公开(公告)号：CN115786918B

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202211451885.8

申请日：2022-11-21

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 王如 ,  檀柏梅 ,  石芸慧 ,  王帅 ,  刘彬 ,  郑涛 ,  董延伟

IPC: C23F3/04 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明为一种铜碱性化学机械抛光液。该抛光液的质量百分组成为二乙醇胺0.05‑1％、磨料3‑6％、季铵化合物0.1‑2％、铜强刻蚀剂8‑13％，余量为去离子水；抛光液pH值为7.5‑10；所述的抛光液还包括质量百分比0.01‑0.5％的黄原胶。本发明可以提高含有季铵碱的碱性的铜抛光液的pH值稳定性，防止磨料分层、凝胶、颗粒直径长大，降低抛光缺陷。

公开(公告)号：CN115786918A

公开(公告)日：2023-03-14

申请号：CN202211451885.8

申请日：2022-11-21

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 王如 ,  檀柏梅 ,  石芸慧 ,  王帅 ,  刘彬 ,  郑涛 ,  董延伟

IPC: C23F3/04 ,  C09G1/02

Abstract: 本发明为一种铜碱性化学机械抛光液。该抛光液的质量百分组成为二乙醇胺0.05‑1％、磨料3‑6％、季铵化合物0.1‑2％、铜强刻蚀剂8‑13％，余量为去离子水；抛光液pH值为7.5‑10；所述的抛光液还包括质量百分比0.01‑0.5％的黄原胶。本发明可以提高含有季铵碱的碱性的铜抛光液的pH值稳定性，防止磨料分层、凝胶、颗粒直径长大，降低抛光缺陷。

公开(公告)号：CN116179085A

公开(公告)日：2023-05-30

申请号：CN202211568712.4

申请日：2022-12-08

Applicant: 河北工业大学

Inventor： 王如 ,  何彦刚 ,  牛新环 ,  王辰伟 ,  王帅 ,  刘彬 ,  郑涛 ,  董延伟

IPC: C09G1/02 ,  C11D1/88 ,  C11D3/33 ,  C11D3/04 ,  C11D3/12 ,  C11D3/32 ,  C11D3/28 ,  C11D3/22 ,  C11D3/34 ,  C11D3/60 ,  B08B3/08 ,  C23F11/14 ,  H01L21/306

Abstract: 本发明为一种硅通孔钽阻挡层碱性化学机械抛光液。该抛光液的组成包括纳米二氧化硅、钽的络合剂、组氨酸、月桂烷基二羟乙基氧化胺、过氧化氢、去离子水；抛光液pH值为8‑10；其中，各组分所占抛光液的质量百分比分比为：3‑6％的纳米二氧化硅、0.01‑1％的组氨酸与月桂烷基二羟乙基氧化胺复配物、0.5‑1％过氧化氢、1‑3％的钽的络合剂；质量比为，组氨酸：月桂烷基二羟乙基氧化胺＝5：1～10：1。本发明可以有效降低晶圆表面张力，消除晶圆的有机沾污，并且绿色环保，简化抛光液的制备工艺。