更换对象的消耗部件的处理装置的位置，与该处理装置连接。此外，部件收纳装置能够移动至与安装有作为更换对象的消耗部件的处理装置连接的部件更换装置的位置，与该部件更换装置连接。
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公开(公告)号：CN110444460B
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN201910738671.0
申请日：2015-08-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/67 , C23C16/455 , C23C16/509
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置的应用方法。一个实施方式的等离子体处理装置中的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。所述应用方法包括：使多个流量控制单元停止的步骤；关闭机构中的多个第一阀、第二阀和第三阀的步骤；打开多个第四阀的步骤；和利用压力计对排气管的压力进行计测的步骤。由此，能够检测气体供给系统所具有的多个第一阀的泄漏。
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公开(公告)号：CN111742393A
公开(公告)日：2020-10-02
申请号：CN201980014846.1
申请日：2019-06-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 泽地淳
IPC: H01L21/3065 , C23C16/455
Abstract: 在要将向气体喷出部供给的气体从第一处理气体切换为第二处理气体的情况下，将设置于第一气体供给管的第一供给切换阀和设置于从第一气体供给管分支出的第一气体排气管的第二排气切换阀控制为打开状态，并且将设置于第二气体供给管的第二供给切换阀和设置于从第二气体供给管分支出的第二气体排气管的第一排气切换阀控制为关闭状态，之后，将第二供给切换阀和第一排气切换阀控制为打开状态，并且将第一供给切换阀和第二排气切换阀控制为关闭状态，其中，第一气体供给管连接于气体喷出部，用于供给第一处理气体，第二气体供给管连接于气体喷出部，用于供给第二处理气体。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106575615A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580040141.9
申请日：2015-08-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C16/455 , C23C16/509 , H01L21/31
Abstract: 一个实施方式的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。
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公开(公告)号：CN112216587B
公开(公告)日：2024-11-26
申请号：CN202010636740.X
申请日：2020-07-03
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供一种能够计算处理装置的与流量控制器有关的性能的性能计算方法和处理装置。性能计算方法获取多个流量控制器的出厂检查数据。性能计算方法基于获取到的出厂检查数据和表示流量控制器的性能的每个项目的第一系数，来计算通过偏差值表示每个流量控制器的性能的第一性能值。性能计算方法基于计算出的第一性能值和表示使用流量控制器的处理装置的性能的每个项目的第二系数，来计算通过偏差值表示处理装置的性能的第二性能值。
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公开(公告)号：CN111742393B
公开(公告)日：2024-05-28
申请号：CN201980014846.1
申请日：2019-06-18
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Inventor： 泽地淳
IPC: H01L21/3065 , C23C16/455
Abstract: 在要将向气体喷出部供给的气体从第一处理气体切换为第二处理气体的情况下，将设置于第一气体供给管的第一供给切换阀和设置于从第一气体供给管分支出的第一气体排气管的第二排气切换阀控制为打开状态，并且将设置于第二气体供给管的第二供给切换阀和设置于从第二气体供给管分支出的第二气体排气管的第一排气切换阀控制为关闭状态，之后，将第二供给切换阀和第一排气切换阀控制为打开状态，并且将第一供给切换阀和第二排气切换阀控制为关闭状态，其中，第一气体供给管连接于气体喷出部，用于供给第一处理气体，第二气体供给管连接于气体喷出部，用于供给第二处理气体。
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公开(公告)号：CN113838773A
公开(公告)日：2021-12-24
申请号：CN202110665753.4
申请日：2021-06-16
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677
Abstract: 本发明提供一种能够容易地维护腔室的基片处理装置，该腔室规定在其中进行对基片的处理的基片处理空间。本发明的基片处理装置包括第一腔室、基片支承器、致动器、第二腔室和至少一个固定器具。基片支承器和第二腔室配置在第一腔室的内部空间内。致动器使基片支承器在第一位置与第二位置之间移动。在基片支承器处于第一位置时，第二腔室与基片支承器一起规定基片处理空间。在基片支承器处于第二位置时，能够经由第一腔室的开口在第一腔室的内部空间与外部之间运送第二腔室。至少一个固定器具在第一腔室的内部空间中将第二腔室可解除地固定在第一腔室。
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公开(公告)号：CN112928009A
公开(公告)日：2021-06-08
申请号：CN202011351752.4
申请日：2020-11-26
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32
Abstract: 本发明提供不进行大气开放而高精度地计测处理容器内的状态的计测装置、计测方法和真空处理装置。计测装置包括：壳体，其形成有具有与真空处理装置的第二出入口对应的尺寸的开口部，能够在第二出入口气密地安装开口部，其中，真空处理装置在处理容器设置有用于送入送出基片的第一出入口和与第一出入口不同的第二出入口；对壳体内部进行减压的减压机构；以及收纳于壳体内部的计测机构，其在由减压机构对壳体内部进行了减压的状态下，经由开口部计测处理容器内的状态。
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