化学机械抛光垫、其制造方法以及化学机械抛光方法

    公开(公告)号:CN100410017C

    公开(公告)日:2008-08-13

    申请号:CN200510054230.7

    申请日:2005-02-05

    Abstract: 一种化学机械抛光垫,包含由(A)苯乙烯聚合物和(B)二烯聚合物构成的非水溶性基质。上述化学机械抛光垫的制造方法,其特征在于制备含有(A)苯乙烯聚合物、(B)二烯聚合物和(C)交联剂的组合物,将上述组合物成形为预定的形状,并在成形的同时或者成形后加热使其固化,以及一种化学机械抛光方法,其特征在于通过上述化学机械抛光垫对被抛光物的被抛光面进行抛光。根据本发明,可以提供一种化学机械抛光垫,其能够优选适用于金属膜的抛光或绝缘膜的抛光、特别是STI技术,在得到平坦的被抛光面的同时,还能达到较高的抛光速度,且具有足够长的寿命。

    电极用粘结剂组合物、电极用浆料、电极和蓄电设备

    公开(公告)号:CN103289617B

    公开(公告)日:2016-03-16

    申请号:CN201310059739.5

    申请日:2013-02-26

    Abstract: 本发明涉及电极用粘结剂组合物、电极用浆料、电极和蓄电设备。本发明提供一种电极用粘结剂组合物,其能够制造长期贮藏稳定性优异且长期贮藏时密合性、充放电特性良好的电极。本发明的电极用粘结剂组合物,其特征在于,用于制作在蓄电设备中使用的电极,含有聚合物(A)、异噻唑啉系化合物(B)、和液态介质(C),所述聚合物(A)是含氟系聚合物粒子或二烯系聚合物粒子。所述聚合物(A)为二烯系聚合物粒子时,所述粘结剂组合物中的所述化合物(B)的浓度是50ppm以上且小于200ppm。

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