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公开(公告)号：CN102956531A
公开(公告)日：2013-03-06
申请号：CN201210286785.4
申请日：2012-08-13
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本发明提供一种处理系统及处理方法，该处理系统具备：收纳部，收纳被处理物；处理部，对所述被处理物实施处理；承载部，在层叠方向上隔着第1间隔具有多个承载所述被处理物的保持部；第1搬送部，在所述收纳部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的第1位置进入所述承载部；及第2搬送部，在所述处理部与所述承载部之间进行所述被处理物的搬送，在所述层叠方向上的与所述第1位置不同的第2位置进入所述承载部。而且，所述第1位置夹着所述第2位置在所述层叠方向上设置有2处，所述第1搬送部与所述第2搬送部可以同一时侯进入所述承载部。
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公开(公告)号：CN102310410A
公开(公告)日：2012-01-11
申请号：CN201110184412.1
申请日：2011-06-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 古矢正明
IPC: B25J15/00 , B25J9/00 , H01L21/687 , H01L21/677
CPC classification number: B25J15/00 , B25J11/0095 , H01L21/67766 , H01L21/67778 , H01L21/67781 , H01L21/68707 , Y10S414/141 , Y10S901/32 , Y10S901/36 , Y10S901/38 , Y10S901/39
Abstract: 本发明提供夹持装置、输送装置、处理装置和电子设备的制造方法。夹持装置具有夹持部，所述夹持部包括：第一夹持板，具有与被处理物的周向边缘抵接的第一夹持件；以及第二夹持板，具有与所述周向边缘抵接的第二夹持件，并且所述夹持部使所述第一夹持板和所述第二夹持板中的至少一个移动，以使所述第一夹持件和所述第二夹持件彼此接近或离开。夹持装置还包括：升降部，使所述夹持部升降；以及动作控制部，控制由所述夹持部进行的开闭动作和由所述升降部进行的升降动作。而且，所述动作控制部以机械方式依次控制第一升降动作、所述开闭动作和第二升降动作，所述第二升降动作与所述第一升降动作的升降方向相同。
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公开(公告)号：CN112951750A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110213053.1
申请日：2017-03-31
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 古矢正明
IPC: H01L21/677 , H01L21/687 , H01L21/67
Abstract: 本发明涉及基板输送装置、基板处理装置和基板处理方法，能够缩短基板输送时间。作为实施方式的基板输送装置发挥功能的第2输送机器人(14)具备：第1把持板(21)；第1爪部(21b)，被该第1把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板(W)的外周面抵接的抵接面；第2把持板(22)，被设置成与第1把持板重叠；第2爪部(22b)，被该第2把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；和把持部(23)，以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或分离的方式，使第1把持板以及第2把持板相对移动。
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公开(公告)号：CN107275270B
公开(公告)日：2021-03-09
申请号：CN201710206582.2
申请日：2017-03-31
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 古矢正明
IPC: H01L21/677
Abstract: 本发明涉及基板输送装置、基板处理装置和基板处理方法，能够缩短基板输送时间。作为实施方式的基板输送装置发挥功能的第2输送机器人(14)具备：第1把持板(21)；第1爪部(21b)，被该第1把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板(W)的外周面抵接的抵接面；第2把持板(22)，被设置成与第1把持板重叠；第2爪部(22b)，被该第2把持板支撑，相对于第1把持板的表面在上下具有与基板的外周面抵接的抵接面；和把持部(23)，以使第1爪部以及第2爪部在与基板的外周面相交的方向上接近或分离的方式，使第1把持板以及第2把持板相对移动。
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公开(公告)号：CN106024692B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201610192768.2
申请日：2016-03-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/687
Abstract: 本发明提供能抑制产生粉尘和旋转过程中的基板位置偏移的自旋处理装置。自旋处理装置(1)具备：多个夹销(21)，利用作用力分别抵接于基板的外周面并把持基板；旋转机构即电动机(4)等，使各夹销绕着基板的外周旋转；升降机构(3h)，使固定环形磁铁沿着基板的旋转轴方向上下：变换机构(3g)，将与固定环形磁铁相斥的旋转环形磁铁的上下方向的运动变化为横向运动；同步移动机构即多个副齿轮(3e)、主齿轮(3f)等，对应于横向运动中的某一方向的运动，使各夹销同步地抵抗上述作用力而向远离基板外周面的方向移动相同的量，对应于横向运动中的另一方向的运动，使各夹销在上述作用力下同步地向靠近基板的外周面的方向移动相同的量。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN104425235B
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：CN201410431485.X
申请日：2014-08-28
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
Inventor： 古矢正明
IPC: H01L21/304 , B05C13/00
Abstract: 本发明提供自旋处理装置，能够抑制朝基板侧的液体反弹并且实现装置的小型化以及轻量化。实施方式所涉及的自旋处理装置(1)具备：液体承接部(6)，以从旋转的基板(W)的外周离开并包围该旋转的基板的方式形成为环状，承接并收纳从该旋转的基板(W)飞散的液体；杯体(3)，以从该液体承接部(6)的外周离开并包围该液体承接部的方式形成为环状，且形成用于从液体承接部(6)的上表面沿着外周面产生气流的环状的外侧排气流路(A2)；以及分隔部件(7)，设置于液体承接部(6)的环内且形成为环状，形成用于从液体承接部(6)的内周面沿着下表面产生气流的环状的内侧排气流路(A1)。
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公开(公告)号：CN102842525B
公开(公告)日：2016-02-17
申请号：CN201210243147.4
申请日：2012-06-21
Applicant: 芝浦机械电子株式会社 , 株式会社东芝
CPC classification number: H01L21/67103 , B01D46/10 , B01D46/4263 , B01D2273/30 , H05B3/283 , H05B2203/022
Abstract: 本发明提供加热器单元、使用该加热器单元的风扇过滤器单元、使用该风扇过滤器单元的基板处理装置，可以使通过加热器单元内的空气均匀且效率高地加热，并且可以抑制从加热器对配置在加热器单元周围的部件的热传递。实施方式所涉及的加热器单元(15)包括：将线状发热体(26)弯曲成平面状而形成的平面状加热器(22)；以导热性高的材料形成为网状并且在平面状加热器(22)的至少一面侧与该平面状加热器(22)相对配置的第一网状体(23)；以及以比第一网状体(23)的导热性低的材料形成为网状并且与第一网状体(23)的与平面状加热器(22)相对的面的相反侧的面相对配置的第二网状体(24、25)。
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公开(公告)号：CN119698685A
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202380059418.7
申请日：2023-09-19
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/306 , H01L21/304
Abstract: 本发明提供一种多个夹紧销可同步地将基板稳定地定位于旋转中心的基板处理装置。实施方式的基板处理装置1具有：夹紧杆12，随着绕水平方向的轴的转动，使至少三个夹紧销11在远离基板W的外周端We的打开位置和与外周端We相接并对基板W进行保持的关闭位置之间移动；升降环15，随着升降使夹紧杆12转动；旋转体30，使由夹紧销11保持的基板W旋转；旋转机构40，使旋转体30绕轴Ax旋转；升降机构50，使升降环15升降；施力构件56，对夹紧杆12向处于关闭位置的方向施力；同步环61，设置成能够绕轴Ax转动且无法升降；转换机构62，将升降环15的升降转换为同步环61的转动，并且将升降环15的姿势维持为水平状态；以及供给部70，向基板W供给处理液。
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公开(公告)号：CN109585348B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN201811145205.3
申请日：2018-09-29
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/677
Abstract: 提供能够使生产性提高的基板处理装置以及基板处理方法。实施方式的基板处理装置具备：作为交接台发挥功能的缓冲单元(14)，具有分开地支承基板(W)的第1载置台(14a1)以及第2载置台(14a2)；以及作为输送部发挥功能的第2输送机器人(15)，具有保持基板(W)的手部(31)，从缓冲单元(14)输送基板(W)。缓冲单元(14)形成为能够实现：手部(31)从第1载置台(14a1)的上位置朝向下位置向下方向移动，将第1载置台(14a1)置于基板(W)，移动到第1载置台(14a1)的下位置的手部(31)从第1载置台(14a1)的下位置向第2载置台(14a2)的下位置横向移动，移动到第2载置台(14a2)的下位置的手部(31)从第2载置台(14a2)的下位置朝向上位置向上方向移动，从第2载置台(14a2)抬起基板(W)。
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公开(公告)号：CN107275258B
公开(公告)日：2020-09-29
申请号：CN201710200850.X
申请日：2017-03-30
Applicant: 芝浦机械电子株式会社
IPC: H01L21/67 , H01L21/677 , H01L21/68 , H01L21/66
Abstract: 提供能够抑制基板产生品质不良的基板处理装置。实施方式的基板处理装置(10)具有：保持基板的基板保持板(20)；处理液保持板(40)，具有排出处理液S的排出口(40a)，并设于与由基板保持板(20)保持的基板W的表面对置并离开的位置，在与由基板保持板(20)保持的基板W的表面之间保持从排出口(40a)排出的处理液S；加热器(41)，设于处理液保持板(40)，加热处理液保持板(40)；升降机构(60)，使处理液保持板(40)以及加热器(41)相对于由基板保持板(20)保持的基板升降；及疏液层(43)，以包围排出口(40a)的方式呈环状设置于处理液保持板(40)的基板W侧的表面，并排斥处理液S。
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