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公开(公告)号：CN103360062A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310069009.3
申请日：2013-03-05
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C04B35/49 , C04B35/624
CPC classification number: H01L41/1876 , C23C18/1216 , C23C18/1254 , C23C18/1283 , C23C18/1291
Abstract: 本发明提供一种铁电薄膜形成用溶胶-凝胶液和铁电薄膜的形成方法。在形成PZT系铁电薄膜时，能够将通过溶胶-凝胶法涂布一次形成的一层涂得较厚，并且，能够在临时烧结、烧成之后使PZT膜为无龟裂且致密的膜结构。铁电薄膜形成用溶胶-凝胶液含有PZT系化合物、含聚乙烯吡咯烷酮的粘度调整用高分子化合物及含甲酰胺系溶剂的有机掺杂剂，以氧化物换算计含17质量%以上的PZT系化合物，以单体换算计聚乙烯吡咯烷酮相对所述PZT系化合物的摩尔比为PZT系化合物:聚乙烯吡咯烷酮=1:0.1～0.5，所述溶胶-凝胶液中含3质量%～13质量%的甲酰胺系溶剂，从而能够使涂布一次形成的一层增厚，谋求提高生产效率且临时烧结、烧成之后也可实现无龟裂且紧密的成膜。
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公开(公告)号：CN103360044A
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201310088140.4
申请日：2013-03-19
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C04B35/26 , C04B35/624
CPC classification number: C09D5/23 , C23C18/1216 , C23C18/1245 , C23C18/1254 , C23C18/1283 , H01F10/20 , H01F41/22 , H01F41/24
Abstract: 本发明的课题在于提供一种铁氧体薄膜形成用组合物和利用该组合物的铁氧体薄膜的形成方法及以该方法形成的铁氧体薄膜，所述铁氧体薄膜为用于通过溶胶-凝胶法形成铁氧体薄膜的组合物，其能够形成较薄且均匀的膜厚的铁氧体薄膜，且长期保存稳定性优异。该铁氧体薄膜形成用组合物，其为用于通过溶胶-凝胶法形成NiZn铁氧体、CuZn铁氧体、NiCuZn铁氧体薄膜的组合物，上述组合物通过将金属原料溶解于包含乙腈的溶剂而成，将上述组合物设为100质量%时的乙腈的比例为30～60质量%。
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公开(公告)号：CN103302324A
公开(公告)日：2013-09-18
申请号：CN201310007912.7
申请日：2013-01-09
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明提供一种在碳钢、不锈钢等的高速断续切削加工中，硬质包覆层发挥优异的耐崩刀性、耐剥离性、耐磨损性的表面包覆切削工具。本发明的表面包覆切削工具中，在工具基体的表面形成基底层，且进一步在其上面，包覆形成由底层和上层构成的Al2O3硬质包覆层，其中，底层由结晶Al2O3层、上层由非晶SiO2层构成，在上述底层形成凹部，上层的非晶SiO2层以埋入该凹部的方式填充成膜，该凹部的平均深度为0.5～10.0μm，该凹部的平均纵横尺寸比为1.0～40，该凹部之间的平均水平间隔为0.5～15μm。
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公开(公告)号：CN103160784A
公开(公告)日：2013-06-19
申请号：CN201210358607.8
申请日：2012-09-24
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C23C14/08
Abstract: 本发明提供一种用于通过真空蒸镀法以高成膜率且低喷溅成膜氧化物薄膜的颗粒状蒸镀材及蒸镀膜的成膜方法以及利用该蒸镀材成膜的蒸镀膜。本发明的颗粒状蒸镀材，其特征在于，该颗粒状蒸镀材由对纯度为98%以上且小于100%的WO3-x原料粉末（其中，0≤x≤1。）进行造粒处理而形成的平均粒径为1～10mm的颗粒体构成。并且，本发明的蒸镀膜的成膜方法，其特征在于，该成膜方法利用上述颗粒状蒸镀材，通过电阻加热法、电子束蒸镀法或反应性等离子体蒸镀法来进行成膜。
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公开(公告)号：CN103130504A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201210470775.6
申请日：2012-11-20
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: C04B35/491 , C04B35/472 , C04B35/622
CPC classification number: C09D5/00 , C08K5/0091 , C08K5/098 , C09D1/00 , C09D5/24 , H01L21/02197 , H01L21/02282 , H01L28/55 , Y10T428/31855
Abstract: 本发明公开了一种铁电薄膜形成用组合物，用于形成钛酸铅类钙钛矿膜或锆钛酸铅类复合钙钛矿膜组成的铁电薄膜。组合物包括乙酸铅、由乙酰丙酮或二乙醇胺组成的稳定剂和聚乙烯吡咯烷酮。换算为单体的所述聚乙烯吡咯烷酮的摩尔数与组合物中所含的钙钛矿B位原子的摩尔数之比为大于0且小于0.015。聚乙烯吡咯烷酮的重均分子量为5000以上且100000以下。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102965620A
公开(公告)日：2013-03-13
申请号：CN201210269938.4
申请日：2012-07-31
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明提供一种适于形成透明性及气体遮断性优异的薄膜的溅射靶及其制造方法、利用该靶得到的薄膜、具备该薄膜的薄膜片以及层叠片。本发明的溅射靶，其特征在于，由将氧化锌（ZnO）和氧化铝（Al2O3）作为主要成分的烧结体构成，烧结体的相对密度为95%以上，氧化锌（ZnO）与氧化铝（Al2O3）的摩尔比为50：50～95：5。
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公开(公告)号：CN102787356A
公开(公告)日：2012-11-21
申请号：CN201210150587.5
申请日：2012-05-15
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: H01L41/1876 , C30B1/023 , C30B29/16 , H01L21/02186 , H01L21/02194 , H01L21/02197 , H01L21/02282 , H01L21/02304 , H01L21/28291 , H01L28/55 , H01L28/56 , H01L28/65 , H01L28/75 , H01L29/516 , H01L35/22 , H01L35/34 , H01L41/0815 , H01L41/318 , H01L41/319 , Y10T428/249921 , Y10T428/25 , Y10T428/26 , Y10T428/265
Abstract: 本发明提供一种不设置晶种层、缓冲层，就能够简便地得到晶体取向被择优控制为（110）面的铁电薄膜的铁电薄膜的制造方法。通过在具有晶面为（111）轴向取向的下部电极的基板的下部电极上涂布铁电薄膜形成用组合物，进行加热使其结晶，从而在下部电极上制造铁电薄膜，在该制造方法中，铁电薄膜包含晶体取向被择优控制为（110）面的取向控制层，将取向控制层的结晶后的层厚设在5nm～30nm的范围内来形成。
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公开(公告)号：CN102482115A
公开(公告)日：2012-05-30
申请号：CN201080038913.2
申请日：2010-09-02
Applicant: 三菱综合材料株式会社
CPC classification number: C04B35/624 , C01G23/006 , C04B35/4686 , C04B35/47 , C04B2235/441 , C04B2235/6562 , H01G4/1227 , H01G4/33 , H01G7/06 , H01L21/02197 , H01L21/02282 , H01L28/55 , Y10T29/435 , Y10T428/2495
Abstract: 本发明的电介质薄膜的形成方法中，通过溶胶-凝胶法来形成Ba1-xSrxTiyO3（0.2＜x＜0.6、0.9＜y＜1.1）的电介质薄膜时，从涂布至烧成的工序进行2～9次，使初次烧成后形成的薄膜的厚度为20～80nm、使第2次以后的烧成后形成的各薄膜的厚度为20～小于200nm、初次至2～9次的各烧成通过在大气压气氛下、以升温速度1～50℃/分升温至500～800℃范围内的规定温度来进行，使电介质薄膜的总厚为100～600nm。
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公开(公告)号：CN113574615A
公开(公告)日：2021-10-29
申请号：CN202080021132.6
申请日：2020-02-17
Applicant: 三菱综合材料株式会社
IPC: H01F5/06 , G01N23/2276 , H01B7/02 , G01N27/62
Abstract: 本发明的绝缘铜线(10)具有铜线及包覆所述铜线的表面的绝缘覆膜(12)，所述绝缘覆膜(12)包含具有酰胺键的高分子材料，在通过剥离所述绝缘覆膜(12)而形成于所述绝缘铜线的表面的剥离面(14)中，与氮原子或碳原子键合的铜原子比与氧原子键合的铜原子多，并且从剥离面(14)沿深度方向形成有含有10原子％以上的氧的含氧层(13)，所述含氧层(13)的膜厚在2nm以上且30nm以下的范围内。电线圈通过卷绕上述绝缘铜线(10)而形成。
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公开(公告)号：CN111819640A
公开(公告)日：2020-10-23
申请号：CN201980017158.0
申请日：2019-03-13
Applicant: 三菱综合材料株式会社
Abstract: 本发明提供一种绝缘导体线材的制造方法，所述绝缘导体线材由绝缘覆膜包覆具有形成有槽部(11，51)的平面(12)的导体线材而成，所述绝缘导体线材的制造方法包括：电沉积工序，将所述导体线材浸渍于电沉积液(62)中，并通过电沉积法在所述导体线材的表面形成绝缘层(13)；电沉积液去除工序，从所述电沉积液(62)中取出形成有所述绝缘层(13)的所述导体线材，并对所述导体线材的形成有所述槽部(11，51)的平面侧的面喷吹气体，从而去除附着于所述绝缘层(13)上的电沉积液(62)；及烧结工序，通过对形成有去除了所述电沉积液(62)的所述绝缘层(13)的所述导体线材进行加热，在所述导体线材上烧结所述绝缘层(13)，从而由绝缘覆膜包覆所述导体线材。
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