双光子刻写功率补偿模板构建方法及刻写功率调节方法

    公开(公告)号:CN116974155A

    公开(公告)日:2023-10-31

    申请号:CN202310982115.4

    申请日:2023-08-07

    Abstract: 本发明涉及双光子刻写功率补偿模板构建方法及刻写功率调节方法,包括:在标准直写视场内将设定功率为P0的激光照射至光刻胶上产生艾里斑,获取艾里斑长度l,以确定标准直写视场中光刻胶的刻蚀深度b0;基于b0确定标准直写视场中对应光刻胶的刻蚀体积V0;获取标准直写视场中刻蚀体积为V0的光刻胶发出的标准荧光强度F0;基于F0=ΩV0确定Ω,Ω为单位体积光刻胶发出的荧光强度;对样本直写视场进行分割,以获得至少两个样本视场分区,获取第n个样本视场分区的面积Sn、激光设定功率Pn以及实际荧光强度为Fn';基于Ω、Sn以及Fn'确定第n个样本视场分区的实际刻写功率Pn';基于Pn'和Pn确定第n个样本视场分区的补偿系数Ψn;基于所有样本视场分区的补偿系数构件刻写功率补偿模板。

    基于矢量光场调控的超衍射极限激光直写装置和方法

    公开(公告)号:CN117970752A

    公开(公告)日:2024-05-03

    申请号:CN202410155760.3

    申请日:2024-02-04

    Abstract: 本申请涉及一种基于矢量光场调控的超衍射极限激光直写装置和方法,该装置包括:激光输出模块,产生飞秒激光;准直扩束模块,将激光输出模块产生的飞秒激光的光斑直径扩大至预设的直径大小;偏振纯化与能量控制模块,将准直扩束模块输出的飞秒激光进行偏振纯化,得到线偏振激光并控制线偏振激光的偏振角度;矢量偏振激光调制模块,包括沃拉斯顿棱镜和空间光调制器;沃拉斯顿棱镜,对线偏振激光进行分离;空间光调制器,对线偏振激光进行相位调控,合成目标矢量偏振激光;共焦缩束模块,缩小目标矢量偏振激光的光斑直径;扫描直写模块,将共焦缩束模块输出的目标矢量偏振激光进行预设图案的激光直写。提高了光学器件调用的灵活性和可迁移性。

    基于空间光调制器屏分复用的柱矢量光束产生系统及装置

    公开(公告)号:CN117170116A

    公开(公告)日:2023-12-05

    申请号:CN202311053404.2

    申请日:2023-08-21

    Abstract: 本发明公开了一种基于空间光调制器屏分复用的柱矢量光束产生系统,包括:所述激光器,用于提供初始的激发光;所述偏振控制模块,用于调节入射激发光的偏振方向,以获得对应的线偏振激光,其包括垂直偏振分量和水平偏振分量;所述准直扩束模块,用于调节线偏振激光的光束直径,并入射至空间光调制器的液晶面元;所述空间光调制模块,根据预加载在空间调制器两屏上的相位图,并调节入射线偏振激光的偏振角度,以生成目标柱矢量光束;所述观测模块,用于观测所述目标柱矢量光束的能量分布和偏振分布形式。本发明还提供一种柱矢量光束产生装置。本发明提供的系统可以有效提高柱矢量光束的能量利用率以及降低系统误差。

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