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公开(公告)号：CN119270581B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202411797928.7
申请日：2024-12-09
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于双光子吸收效应的成像方法和装置，其方法包括：（1）在样品中引入具有双光子吸收特性的光敏物质；（2）使用飞秒激光对样品进行精确聚焦，通过双光子吸收诱导微纳结构的形成；（3）对样品进行清洗，去除未反应的光敏物质，并使其风干；（4）将处理后的样品放回样品台，再次使用飞秒激光聚焦于样品上，激发双光子发光，接收荧光并汇聚至探测器，实现微纳结构的超分辨显微成像。本发明利用光敏物质的双光子聚合特性和荧光发光特性，可实现微纳结构的形成并对其进行成像，无需在样品中额外掺杂染料，简化了样品的材料成分。此外，本发明可利用同一飞秒激光同时实现超分辨结构构建与成像，有效简化了系统。
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公开(公告)号：CN116165850B
公开(公告)日：2025-04-29
申请号：CN202310119397.5
申请日：2023-01-17
Abstract: 本说明书公开了一种用于激光直写的光纤光刻物镜镜头，该物镜镜头包括：光焦度为负的第一透镜组、光焦度为负的第二透镜组以及光焦度为正的第三透镜组，第一透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、负、正的透镜；第二透镜组包含三个光焦度依次为负、正、负的透镜；第三透镜组中包含四个光焦度依次为正、负、正、正的透镜；第一透镜组负责接收光源，并将光源折射至第二透镜组，第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将收集的光线折射至第三透镜组，第三透镜组将光线将聚焦于基底，物镜镜头中的透镜均处于同一光轴，本说明书中的物镜镜头能够校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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公开(公告)号：CN118625598A
公开(公告)日：2024-09-10
申请号：CN202310740014.6
申请日：2023-06-21
Abstract: 本发明公开了一种基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶及其图案化方法。所述基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶按质量份数计，包括以下组分：1‑3份聚羟基苯乙烯化合物，1‑7份活性交联剂，0.2‑0.5份双光子引发剂，0‑0.5份增敏剂，0～90份溶剂。本发明提供的基于聚羟基苯乙烯的双光子光刻胶具有良好的成膜性，利用飞秒激光直写光刻系统，可以刻写出满足微纳加工需求的光刻胶线条，具有良好的精度，在微纳电子器件、集成电路和显示面板等半导体制造领域内有巨大的应用前景。
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公开(公告)号：CN118259558A
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202410375298.8
申请日：2024-03-29
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明公开了一种基于轴向分辨率压缩优化刻写结构表面粗糙度的方法；该方法通过引入0‑π相位掩膜调制的边缘抑制光，实现刻写结构横向和轴向分辨率的提升；同时，在光刻胶组合物中添加自由基抑制剂，进一步提高刻写的空间分辨率；本发明将光抑制效应与化学抑制效应相结合，实现平面圆盘、微透镜表面粗糙度的降低，且规避了由于轴向分辨率过低引发的弯曲轮廓器件表面的台阶状痕迹；本发明能为复杂光学器件制备中表面粗糙度的优化提供基础。
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公开(公告)号：CN118067678A
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202410261503.8
申请日：2024-03-07
Abstract: 本发明公开了一种多模态点扫描超分辨显微成像系统，所述系统主要包括扫描控制模块，采集控制模块，测量任务信息处理模块和界面显示模块。包括界面显示控制模块、测量任务信息处理模块、采集控制模块、空间光调制器控制模块和扫描控制模块；所述的多模态包括常规的激光扫描共聚焦模式、受激发射损耗显微镜模式、荧光辐射微分超分辨显微模式、荧光寿命成像模式以及各自模式下的多探测器像素重组图像显微方法，所述系统着眼于支持以上模式的点扫描超分辨成像系统，界面美观，显示合理多样，功能全面且强大，操作简单，顺应了科技飞速发展背景下的实用需求，非常适合在光学显微系统的构建及相关应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113834515B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202110946914.7
申请日：2021-08-18
IPC: G01D21/00
Abstract: 本发明公开了一种高时空分辨双光子激光直写原位红外探测装置与方法，该装置基于光参量效应产生红外波段飞秒激光，脉冲时间短、峰值能量高；解决了传统双光子激光直写原位红外探测技术中时间分辨率低，无法实现超快动力学过程原位探测的问题。基于反射式物镜对红外飞秒激光进行聚焦，并结合共聚焦光学系统；解决了传统双光子激光直写原位红外探测技术中空间分辨率低，无法实现局部精细区域动力学过程原位探测的问题。本发明还公开了两种高时空分辨双光子激光直写原位红外探测方法，可以分别针对空间定点动力学过程，以及材料超快动力学过程进行原位探测，方法简单、适用面广、拓展性强。
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公开(公告)号：CN117706880A
公开(公告)日：2024-03-15
申请号：CN202410057491.7
申请日：2024-01-15
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置、光栅的制备方法、菲尼尔透镜的制备方法及应用，在光路传播方向上依次包括多光束光源、刻写光路和样品台；其中，多光束光源包括转动单元以及至少两根光纤头，所述转动单元具有第一转轴，所述光纤头的延伸方向和第一转轴平行，且所述光纤头和所述第一转轴间隔设置，所述转动单元用于控制所述光纤头绕第一转轴转动。
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公开(公告)号：CN112666803B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110048240.9
申请日：2021-01-14
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置，包含两路光：一路光通过镀涡旋膜MLA产生涡旋抑制光阵列，同时利用SLM控制各涡旋光的位置和形貌，结合DMD独立调控涡旋光强度，实现聚合区域大小控制；另一路光通过MLA产生激发光点阵，同时利用SLM调控各激发光位置，实现激发光和涡旋光阵列的精密重合。本发明可产生刻写点大小独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI光斑由激发光和涡旋抑制光组成；采用相同刻写点大小的PPI阵列进行加工，具有超高分辨率、高通量和高均匀度的优势，控制刻写点大小使其具有特定分布，还能实现灰度光刻功能，加工任意高均匀度曲面结构和真三维微结构，可应用于超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN117539044A
公开(公告)日：2024-02-09
申请号：CN202311608615.8
申请日：2023-11-29
Applicant: 之江实验室
Abstract: 一种基于基片表面自干涉的焦面锁定方法及装置，包括激光器、透镜组、分束器、四分之一波片、压电位移台、基片、载物台、成像物镜、相机和计算机或图形处理器。基片表面起伏结构的散射光与透射光或反射光发生干涉，形成散斑图像，散斑图像随成像物镜焦面的移动而变化。通过采集成像物镜焦面各位置处的散斑图像形成图像堆栈，并计算当前时刻散斑图像与图像堆栈中散斑图像的相似度，可确定当前成像物镜的焦面位置，并进一步实现焦面锁定的功能。本发明提供一种通过光学手段实现焦面锁定的方法及装置，具有装置简单、样品制备流程简单、装置简单、与各类光学系统兼容性强的优势。
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公开(公告)号：CN114019763B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202111120476.5
申请日：2021-09-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置，装置主要包含四个相同光路，每个光路包含核心元件数字微镜阵列DMD和微透镜阵列MLA，用于产生千束独立可控刻写点阵，光路中DMD将有效像素区域等分成M×N个子阵列，一个子阵列对应一个子光斑，从DMD出射的M×N子光斑与MLA的M×N微透镜空间上重合后，产生M×N千束焦点阵列，并最终成像到物镜焦平面上，通过四个千束点阵的拼接，最终实现万束刻写点阵的产生，能够快速加工高质量复杂三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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