-
公开(公告)号：CN106575615B
公开(公告)日：2019-09-03
申请号：CN201580040141.9
申请日：2015-08-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C16/455 , C23C16/509 , H01L21/31
Abstract: 一个实施方式的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。
-
公开(公告)号：CN106257623B
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201610437677.0
申请日：2016-06-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01J37/32
Abstract: 本发明的课题在于提高工艺的生产量。一个实施例中的气体供给系统具有构成气体供给系统的多个构成部件和用于配置多个构成部件的基座(212)。在多个构成部件中，一部分构成部件配置于基座(212)的一个面(212a)，另一部分构成部件配置于作为基座(212)的一个面(212a)的背面的另一个面(212b)。在一个实施例中，多个构成部件例如是流量控制器(FD)和二次侧阀(FV2)，二次侧阀(FV2)配置于配置有流量控制器(FD)的基座(212)的面(212a)的背侧的面(212b)。
-
公开(公告)号：CN110444460B
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN201910738671.0
申请日：2015-08-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/67 , C23C16/455 , C23C16/509
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置的应用方法。一个实施方式的等离子体处理装置中的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。所述应用方法包括：使多个流量控制单元停止的步骤；关闭机构中的多个第一阀、第二阀和第三阀的步骤；打开多个第四阀的步骤；和利用压力计对排气管的压力进行计测的步骤。由此，能够检测气体供给系统所具有的多个第一阀的泄漏。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106575615A
公开(公告)日：2017-04-19
申请号：CN201580040141.9
申请日：2015-08-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , C23C16/455 , C23C16/509 , H01L21/31
Abstract: 一个实施方式的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。
-
公开(公告)号：CN106257623A
公开(公告)日：2016-12-28
申请号：CN201610437677.0
申请日：2016-06-17
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , H01J37/32
CPC classification number: H01L21/67069 , C23C16/455 , C23C16/45561 , G01F1/684 , G05D7/0635 , H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32449 , H01J37/32834 , H01J2237/334 , H01L21/31116 , H01L21/67017 , H01L21/67253 , H01L21/3065 , H01J37/32091 , H01J37/32366
Abstract: 本发明的课题在于提高工艺的生产量。一个实施例中的气体供给系统具有构成气体供给系统的多个构成部件和用于配置多个构成部件的基座(212)。在多个构成部件中，一部分构成部件配置于基座(212)的一个面(212a)，另一部分构成部件配置于作为基座(212)的一个面(212a)的背面的另一个面(212b)。在一个实施例中，多个构成部件例如是流量控制器(FD)和二次侧阀(FV2)，二次侧阀(FV2)配置于配置有流量控制器(FD)的基座(212)的面(212a)的背侧的面(212b)。
-
公开(公告)号：CN119663233A
公开(公告)日：2025-03-21
申请号：CN202411257190.5
申请日：2024-09-09
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/515 , C23C16/52 , C23C16/50
Abstract: 本发明提供一种气体供给系统、气体控制系统、等离子体处理装置以及气体控制方法。气体供给系统具有：多个气体供给流路，其能够独立地供给气体；流量控制器，其配置于气体供给流路；一次侧阀，其配置于流量控制器的上游侧；一次侧气体排气流路，其在流量控制器与一次侧阀之间的位置分支出来，连接于一次侧排气机构；一次侧排气阀，其配置于一次侧气体排气流路；二次侧阀，其配置于流量控制器的下游侧；二次侧气体排气流路，其在流量控制器与二次侧阀之间的位置分支出来，连接于二次侧排气机构；二次侧排气阀，其配置于二次侧气体排气流路，流量控制器具有：控制阀，其与一次侧阀及二次侧阀连接；以及控制侧节流孔，其配置于控制阀与二次侧阀之间。
-
公开(公告)号：CN117813677A
公开(公告)日：2024-04-02
申请号：CN202280053234.5
申请日：2022-07-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/3065 , G05D7/06 , H01L21/205 , H01L21/31
Abstract: 一种向处理腔室内供给气体的气体供给系统，具有：多个气体供给流路，所述多个气体供给流路构成为能够各自独立地向所述处理腔室供给气体；流量控制器，在多个所述气体供给流路的各所述气体供给流路配置所述流量控制器；一次侧阀，其配置于所述气体供给流路中的比所述流量控制器靠上游侧的位置；一次侧气体排气流路，其在所述气体供给流路中的所述流量控制器与所述一次侧阀之间分支出来并连接于一次侧排气机构；一次侧排气阀，其配置于所述一次侧气体排气流路；二次侧阀，其配置于所述气体供给流路中的比所述流量控制器靠下游侧的位置；二次侧气体排气流路，其在所述气体供给流路中的所述流量控制器与所述二次侧阀之间分支出来并连接于二次侧排气机构；以及二次侧排气阀，其配置于所述二次侧气体排气流路，其中，所述流量控制器具有：控制阀，其与所述一次侧阀及所述二次侧阀连接；以及控制侧节流孔，其配置于所述控制阀与所述二次侧阀之间。
-
公开(公告)号：CN110444460A
公开(公告)日：2019-11-12
申请号：CN201910738671.0
申请日：2015-08-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01J37/32 , H01L21/02 , H01L21/3065 , H01L21/67 , C23C16/455 , C23C16/509
Abstract: 本发明提供一种等离子体处理装置的应用方法。一个实施方式的等离子体处理装置中的气体供给系统包括第一～第三机构。第一机构的多个整合部构成为对来自一个以上的气源的气体进行选择并输出所选择的气体。第二机构构成为对来自多个整合部的多个气体进行分配，对所分配的气体的流量进行调节并将其输出。第三机构构成为将气体供给系统内的气体排出至排气装置。所述应用方法包括：使多个流量控制单元停止的步骤；关闭机构中的多个第一阀、第二阀和第三阀的步骤；打开多个第四阀的步骤；和利用压力计对排气管的压力进行计测的步骤。由此，能够检测气体供给系统所具有的多个第一阀的泄漏。
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
8
records
(took 0.036 seconds)
