研磨垫用组合物
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1757666A

    公开(公告)日:2006-04-12

    申请号:CN200510104102.9

    申请日:2003-08-26

    Abstract: 本发明涉及研磨垫用组合物。目的在于提供成形性及耐磨耗性优异,纵弹性模量的温度依赖性小的研磨垫用组合物。本研磨垫用组合物含有非水溶性基质和分散于该非水溶性基质中的水溶性粒子,其中,上述非水溶性基质含有交联乙烯-醋酸乙烯共聚物、和/或不含有交联1,2-聚丁二烯,且相对于上述非水溶性基质全体,含有规定量。

    化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法

    公开(公告)号:CN1654169A

    公开(公告)日:2005-08-17

    申请号:CN200510054230.7

    申请日:2005-02-05

    Abstract: 一种化学机械抛光垫,包含由(A)苯乙烯聚合物和(B)二烯聚合物构成的非水溶性基质。上述化学机械抛光垫的制造方法,其特征在于制备含有(A)苯乙烯聚合物、(B)二烯聚合物和(C)交联剂的组合物,将上述组合物成形为预定的形状,并在成形的同时或者成形后加热使其固化,以及一种化学机械抛光方法,其特征在于通过上述化学机械抛光垫对被抛光物的被抛光面进行抛光。根据本发明,可以提供一种化学机械抛光垫,其能够优选适用于金属膜的抛光或绝缘膜的抛光、特别是STI技术,在得到平坦的被抛光面的同时,还能达到较高的抛光速度,且具有足够长的寿命。

Patent Agency Ranking