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公开(公告)号:CN1970232B
公开(公告)日:2010-09-29
申请号:CN200610172857.7
申请日:2006-09-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: B24D18/00 , B24D17/00 , B24B29/02 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/26
Abstract: 本发明涉及一种制造化学机械抛光垫的方法,其提供了一种完全抑制被抛光表面上形成划痕且具有良好抛光速率的化学机械抛光垫。该方法包括(A)组步骤和(B)组步骤中的任一组,(A)组步骤至少包括以下(A1)至(A5)的步骤:(A1)准备用于形成化学机械抛光垫的组合物的步骤;(A2)将用于形成化学机械抛光垫的组合物模制成垫状体的步骤;(A3)将垫状体安装在切削机圆台上的步骤,该切削机至少具有装配有铣刀的铣削单元、能够标引角度并定位的驱动单元和通过驱动单元转动的圆台;(A4)用铣刀形成第二组槽的步骤;以及(A5)形成第一组槽的步骤,并且(B)组步骤至少包括以下(B1)至(B3)的步骤:(B1)准备用于形成化学机械抛光垫的组合物的步骤;(B2)通过使用具有相应于第二组槽形状的凸起的金属模型,将用于形成化学机械抛光垫的组合物模制成具有第二组槽的垫状体的步骤;以及(B3)形成第一组槽的步骤。
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公开(公告)号:CN101130577B
公开(公告)日:2010-08-25
申请号:CN200610121651.1
申请日:2006-08-25
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F8/30 , G02F1/1339 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明提供一种放射线敏感性树脂组合物,其特征在于,在曝光量之下也得到充分的间隔体形状,并且可以形成弹性回复性、耐摩擦性、与透明基板的附着性、耐热性等优良,并且在取向膜剥离时充分地显示剥离液耐受性的液晶显示元件用间隔体.该放射线敏感性树脂组合物包含以下成分;使(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐、(a2)1分子中包含1个以上羟基的不饱和化合物和(a3)其他不饱和化合物的共聚物与特定的异氰酸酯化合物反应而得到的聚合物;(B)聚合性不饱和化合物;和(C)放射线敏感性聚合引发剂。
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公开(公告)号:CN100486770C
公开(公告)日:2009-05-13
申请号:CN200510068474.0
申请日:2005-04-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: B24B37/04 , B24B49/12 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/04 , B24D18/0009
Abstract: 本发明提供一种化学机械研磨垫,其包括具有研磨面的研磨基体及熔合在该研磨基体上的透光性构件,且以平行于研磨面的面切断该透光性构件时的剖面形状为长径除以短径的值大于1的椭圆形。该研磨垫对于半导体晶圆的研磨面,可不降低研磨性能地透过终点检测用光。
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公开(公告)号:CN100410017C
公开(公告)日:2008-08-13
申请号:CN200510054230.7
申请日:2005-02-05
Applicant: JSR株式会社
IPC: B24D3/22 , C08J5/00 , B24B37/00 , H01L21/304
Abstract: 一种化学机械抛光垫,包含由(A)苯乙烯聚合物和(B)二烯聚合物构成的非水溶性基质。上述化学机械抛光垫的制造方法,其特征在于制备含有(A)苯乙烯聚合物、(B)二烯聚合物和(C)交联剂的组合物,将上述组合物成形为预定的形状,并在成形的同时或者成形后加热使其固化,以及一种化学机械抛光方法,其特征在于通过上述化学机械抛光垫对被抛光物的被抛光面进行抛光。根据本发明,可以提供一种化学机械抛光垫,其能够优选适用于金属膜的抛光或绝缘膜的抛光、特别是STI技术,在得到平坦的被抛光面的同时,还能达到较高的抛光速度,且具有足够长的寿命。
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公开(公告)号:CN100392008C
公开(公告)日:2008-06-04
申请号:CN02129797.5
申请日:2002-08-14
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08K5/54 , C08L83/16 , C09D183/16 , H01L31/0216
CPC classification number: H01L31/1804 , C23C18/1212 , C23C18/122 , C23C18/1279 , C23C18/14 , H01L21/228 , Y02E10/547 , Y02P70/521
Abstract: 一种用于制造太阳能电池半导体薄膜的硅烷组合物,所述硅烷组合物含有:用式SinRm所示的聚硅烷化合物(式SinRm中,n为3以上的整数,m为n~(2n+2)的整数,m个R互相独立地为氢原子、烷基、苯基或卤素原子,当m个R全部为氢原子、且m=2n时,n为7以上的整数)和(B)从环戊硅烷、环己硅烷和甲硅烷基环戊硅烷中选择的至少一种硅烷化合物。
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公开(公告)号:CN100352605C
公开(公告)日:2007-12-05
申请号:CN200410064056.X
申请日:2004-07-16
Applicant: JSR株式会社
CPC classification number: B24B37/205 , B24B37/013
Abstract: 本发明提供了化学机械抛光垫。该垫含有水不溶性基质和分散于该水不溶性基质材料中的水溶性颗粒,并具有抛光表面和该抛光表面反面上的非抛光表面,该垫具有透光区域,它从抛光表面到非抛光表面是光学相通的。该透光区域的非抛光表面具有10μm或更小的表面粗糙度(Ra)。
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公开(公告)号:CN101078879A
公开(公告)日:2007-11-28
申请号:CN200710105178.2
申请日:2007-05-24
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/028 , G03F7/00 , G02F1/1339
Abstract: 本发明提供一种感放射线性树脂组合物,其特征在于,含有(A)嵌段共聚物、(B)聚合性不饱和化合物、(C)感放射线性聚合引发剂,其中(A)嵌段共聚物具有2个以上的嵌段链段,在其中的至少一个嵌段链段上含有碱可溶性部位。可以容易地形成高感度、高分辨率、并且图案形状、压缩特性、耐摩擦性、与透明基板的密合性等诸性能优异的图案状薄膜,抑制了LCD显示中的烧屏的间隔物形成用感放射线性树脂组合物,由该组合物形成的间隔物以及其形成方法。另外,还提供可以减少液晶滴加量所引起的未填充区域故障、防止在滤光片上由于压力所造成的损伤、克服在工序上产生的厚度偏差的间隔物形成用感放射线性树脂组合物。
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公开(公告)号:CN1970232A
公开(公告)日:2007-05-30
申请号:CN200610172857.7
申请日:2006-09-15
Applicant: JSR株式会社
IPC: B24D18/00 , B24D17/00 , B24B29/02 , H01L21/304
CPC classification number: B24B37/26
Abstract: 本发明涉及一种制造化学机械抛光垫的方法,其提供了一种完全抑制被抛光表面上形成划痕且具有良好抛光速率的化学机械抛光垫。该方法包括(A)组步骤和(B)组步骤中的任一组,(A)组步骤至少包括以下(A1)至(A5)的步骤:(A1)准备用于形成化学机械抛光垫的组合物的步骤;(A2)将用于形成化学机械抛光垫的组合物模制成垫状体的步骤;(A3)将垫状体安装在切削机圆台上的步骤,该切削机至少具有装配有铣刀的铣削单元、能够标引角度并定位的驱动单元和通过驱动单元转动的圆台;(A4)用铣刀形成第二组槽的步骤;以及(A5)形成第一组槽的步骤,并且(B)组步骤至少包括以下(B1)至(B3)的步骤:(B1)准备用于形成化学机械抛光垫的组合物的步骤;(B2)通过使用具有相应于第二组槽形状的凸起的金属模型,将用于形成化学机械抛光垫的组合物模制成具有第二组槽的垫状体的步骤;以及(B3)形成第一组槽的步骤。
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公开(公告)号:CN1916761A
公开(公告)日:2007-02-21
申请号:CN200610141922.X
申请日:2006-08-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/027 , G02F1/1339 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 提供一种感光性树脂组合物,其含有具有羧基或羧酸酐和氧杂环丁烷基的共聚物、烯键式不饱和化合物和作为光聚合引发剂的O-酰肟型咔唑化合物。由该组合物可以获得具有充分的操作裕度,在1,500J/m2以下的曝光量下可以得到充分的隔垫形状和膜厚,可以形成密合性、耐摩擦性、耐热性等优异,且隔垫形状、经时稳定性优异的显示面板用隔垫。
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公开(公告)号:CN1841194A
公开(公告)日:2006-10-04
申请号:CN200610067014.0
申请日:2006-03-31
Applicant: JSR株式会社
Inventor: 志保浩司
IPC: G03F7/027 , G03F7/00 , G02F1/1339 , G02F1/1333
Abstract: 本发明的课题在于提供可以一种适合用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物。为了解决上述问题,本发明提供一种用于同时形成垂直取向型液晶显示元件的突起和分隔物的放射线敏感性树脂组合物,其特征在于:包括,[A]由(a1)不饱和羧酸和/或不饱和羧酸酐,(a2)含有氧杂环丁烷基的不饱和化合物,以及(a3)上述(a1)和(a2)以外的烯烃类不饱和化合物形成的共聚物;和[B]1,2-醌二叠氮化合物。
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