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公开(公告)号：CN1692952A
公开(公告)日：2005-11-09
申请号：CN200510013523.0
申请日：2005-05-18
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明的钛基生物医学材料的表面微孔钛的制备方法，涉及骨组织的修复与替换用的钛基生物医学材料，步骤包括(1)钛试样表面的预处理；(2)钛酸钾晶须的制备；(3)采用包埋烧结法制备表面微孔钛。本发明方法工艺简单，对设备的要求低，制备的表面微孔钛孔径均匀，经表面生物活化后，能够实现生物活性层与钛基体间的高度结合，解决钛基骨组织修复及替换材料在植入过程中出现的因涂层脱落而造成种植失败的问题。
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公开(公告)号：CN1676644A
公开(公告)日：2005-10-05
申请号：CN200510013360.6
申请日：2005-04-26
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明的一种陶瓷颗粒增强铝基复合材料及其制备方法，涉及一种铝基合金。它的组成是2.5～15％TiN、2.5～10％AlN、4～6.5％Si、0.5～1.5％Cu、0.3～0.5％Mg、0～0.8％Ni、0～0.5％Ti、其余为Al，其中百分数均为重量百分数；它的制备方法是采用熔体搅拌铸造法，总的工艺流程为，配料—熔化基体—加入增强颗粒—熔炼—变质处理—浇注—热处理，配料中增强颗粒尺寸在5～10μm范围内，熔化用真空炉的真空度为1.3～1.6×10－3Pa，温度在670～800℃之间，变质处理用的纳米孕育剂为用量为1～18g/Kg复合材料的含1～6％Na的纳米Al合金粉末；本发明方法所制得的陶瓷颗粒增强铝基复合材料重量轻、高模量、强度硬度高、耐热耐磨性好的综合机械性能好，制备成本低，工艺简单，可以实现产业化生产。
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公开(公告)号：CN115786918B
公开(公告)日：2024-10-15
申请号：CN202211451885.8
申请日：2022-11-21
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明为一种铜碱性化学机械抛光液。该抛光液的质量百分组成为二乙醇胺0.05‑1％、磨料3‑6％、季铵化合物0.1‑2％、铜强刻蚀剂8‑13％，余量为去离子水；抛光液pH值为7.5‑10；所述的抛光液还包括质量百分比0.01‑0.5％的黄原胶。本发明可以提高含有季铵碱的碱性的铜抛光液的pH值稳定性，防止磨料分层、凝胶、颗粒直径长大，降低抛光缺陷。
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公开(公告)号：CN118404423A
公开(公告)日：2024-07-30
申请号：CN202410587238.2
申请日：2024-05-13
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明涉及半导体加工领域，具体是一种用于半导体晶圆背面打磨的装置，包括水箱、打磨仓和加热风机，加热风机顶部固定连接于水箱底部，水箱顶部固定连接于打磨仓底部，打磨仓顶部安装有打磨系统，打磨仓底部安装有放置板，水箱一侧固定连通有循环液压仓，循环液压仓内安装有循环液压升降系统。循环液压升降系统包括升降板、液压升降管和液压缓冲管，液压升降管一端连通于升降板上方，液压缓冲管一端连通于升降板下方，液压升降管和液压缓冲管另一端均连通于水箱内，液压升降管内安装有液压升降泵，液压缓冲管内安装有液压缓冲泵。本发明结构简单，能有效提高晶圆打磨的效率，循环利用水资源。
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公开(公告)号：CN110885636B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201911104662.2
申请日：2019-11-13
Applicant: 河北工业大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石衬底抛光液，下列组分，按重量百分比计，SiO2粒径70～90nm的1～40％硅溶胶20～50％，LiOH0.1～6％，[C15H15‑190(CH2CH2O)5‑H)]、[C20H15‑190(CH2CH2O)5‑H]与[C4OH15‑190(CH2CH2O)5‑H]复合物聚氧乙烯醚、Oπ‑7[(C10H21‑C6H4‑O‑CH2CH2O)7‑H]、Oπ‑10[(C10H21‑C6H4‑O‑CH2CH2O)10‑H]与聚氧乙烯醚其中之一种1～5％与去离子水混合制得的碱性分散液体。本发明蓝宝石衬底抛光液具有去除速率快、蓝宝石衬底表面粗糙度低、成分简单、成本低、污染小的特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110813891B
公开(公告)日：2022-02-18
申请号：CN201911116905.4
申请日：2019-11-15
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明为一种用于铜CMP后清洗磨料颗粒的清洗液及清洗方法。该清洗液的组成包括活性剂、螯合剂、pH调节剂和去离子水；所述各组成所占清洗液的质量百分比为：活性剂0.01‑0.5％，螯合剂0.01‑0.05％，余量为去离子水；清洗液的pH值为9‑12；所述活性剂为阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂，二者质量比为阴离子表面活性剂和非离子表面活性剂＝1：1‑3；所述的阴离子表面活性剂具体为ADS；所述的非离子表面活性剂具体为AEO。本发明为实现铜CMP后复合活性剂的刷片机的高效率清洗、低成本清洗奠定了基础。
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公开(公告)号：CN110885636A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201911104662.2
申请日：2019-11-13
Applicant: 河北工业大学
IPC: C09G1/02
Abstract: 本发明公开了一种蓝宝石衬底抛光液，下列组分，按重量百分比计，SiO2粒径70～90nm的1～40％硅溶胶20～50％，LiOH0.1～6％，[C15H15-190(CH2CH2O)5-H)]、[C20H15-190(CH2CH2O)5-H]与[C4OH15-190(CH2CH2O)5-H]复合物聚氧乙烯醚、Oπ-7[(C10H21-C6H4-O-CH2CH2O)7-H]、Oπ-10[(C10H21-C6H4-O-CH2CH2O)10-H]与聚氧乙烯醚其中之一种1～5％与去离子水混合制得的碱性分散液体。本发明蓝宝石衬底抛光液具有去除速率快、蓝宝石衬底表面粗糙度低、成分简单、成本低、污染小的特点。
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公开(公告)号：CN106006848B
公开(公告)日：2019-04-12
申请号：CN201610399154.1
申请日：2016-06-06
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明蓝宝石晶体抛光废液的处理方法,涉及废水的处理，步骤是：设置电化学处理装置，主要包括一个化学处理槽、阳极、阴极和直流电源；调节蓝宝石晶体抛光废液的初始pH值为6～12；电化学处理，控制直流电源电压在10～40V范围内，电流在0.5A以上；后处理，收集得到的沉淀物用于制作硅酸盐材料，液体则重新应用于蓝宝石晶体抛光工艺。本发明方法克服了现有技术中存在的二次污染，运行周期长，处理成本高等缺点。
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公开(公告)号：CN106590530B
公开(公告)日：2018-07-13
申请号：CN201611157145.8
申请日：2016-12-15
Applicant: 河北工业大学
Abstract: 本发明涉及一种水溶性高分子包覆异型硅溶胶、制备方法及应用，该异型硅溶胶的原料重量百分比组成为：聚多元醇，0.01‑1wt%，分子量在200‑20000之间；水溶性高分子，0.01‑5wt%，分子量在10000‑500000之间；硅溶胶原料，5‑50wt%；余量为去离子水。该异型硅溶胶的物理结构为不规则异型，且由水溶性高分子包覆构成。采用该硅溶胶制成的抛光液，由于水溶性高分子（聚丙烯酰胺、聚丙烯酸钠、聚丙烯酸）的加入可在晶片表面形成保护膜，有效降低抛光过程中晶片表面的微缺陷，从而显著降低晶片表面粗糙度，同时能够保证较高的抛光去除速率。
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公开(公告)号：CN104449403B
公开(公告)日：2017-06-23
申请号：CN201410779195.4
申请日：2014-12-16
Applicant: 河北工业大学
IPC: H01L21/306
Abstract: 本发明涉及一种蓝宝石衬底材料的复合碱抛光液,其主要组成成分按重量％计，包括重量浓度2‑50wt％以及粒径15‑150nm的纳米SiO2水溶胶10‑50％、活性剂0.05‑1％，螯合剂0.1‑1％，pH调节剂0.1‑2％，pH调节剂为无机碱和有机碱的混合物构成复合碱。循环使用步骤为，抛光液流量100g/min‑300g/min，抛光压力0‑0.2MPa，抛光转速40‑60rpm，抛光温度30‑40℃。有益效果：抛光液采用复合碱的形式，无机碱的强碱性可有效提高抛光去除速率，有机碱通过不断释放羟基保障抛光液pH的稳定性，保障循环抛光过程中抛光液的化学作用,解决了抛光速率低、效率低的技术问题。
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