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公开(公告)号：CN111142254A
公开(公告)日：2020-05-12
申请号：CN202010090733.4
申请日：2020-02-13
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种分离式调控角度漂移与位置漂移的激光束指向稳定装置，该装置将入射激光光束通过两个分光棱镜与一个偏振分光棱镜分光，得到一束工作光束与三束监控光束，三束监控光束由相应的光电器件接受并分别用于监控角度偏移与二维位置偏移，根据得到的监控信息完成对激光光束角度与位移参量的实时校正。本发明对角度偏移与位置偏移的测量与控制进行了有效分离，分别对入射光束的水平位移与垂直位移进行实时调整，调整精度高，调整过程快速，且不会出现耦合干扰；实现激光束的位置漂移精度优于100nm，角度漂移调整精度优于0.1urad；利用本发明装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN118466124A
公开(公告)日：2024-08-09
申请号：CN202410325977.4
申请日：2024-03-21
Abstract: 一种基于多通道独立控制的激光并行直写装置及方法；该装置包括光提供源、位于光源输出光路上的微透镜阵列MLA、多通道声光调制器AOMC、第一凸透镜、反射镜、二向色镜、位于二向色镜透射光路上的物镜、精密位移台、以及位于二向色镜反射光路上的第二凸透镜、CCD10；MLA包含m×n个微透镜，用于生成m×n的激光焦点阵列，AOMC包含m×n个通道，可对m×n光束阵列的各子光束进行独立开关和强度调控。本发明装置结构简洁，可产生独立可控的m×n个光束，可实现高通量并行加工，能高速加工高精度的三维微结构，可应用于超分辨激光直写等领域。
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公开(公告)号：CN118426258A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202310100102.X
申请日：2023-02-02
Abstract: 本发明公开了一种高精度激光直写金属掺杂氧化锌微纳结构的制造方法及用于该方法的锌基光刻胶。所述锌基光刻胶由锌基光刻胶单体、双光子引发剂、自由基捕捉剂、金属配合物和溶剂制成。本发明提供了一种激光直写金属掺杂氧化锌微纳结构的制造方法，包括：S1：将所述的锌基光刻胶旋涂在基板上形成光刻胶薄膜；S2：依据设计的图案，通过振镜系统控制激光焦点的位置，用飞秒激光诱导光刻胶薄膜在选定的位置发生聚合，经过显影后获得所设计的图案；S3：将获得的光刻图案在空气气氛中，经热解得到金属掺杂氧化锌微纳图案。本发明通过飞秒激光直写的方式实现金属掺杂氧化锌的高精度图案化，刻写精度最高达到亚百纳米，掺杂均匀。
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公开(公告)号：CN116300310B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202310020668.1
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种利用光引发剂实现超分辨激光直写与成像的方法，通过在光刻胶单体中加入的光引发剂7‑二乙基氨‑3‑(2‑噻吩基)香豆素(DETC)，利用边缘光抑制效应(PPI)，可以实现高精度激光直写；同时，利用其本身的荧光发光特性，及其存在的本征受激辐射效应，还可以实现超分辨受激辐射损耗显微成像(STED)。本发明利用DETC这些特性，在同一个装置中同时构建激光直写系统和显微成像系统，同时实现高精度刻写与超分辨成像。相比于掺杂荧光染料的方式，简化了光刻胶的成分，在一个系统中同时实现高精度刻写与超分辨成像，将刻写系统中的抑制光光路复用于成像系统中的损耗光路，有效简化了系统。本发明还包括一种利用光引发剂实现超分辨激光直写与成像的装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113960892B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202111248690.9
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的高速并行激光直写光刻的方法与装置，本发明装置利用像旋转器对多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明基于上述五种不同扫描策略，有效解决了现有并行激光直写由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。本发明针对不同应用，使用不同扫描策略，实现扫描速度与扫描质量的双重提升。
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公开(公告)号：CN113703170B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202110886687.3
申请日：2021-08-03
Abstract: 本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置，属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至，在转化成圆偏光，两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光，聚焦形成新型三维中空光场。该装置，包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM，第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF，并且利用SLM的偏振选择特性，可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化，采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
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公开(公告)号：CN113093480B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110403505.2
申请日：2021-04-15
Abstract: 本发明公开了一种并行曝光抑制超衍射极限激光直写物镜。该物镜由12片正光焦度镜片，8片负光焦度镜片共20片镜片构成，其中5片镜片采用火石玻璃、15片镜片采用冕牌玻璃构，且8片为超低色散镜片。该物镜数值孔径约为1.4、波长522nm‑790nm范围内光的垂轴色差小于5.1nm、物方视场角±4.2°，像方线视场约1mm，可将用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写的两波长激光聚焦在直径1μm以内，且两波长焦点在全视场范围内重合，达到边缘曝光抑制的效果，最终实现特征线宽小于衍射极限的超衍射极限激光直写。利用本发明聚焦得到的激光光斑，可广泛应用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写。
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公开(公告)号：CN113960891B
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202111248686.2
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种并行穿插超分辨高速激光直写光刻的方法与装置。本发明方法使用并行穿插算法，首先基于刻写光空间光调制器产生刻写用多光束实心光斑；基于抑制光空间光调制器产生抑制用多光束空心光斑；然后将多光束实心光斑与多光束空心光斑合束产生调制后的多光束光斑；再基于多通道声光调制器输出刻写波形，位移台匀速移动直到完成一整列区域刻写，关闭光开关，位移台进行一次步进移动；直到所有图形刻写完成。本发明装置基于并行穿插扫描策略，有效解决了现有并行转镜激光直写光刻系统由于扫描策略过于简单而导致刻写效率低下的问题。同时，基于边缘光抑制原理获得超分辨效果，提升了现有双光子激光直写光刻的刻写精度。
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公开(公告)号：CN117518745A
公开(公告)日：2024-02-06
申请号：CN202311698340.1
申请日：2023-12-12
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种光纤激光直写系统和光纤激光直写方法，其中，该光纤激光直写系统包括：发射模块、调整模块，光纤补偿模块、光栅补偿模块、光纤分束模块以及空间光路模块。其中通过光纤补偿模块、光栅补偿模块实现对光纤分束模块和空间光路中产生的线性或非线性色散的预补偿，通过调节第一光纤和第二光纤的长度，使两段光纤中产生的非线性色散相抵消，并利用光栅补偿模块中的光栅对，补偿光纤和空间光路传输中产生的线性色散，消除光纤传输造成的线性脉宽展宽和非线性脉宽展宽，从而解决了相关技术中脉宽展宽造成的光纤激光直写的刻写精度低的问题，提高了光纤激光直写的刻写精度。
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